Siliciuro di titanio

Siliciuro di titanio Il bersaglio sputtering TiSi2 è un bersaglio composto composto da titanio e silicio, utilizzato principalmente in semiconduttori, circuiti integrati e altri campi, attraverso il processo di sputtering per depositare il film sottile TiSi₂ utilizzato per ridurre la resistenza di contatto, migliorare le prestazioni del dispositivo e così via molti aspetti.

Forniamo bersagli di sputtering in titanio siliciuro TiSi2, VIMATERIAL può anche fornire un servizio di rilegatura del bersaglio, i nostri prodotti sono soggetti a personalizzazione e sperimentazione, vi preghiamo di contattarci se necessario.

Caratteristiche

Formula molecolare: TiSi₂

Peso molecolare: 104,04

Aspetto: Solitamente grigio o nero solido

Densità: circa 4,39 g/cm³.

Punto di fusione: circa 1540°C

Struttura cristallina: ha due strutture cristalline, C49 (fase a bassa temperatura) e C54 (fase ad alta temperatura), la struttura C49 è una fase substabile e la struttura C54 è una fase termodinamicamente stabile e può essere trasformata dalla fase C49 alla fase C54 con un adeguato trattamento a temperatura e la trasformazione di questa struttura cristallina ha un effetto importante sulle sue proprietà elettriche e di altro tipo.

Applicazioni

Campo dei semiconduttori: i bersagli sputtering TiSi2 in siliciuro di titanio vengono utilizzati nella produzione di semiconduttori per formare uno strato di siliciuro durante il processo di metallizzazione del chip, che riduce efficacemente la resistenza di contatto tra la sorgente, lo scarico e il silicio e migliora le prestazioni del chip.

Circuiti integrati: nei circuiti integrati, il film di TiSi₂ formato dallo sputtering del bersaglio può essere utilizzato come parte dei fili di interconnessione, il che migliora la conduttività del circuito e la velocità di trasmissione del segnale e migliora l’integrazione e l’efficienza operativa dei circuiti integrati.

Campo fotovoltaico: bersaglio sputtering in titanio siliciuro TiSi2 utilizzato nella preparazione di materiali per elettrodi per celle fotovoltaiche, può migliorare il contatto elettrico tra l’elettrodo e il materiale semiconduttore e migliorare l’efficienza di conversione fotoelettrica della cella.

Campo dei sistemi micro elettromeccanici (MEMS): nella fabbricazione di dispositivi MEMS, i film sottili spruzzati di TiSi₂ possono essere utilizzati come materiali strutturali o conduttivi per aiutare a costruire componenti meccanici ed elettronici di dimensioni micro e nanometriche, che supportano la miniaturizzazione e le alte prestazioni dei dispositivi MEMS.

Controllo qualità

I nostri prodotti sono soggetti a un rigoroso sistema di gestione della qualità. Esistono rigorosi standard di ispezione per i materiali in entrata, la lavorazione, l’ispezione finale e l’ispezione in fabbrica. Per la lavorazione non qualificata vengono adottate rigorose misure di isolamento per evitare che prodotti non qualificati fluiscano nel processo successivo. I campioni sono forniti per la ri-ispezione del cliente in base alle esigenze del cliente.

Imballaggio e stoccaggio

I bersagli sputtering in titanio siliciuro TiSi2 sono confezionati in sacchetti sottovuoto a doppio strato e quindi inscatolati e confezionati in cartoni all’esterno.

I bersagli sputtering TiSi₂ di titanio siliciuro devono essere conservati in un ambiente asciutto, pulito e ben ventilato con temperatura e umidità relativamente stabili, evitando umidità, ossidazione e collisione fisica, inquinamento e allo stesso tempo essere isolati da altre sostanze che possono avere una reazione chimica, al fine di evitare che le sue prestazioni e qualità vengano danneggiate.