| ID prodotto | Formula | Purity | Dimensione | Quantity | Prezzo in € | Inchiesta |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 730800ST001 | Ta2O5 | 99.95% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST002 | Ta2O5 | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST003 | Ta2O5 | 99.95% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST004 | Ta2O5 | 99.99% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST005 | Ta2O5 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST006 | Ta2O5 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST007 | Ta2O5 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST008 | Ta2O5 | 99.99% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST009 | Ta2O5 | 99.99% | Ø 203.2 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
Pentossido di tantalio Il bersaglio di sputtering in pentossido di tantalio è un materiale ceramico ad alte prestazioni ampiamente utilizzato per la deposizione di film sottili dielettrici, ottici e protettivi. Il Ta₂O₅ combina un’elevata costante dielettrica, un alto indice di rifrazione, un’eccellente stabilità chimica e una buona stabilità termica, rendendolo adatto ad applicazioni avanzate di deposizione di film sottili.
VIMATERIAL fornisce bersagli di sputtering in Ta₂O₅ ad alta purezza in varie dimensioni, forme e configurazioni per soddisfare le esigenze dei settori dei semiconduttori, dei rivestimenti ottici, dell’elettronica e di altre applicazioni con film sottili. Contattateci per ulteriori informazioni.
| Articolo | Specifiche |
| Nome del prodotto | Target di sputtering al pentossido di tantalio |
| Formula chimica | Ta₂O₅ |
| Peso molecolare | 441,89 g/mol |
| Purezza | 99,95% – 99,99% |
| Aspetto | Solido ceramico di colore da bianco a biancastro |
| Densità | Circa 8,2 g/cm³ |
| Punto di fusione | Circa 1872 °C |
| Indice di rifrazione | Circa 2,1 |
| Costante dielettrica | Circa 25–35 |
| Tipo di bersaglio | Planare / Rotativo / Personalizzato |
| Forma | Circolare / Rettangolare / Personalizzata |
| Incollaggio | Non incollato / Incollato alla piastra di supporto |
| Metodi di deposizione | DC / RF / Sputtering reattivo |
*Nota: la densità effettiva, la costante dielettrica, l’indice di rifrazione e altre proprietà possono variare a seconda della purezza del bersaglio, della microstruttura, delle condizioni di deposizione e del metodo di misurazione.
| Parametri del bersaglio | Contenuto consigliato |
| Purezza | 99,95% / 99,99% |
| Densità | ≥ densità teorica / valore effettivo |
| Forma | Circolare / Rettangolare / Su misura |
| Dimensioni | Su misura |
| Spessore | Su misura |
| Incollaggio | Indio / Elastomero / Senza incollaggio |
| Piastra di supporto | Cu / Mo / Acciaio inossidabile / Personalizzata |
| Deposizione per sputtering | RF / Reattivo |
| Confezionamento | Sottovuoto / Gas inerte / A prova di umidità |
| Tempi di consegna | Disponibile a magazzino / 2–4 settimane |
Per esigenze di deposizione particolari, è possibile concordare la composizione del bersaglio, la densità, le dimensioni e le specifiche di incollaggio in base all’attrezzatura di sputtering e ai parametri di processo del cliente.
I target di sputtering in ossido di tantalio vengono imballati con cura per proteggerli da umidità, contaminazione, danni meccanici e contaminazione superficiale durante il trasporto e lo stoccaggio.
I bersagli devono essere conservati in un ambiente pulito e asciutto e mantenuti nella loro confezione originale sigillata fino al momento dell’uso. Quando vengono forniti bersagli incollati, viene utilizzata una protezione aggiuntiva per evitare danni al bersaglio e alla piastra di supporto durante il trasporto.
R. Un bersaglio di sputtering in pentossido di tantalio è un bersaglio ceramico realizzato in pentossido di tantalio ad alta purezza e utilizzato come materiale di partenza per il deposito di film sottili di ossido di tantalio tramite sputtering.
I target di sputtering in ossido di tantalio sono utilizzati principalmente per rivestimenti ottici, film dielettrici ad alta costante dielettrica (high-k), condensatori, dispositivi a semiconduttori, componenti elettronici e film sottili funzionali.
Sì. I target Ta₂O₅ possono essere personalizzati in termini di purezza, dimensioni, forma, spessore, piastra di supporto e configurazione di incollaggio in base all’apparecchiatura di sputtering del cliente e ai requisiti tecnici.
Sì. Il Ta₂O₅ è ampiamente studiato e utilizzato come materiale dielettrico ad alta costante dielettrica (high-k) poiché la sua costante dielettrica è significativamente superiore a quella del SiO₂ convenzionale.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) impiega un rigoroso sistema di garanzia della qualità per assicurare l’affidabilità dei nostri prodotti. Il controllo di qualità è rigoroso in tutta la catena di produzione e per i prodotti difettosi applichiamo rigorosamente il principio della rilavorazione e del rifacimento. Ogni lotto viene rilasciato solo dopo aver superato dettagliati test sulle specifiche.
Ogni lotto dei nostri materiali viene testato in modo indipendente e, se necessario, inviamo campioni ad aziende certificate per i test. Forniamo questi documenti e i certificati di analisi con la spedizione per certificare che i nostri prodotti soddisfano gli standard richiesti.
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