Ossido di tellurio (IV)

Biossido di tellurio è un materiale ceramico per sputtering ad alta purezza progettato per la deposizione fisica da vapore (PVD) e lo sputtering magnetronico. Grazie al suo elevato indice di rifrazione, alla trasparenza ottica e alle eccellenti proprietà acusto-ottiche e ottiche non lineari, il TeO₂ è ampiamente utilizzato per rivestimenti ottici, dispositivi fotonici, guide d’onda, optoelettronica e ricerca avanzata sui film sottili.

VIMATERIAL fornisce bersagli di sputtering in TeO₂ ad alta purezza con purezze, dimensioni, forme e configurazioni di incollaggio personalizzate per soddisfare i requisiti dei diversi sistemi di sputtering e di deposizione di film sottili. Contattateci per ulteriori informazioni.

Caratteristiche

Vantaggi principali

• Elevate prestazioni ottiche: il TeO₂ offre un elevato indice di rifrazione e proprietà ottiche favorevoli, rendendolo adatto per strati ottici ad alto indice, guide d’onda e strutture fotoniche specializzate.
• Eccellente deposizione di film sottili: i targetin TeO₂ possono essere utilizzati nei processi di sputtering RF e magnetronico per produrre film sottili uniformi con spessore e composizione controllati. Le prestazioni di deposizione possono essere ottimizzate regolando la potenza di sputtering, la pressione di lavoro, la composizione del gas, la temperatura del substrato e la distanza tra il target e il substrato.
• Proprietà acusto-ottiche e ottiche non lineari: il TeO₂ è apprezzato per le sue spiccate caratteristiche acusto-ottiche e ottiche non lineari, che lo rendono adatto a modulazioni ottiche specializzate, all’elaborazione dei segnali e ad applicazioni fotoniche.
• Elevata purezza e personalizzazione: i bersagli di sputtering in TeO₂ad alta purezza contribuiscono a ridurre al minimo la contaminazione durante la deposizione e garantiscono un migliore controllo sulla composizione e sulle prestazioni del film. La purezza del bersaglio, le dimensioni, lo spessore, la configurazione di incollaggio e altre specifiche possono essere personalizzate in base alle esigenze del cliente.

Applicazioni dei target di sputtering in biossido di tellurio

• Rivestimenti ottici: i film sottilidi TeO₂ possono essere utilizzati come strati ad alto indice di rifrazione in rivestimenti ottici, strutture multistrato, rivestimenti interferenziali e altri componenti ottici.
• Guide d’onda fotoniche: i film di TeO₂depositati mediante sputtering sono adatti per guide d’onda ottiche e strutture fotoniche integrate in cui sono richiesti un elevato indice di rifrazione e proprietà ottiche controllate.
• Dispositivi acusto-ottici: il TeO₂ viene utilizzato in applicazioni acusto-ottiche quali modulatori ottici, deflettori e dispositivi di elaborazione dei segnali ottici grazie alle sue favorevoli proprietà acusto-ottiche.
• Optoelettronica: i film sottilidi TeO₂ possono essere incorporati in dispositivi e strutture optoelettroniche specializzate che richiedono proprietà ottiche e dielettriche controllate.
• Ottica non lineare: le proprietà ottiche non lineari del TeO₂ lo rendono adatto alla ricerca e allo sviluppo di dispositivi fotonici non lineari e di tecnologie di elaborazione dei segnali ottici.
• Sensori e ricerca:i film sottili di TeO₂ possono essere studiati per applicazioni di rilevamento ottico e chimico, nonché per ricerche avanzate nei campi dei film sottili, della fotonica e del PVD.

Considerazioni sullo sputtering

Il TeO₂ presenta una conduttività termica relativamente bassa; si raccomanda pertanto un raffreddamento adeguato e una potenza di sputtering controllata per ridurre al minimo il riscaldamento localizzato e lo stress termico. La velocità di deposizione dipende da parametri di processo quali la potenza di sputtering, la pressione di lavoro, la composizione del gas, la temperatura del substrato e la distanza tra il bersaglio e il substrato.

Manipolazione e conservazione

I target di sputtering in ossido di tellurio sono imballati in modo sicuro per ridurre al minimo il rischio di umidità, polvere, contaminazione e danni meccanici durante il trasporto e lo stoccaggio. Conservare i target in un ambiente ermeticamente sigillato, asciutto e pulito, preferibilmente nella loro confezione protettiva originale, e proteggerli dall’umidità e dalla contaminazione chimica.

Domande frequenti

D1. A cosa serve un bersaglio di sputtering in TeO₂?

I target di sputtering in TeO₂ vengono utilizzati principalmente per il deposito di film sottili di biossido di tellurio destinati a rivestimenti ottici, guide d’onda fotoniche, dispositivi acusto-ottici, optoelettronica, ottica non lineare e applicazioni con sensori specializzati.

D2. Quali gradi di purezza sono disponibili per i target di sputtering in TeO₂?

VIMATERIAL è in grado di fornire target di sputtering in TeO₂ con purezza del 99,99% e altri gradi di purezza personalizzati, a seconda dell’applicazione e dei requisiti di contaminazione.

D3. È possibile personalizzare i bersagli di sputtering in TeO₂?

Sì. I target in TeO₂ possono essere personalizzati in termini di purezza, dimensioni, spessore, forma, densità, configurazione di fissaggio e imballaggio per adattarsi a specifiche apparecchiature di sputtering e processi di deposizione.

Q4. Come devono essere conservati i target di sputtering in TeO₂?

I target di sputtering in ossido di tellurio devono essere conservati sigillati in un ambiente asciutto e pulito e protetti da umidità, polvere, contaminazione chimica e urti meccanici. L’imballaggio protettivo originale deve essere conservato fino al momento dell’utilizzo del materiale.