| ID du produit | Formule | Purity | Dimension | Quantity | Prix en € | Enquête |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 7400ST001 | W | 99.95% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST002 | W | 99.95% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST003 | W | 99.95% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST004 | W | 99.95% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST005 | W | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST006 | W | 99.95% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST007 | W | 99.95% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST008 | W | 99.95% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST009 | W | 99.95% | 214 mm x 56 mm x 12mm | 1 | POR | Inquire |
| 7400ST010 | W | 99.95% | 764 mm x 131 mm x 14 mm | 1 | POR | Inquire |
La cible de pulvérisation du tungstène est une sorte de métal de tungstène qui, dans un environnement de vide poussé, est bombardé par un faisceau d’ions. Les atomes de la surface sont pulvérisés et déposés sur la surface du substrat, de manière à former un film mince de matériaux clés, largement utilisés dans les semi-conducteurs, l’énergie solaire, les écrans plats, et ainsi de suite dans de nombreux domaines de haute technologie.
VIMATERIAL propose des cibles de pulvérisation en tungstène de haute pureté et peut personnaliser différentes tailles pour répondre à vos besoins. Contactez nous pour plus d’informations pour plus d’informations.
Aspect et couleur : Gris
Poids atomique : 183,85.
Point de fusion : 3410℃ (6192℉).
Conductivité thermique : 174W/m-K
Coefficient de dilatation thermique : 4.5×10-⁶/K.
Densité théorique : 19,25g/cm³.
Pureté : Généralement 99,95 % et plus.
Excellente stabilité à haute température : Le tungstène reste structurellement stable à haute température et convient aux environnements de pulvérisation exigeants.
Bonne conductivité thermique : Le tungstène transfère efficacement la chaleur, ce qui contribue à maintenir l’uniformité de la température et la stabilité du processus pendant la pulvérisation.
Faible dilatation thermique : Le tungstène présente un changement dimensionnel minimal en cas de variation de température, ce qui garantit une grande précision et l’homogénéité du revêtement.
Conductivité électrique stable : Sa faible résistance permet une circulation fluide du courant et une formation stable du plasma, améliorant ainsi l’efficacité de la pulvérisation.
Le tungstène de haute pureté réduit les effets des impuretés, ce qui permet un dépôt plus stable et une meilleure uniformité et performance du film.
De fortes propriétés mécaniques； Le tungstène présente une dureté et une résistance élevées, ainsi qu’une bonne résistance à l’usure et à la déformation, ce qui lui confère une longue durée de vie.
Bonne performance de pulvérisation et qualité de film： Le tungstène offre un comportement stable de pulvérisation, produisant des films denses et uniformes avec une bonne adhérence et des propriétés globales.
Secteur des semi-conducteurs
Les cibles de pulvérisation de tungstène sont utilisées pour former des électrodes et des interconnexions dans les puces en raison de leur bonne conductivité et de leur grande stabilité thermique. Elles servent également de barrière de diffusion, empêchant le mélange des matériaux et améliorant la fiabilité des dispositifs. En outre, le tungstène est largement utilisé pour le remplissage des fiches en tungstène (fiches W) afin d’obtenir des connexions électriques verticales dans les circuits hautement intégrés.
Domaine des écrans plats
Le tungstène est utilisé dans les électrodes des transistors à couche mince (TFT), ce qui permet d’améliorer les performances, la stabilité et la vitesse de réponse des écrans. Il peut également être utilisé pour former des films d’oxyde fonctionnels pour les couches conductrices transparentes dans les applications d’affichage et d’écrans tactiles.
Domaine de l’énergie solaire
Le tungstène est utilisé dans les électrodes des cellules solaires pour améliorer la conductivité, la stabilité et l’efficacité globale. Il peut également être utilisé dans les revêtements antireflets pour améliorer l’absorption de la lumière et réduire les pertes optiques.
Domaine de l’optique
Les couches minces de tungstène sont utilisées dans les revêtements optiques tels que les couches réfléchissantes, filtrantes et protectrices. Ils sont également utilisés dans les composants optiques infrarouges tels que les fenêtres et les lentilles en raison de leurs propriétés optiques infrarouges favorables.
Domaine aérospatial
Les revêtements de tungstène sont utilisés sur les composants à haute température tels que les pièces de moteur pour améliorer la résistance à la chaleur, à l’usure et à la corrosion. Ils sont également utilisés dans les composants de satellites pour le câblage, les électrodes et les revêtements de contrôle thermique afin de garantir la fiabilité dans les environnements spatiaux.
Autres domaines
Dans les applications médicales, le tungstène est utilisé dans les appareils de radiographie et de tomodensitométrie en raison de sa forte absorption des rayonnements. Dans l’usinage, les revêtements de tungstène améliorent la dureté de l’outil, la résistance à l’usure et la durée de vie.
Les cibles de pulvérisation du tungstène sont généralement emballées dans des matériaux propres, secs et scellés, sous vide ou à l’abri de l’humidité, afin d’éviter la contamination et l’oxydation. Un rembourrage protecteur est utilisé pour éviter les dommages mécaniques tels que les rayures, les bosses ou l’écaillage des bords pendant le transport et la manutention.
Ils doivent être stockés dans un environnement sec, propre et bien ventilé, à l’abri de l’humidité, des substances corrosives et du contact direct avec des produits chimiques réactifs.
Q1 : Qu’est-ce qu’une cible en tungstène ?
R : Un matériau cible en tungstène est un solide en tungstène de haute pureté utilisé comme matériau source dans les processus de pulvérisation. Sous bombardement ionique, les atomes de la cible de tungstène sont éjectés et déposés sur un substrat pour former des films minces. Grâce à ses excellentes propriétés thermiques, électriques et mécaniques, le tungstène est largement utilisé dans les domaines des semi-conducteurs, des écrans, de l’énergie solaire, de l’optique et de l’aérospatiale.
Q2 : Peut-on pulvériser du tungstène ?
R : Oui, le tungstène peut être pulvérisé à l’aide de techniques de dépôt physique en phase vapeur (PVD) telles que la pulvérisation magnétron. Bien que le tungstène ait un point de fusion élevé et une forte liaison atomique, il peut être efficacement déposé en couches minces dans des conditions de puissance de pulvérisation et de processus appropriées.
Q3 : Quel est le rendement de pulvérisation du tungstène ?
R : Le rendement de pulvérisation du tungstène est relativement faible par rapport à de nombreux autres métaux. Cela signifie que moins d’atomes de tungstène sont éjectés par ion entrant, ce qui est principalement dû à sa masse atomique élevée et à sa forte liaison atomique. Le rendement exact dépend des paramètres du processus tels que l’énergie des ions, le gaz de travail, la pression et les conditions de la cible.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) utilise un système d’assurance qualité rigoureux pour garantir la fiabilité de la qualité de ses produits. Un contrôle de qualité strict est mis en œuvre tout au long de la chaîne de production et, pour les produits défectueux, nous appliquons strictement le principe de la reprise et du remplacement. Chaque lot n’est libéré qu’après avoir passé des tests de spécification détaillés.
Chaque lot de nos matériaux est testé de manière indépendante et, si nécessaire, nous envoyons des échantillons à des entreprises certifiées pour qu’elles les testent. Nous fournissons ces documents et les certificats d’analyse avec l’envoi pour certifier que nos produits répondent aux normes requises.
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