| ID prodotto | Formula | Purity | Dimensione | Quantity | Prezzo in € | Inchiesta |
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| 7400ST001 | W | 99.95% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST002 | W | 99.95% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST003 | W | 99.95% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST004 | W | 99.95% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST005 | W | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST006 | W | 99.95% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST007 | W | 99.95% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST008 | W | 99.95% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST009 | W | 99.95% | 214 mm x 56 mm x 12mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST010 | W | 99.95% | 764 mm x 131 mm x 14 mm | 1 | POR | Inquire |
Il target di sputtering di tungsteno è un tipo di metallo di tungsteno, in un ambiente ad alto vuoto dal bombardamento del flusso di ioni, gli atomi di superficie saranno sputati e depositati sulla superficie del substrato, in modo da formare un film sottile di materiali chiave, ampiamente utilizzati nei semiconduttori, nell’energia solare, nei display a schermo piatto e così via in molti campi high-tech.
VIMATERIAL offre obiettivi di sputtering in tungsteno di elevata purezza e può personalizzare diverse dimensioni per soddisfare le vostre esigenze. Contattateci per ulteriori informazioni.
Aspetto e colore: Grigio
Peso atomico: 183,85.
Punto di fusione: 3410℃ (6192℉).
Conduttività termica: 174W/m-K
Coefficiente di espansione termica: 4.5×10-⁶/K.
Densità teorica: 19,25g/cm³.
Purezza: Di solito 99,95% e oltre.
Eccellente stabilità alle alte temperature: Il tungsteno rimane strutturalmente stabile alle alte temperature ed è adatto agli ambienti di sputtering più esigenti.
Buona conducibilità termica: Trasferisce efficacemente il calore, contribuendo a mantenere l’uniformità della temperatura e la stabilità del processo durante lo sputtering.
Bassa espansione termica: Il tungsteno presenta variazioni dimensionali minime al variare della temperatura, garantendo un’elevata precisione e coerenza del rivestimento.
Conducibilità elettrica stabile: La sua bassa resistenza favorisce un flusso di corrente regolare e una formazione stabile del plasma, migliorando l’efficienza dello sputtering.
Il tungsteno ad alta purezza riduce gli effetti delle impurità, garantendo una deposizione più stabile e una migliore uniformità del film e delle prestazioni.
Elevate proprietà meccaniche； Ha un’elevata durezza e forza, con una buona resistenza all’usura e alla deformazione, che consente una lunga durata.
Buone prestazioni di sputtering e qualità del film: il tungsteno offre un comportamento di sputtering stabile, producendo film densi e uniformi con buona adesione e proprietà generali.
Campo dei semiconduttori
I target di sputtering al tungsteno sono utilizzati per formare elettrodi e interconnessioni nei chip grazie alla loro buona conduttività e all’elevata stabilità termica. Servono anche come strati di barriera alla diffusione, impedendo la commistione dei materiali e migliorando l’affidabilità dei dispositivi. Inoltre, il tungsteno è ampiamente utilizzato per il riempimento delle spine di tungsteno (W-plug) per ottenere connessioni elettriche verticali nei circuiti altamente integrati.
Campo dei display a schermo piatto
Il tungsteno viene utilizzato negli elettrodi dei transistor a film sottile (TFT), contribuendo a migliorare le prestazioni, la stabilità e la velocità di risposta dei display. Può anche essere utilizzato per formare film di ossido funzionali per strati conduttivi trasparenti in applicazioni di display e touch panel.
Campo dell’energia solare
Il tungsteno viene utilizzato negli elettrodi delle celle solari per migliorare la conduttività, la stabilità e l’efficienza complessiva. Può essere utilizzato anche nei rivestimenti antiriflesso per migliorare l’assorbimento della luce e ridurre le perdite ottiche.
Campo ottico
I film sottili di tungsteno sono utilizzati nei rivestimenti ottici come strati riflettenti, filtranti e protettivi. Viene anche applicato in componenti ottici a infrarossi, come finestre e lenti, grazie alle sue favorevoli proprietà ottiche a infrarossi.
Settore aerospaziale
I rivestimenti di tungsteno sono utilizzati su componenti ad alta temperatura come le parti dei motori per migliorare la resistenza al calore, all’usura e alla corrosione. Viene utilizzato anche nei componenti dei satelliti per il cablaggio, gli elettrodi e i rivestimenti per il controllo termico per garantire l’affidabilità negli ambienti spaziali.
Altri campi
Nelle applicazioni mediche, il tungsteno viene utilizzato nelle apparecchiature a raggi X e per la TAC grazie al suo forte assorbimento delle radiazioni. Nella lavorazione meccanica, i rivestimenti di tungsteno migliorano la durezza degli utensili, la resistenza all’usura e la durata.
Gli obiettivi di sputtering al tungsteno sono tipicamente imballati in materiali puliti, asciutti e sigillati sotto vuoto o a prova di umidità per evitare la contaminazione e l’ossidazione. L’imbottitura protettiva viene utilizzata per evitare danni meccanici come graffi, ammaccature o scheggiature dei bordi durante il trasporto e la movimentazione.
Devono essere conservati in un ambiente asciutto, pulito e ben ventilato, lontano da umidità, sostanze corrosive e contatto diretto con sostanze chimiche reattive.
D1: Che cos’è un materiale per bersagli di tungsteno?
R: Un materiale target di tungsteno è un solido di tungsteno di elevata purezza utilizzato come materiale di partenza nei processi di sputtering. Sotto bombardamento ionico, gli atomi del target di tungsteno vengono espulsi e depositati su un substrato per formare film sottili. Grazie alle sue eccellenti proprietà termiche, elettriche e meccaniche, il tungsteno è ampiamente utilizzato nei settori dei semiconduttori, dei display, del solare, dell’ottica e dell’aerospaziale.
D2: È possibile effettuare lo sputtering del tungsteno?
R: Sì, il tungsteno può essere sottoposto a sputtering utilizzando tecniche di deposizione fisica da vapore (PVD) come lo sputtering magnetronico. Sebbene il tungsteno abbia un punto di fusione elevato e un forte legame atomico, può essere depositato efficacemente in film sottili in condizioni di potenza di sputtering e di processo adeguate.
D3: Qual è la resa di sputtering del tungsteno?
R: La resa di sputtering del tungsteno è relativamente bassa rispetto a molti altri metalli. Ciò significa che per ogni ione in ingresso viene espulso un numero inferiore di atomi di tungsteno, principalmente a causa della sua elevata massa atomica e del forte legame atomico. L’esatta resa dipende da parametri di processo quali l’energia degli ioni, il gas di lavoro, la pressione e le condizioni del target.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) impiega un rigoroso sistema di garanzia della qualità per assicurare l’affidabilità dei nostri prodotti. Il controllo di qualità è rigoroso in tutta la catena di produzione e per i prodotti difettosi applichiamo rigorosamente il principio della rilavorazione e del rifacimento. Ogni lotto viene rilasciato solo dopo aver superato dettagliati test sulle specifiche.
Ogni lotto dei nostri materiali viene testato in modo indipendente e, se necessario, inviamo campioni ad aziende certificate per i test. Forniamo questi documenti e i certificati di analisi con la spedizione per certificare che i nostri prodotti soddisfano gli standard richiesti.
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