| ID prodotto | Formula | Purity | Dimensione | Quantity | Prezzo in € | Inchiesta |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 2200ST001 | Ti | 99.5% | Ø 63mm x 32mm | 1 | POR | Inquire |
| 2200ST002 | Ti | 99.5% | Ø 100mm x 40mm | 1 | POR | Inquire |
| 2200ST003 | Ti | 99.99% | Ø 50.8mm x 3.175mm | 1 | POR | Inquire |
| 2200ST004 | Ti | 99.99% | Ø 76.2mm x 3.175mm | 1 | POR | Inquire |
| 2200ST005 | Ti | 99.999% | Ø 50.8mm x 6.35mm | 1 | 461.00 | Inquire |
| 2200ST006 | Ti | 99.999% | Ø 76.2mm x 3.175mm | 1 | 367.00 | Inquire |
| 2200ST007 | Ti | 99.999% | Ø 76.2mm x 6.35mm | 1 | 467.00 | Inquire |
| 2200ST008 | Ti | 99.999% | Ø 101.6mm x 6.35mm | 1 | 594.00 | Inquire |
| 2200ST009 | Ti | 99.999% | Ø 203.2mm x 6.35mm | 1 | POR | Inquire |
I bersagli di sputtering in titanio sono bersagli metallici ad alta purezza ampiamente utilizzati nei processi di rivestimento a film sottile mediante deposizione fisica da vapore (PVD). Il titanio presenta un’eccellente resistenza alla corrosione, una forte adesione, un’elevata resistenza meccanica e una straordinaria stabilità chimica, che lo rendono un materiale ideale per i semiconduttori, i rivestimenti ottici, i rivestimenti decorativi e le applicazioni industriali avanzate.
VIMATERIAL fornisce bersagli di sputtering in titanio ad alta purezza con purezza fino al 99,999% (5N). I nostri bersagli sono prodotti mediante fusione sotto vuoto, lavorazione di precisione e rigorosi controlli di qualità per garantire un’eccellente densità, una microstruttura uniforme, un basso contenuto di impurità e prestazioni di sputtering stabili. Contattateci per ulteriori informazioni.
| Proprietà | Valore |
| Formula chimica | Ti |
| Numero atomico | 22 |
| Peso molecolare | 47,867 g/mol |
| Aspetto | Metallico bianco-argenteo |
| Purezza | 99,5%–99,999% |
| Densità | 4,506 g/cm³ |
| Punto di fusione | 1660 °C |
| Punto di ebollizione | 3287 °C |
| Struttura cristallina | Esagonale compatto (HCP) |
| Conducibilità termica | 21,9 W/m·K |
| Resistività elettrica | 42 nΩ·m |
VIMATERIAL produce bersagli di titanio per sputtering in un’ampia varietà di configurazioni.
Purezza
Forma
Piastra di supporto
Su richiesta sono disponibili dimensioni personalizzate e specifiche OEM.
Target in titanio puro
I target di sputtering in titanio puro offrono un’eccellente resistenza alla corrosione, un comportamento di sputtering stabile e un’elevata purezza del film. Sono ampiamente utilizzati per la metallizzazione dei semiconduttori, i rivestimenti ottici, i rivestimenti decorativi e la ricerca sui film sottili.
Target in lega di titanio
I target di sputtering inlegadi titanio combinano il titanio con elementi quali alluminio (TiAl), silicio (TiSi), tungsteno (TiW) o nichel per ottenere maggiore durezza, conduttività, resistenza all’ossidazione o resistenza all’usura per applicazioni specializzate con film sottili.
I bersagli di sputtering in titanio sono ampiamente utilizzati per il deposito di film sottili ad alte prestazioni in applicazioni relative a semiconduttori, ottica, rivestimenti decorativi e industriali.
Ogni bersaglio di sputtering in titanio viene sottoposto a rigorosi controlli di qualità prima della spedizione, al fine di garantire prestazioni di sputtering costanti e una deposizione affidabile del film sottile.
Gli elementi sottoposti a ispezione includono:
I certificati di analisi (COA) sono disponibili su richiesta.
I target di sputtering in titanio sono sigillati sottovuoto e imballati con materiale protettivo imbottito per prevenire la contaminazione e i danni meccanici durante il trasporto.
Conservare il prodotto in un ambiente pulito, asciutto e ben ventilato. Evitare l’esposizione all’umidità, alle sostanze chimiche corrosive e agli urti diretti prima dell’installazione.
D1. Qual è il grado di purezza dei bersagli di titanio per sputtering che offrite?
I gradi di purezza standard includono il 99,5%, il 99,99% e il 99,999%. Su richiesta, è possibile personalizzare gradi di purezza più elevati.
D2. È possibile realizzare dimensioni personalizzate?
Sì. Produciamo bersagli in base ai disegni o alle specifiche del cliente, inclusi diametro, spessore, forma e requisiti della piastra di supporto.
D3. Quali metodi di sputtering sono adatti?
I bersagli in titanio sono compatibili con lo sputtering a magnetrone in corrente continua (DC), lo sputtering a radiofrequenza (RF) e altri sistemi di rivestimento PVD.
D4. Sono disponibili bersagli in titanio incollati?
Sì. Offriamo target con supporto e senza supporto, con piastre di supporto in rame, acciaio inossidabile o personalizzate.
D5. Quali settori industriali utilizzano comunemente i target di titanio per sputtering?
I target di titanio per sputtering sono ampiamente utilizzati nella produzione di semiconduttori, nei rivestimenti ottici, nei rivestimenti decorativi, nell’energia solare, nei rivestimenti duri, nell’archiviazione dei dati e nella ricerca scientifica.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) impiega un rigoroso sistema di garanzia della qualità per assicurare l’affidabilità dei nostri prodotti. Il controllo di qualità è rigoroso in tutta la catena di produzione e per i prodotti difettosi applichiamo rigorosamente il principio della rilavorazione e del rifacimento. Ogni lotto viene rilasciato solo dopo aver superato dettagliati test sulle specifiche.
Ogni lotto dei nostri materiali viene testato in modo indipendente e, se necessario, inviamo campioni ad aziende certificate per i test. Forniamo questi documenti e i certificati di analisi con la spedizione per certificare che i nostri prodotti soddisfano gli standard richiesti.
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