| ID prodotto | Formula | Purity | Dimensione | Quantity | Prezzo in € | Inchiesta |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 140600ST001 | SiC | 99.5% | 299.6mm x 129mm x 5mm | 1 | POR | Inquire |
| 140600ST002 | SiC | 99.5% | Ø 25.4mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140600ST003 | SiC | 99.5% | Ø 25.4mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140600ST004 | SiC | 99.5% | Ø 50.8mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140600ST005 | SiC | 99.5% | Ø 50.8mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140600ST006 | SiC | 99.5% | Ø 76.2mm x 3.175mm | 1 | POR | Inquire |
| 140600ST007 | SiC | 99.5% | Ø 76.2mm x 6.35mm | 1 | POR | Inquire |
| 140600ST008 | SiC | 99.5% | Ø 101.6mm x 3.175 mm | 1 | 436.00 | Inquire |
Il carburo di silicio (SiC) è un materiale semiconduttore ad ampia banda proibita con durezza estremamente elevata, stabilità termica ed eccellente conduttività elettrica ed è ampiamente utilizzato in molti campi di fascia alta.
Durezza e resistenza all’usura: il SiC ha una durezza estremamente elevata, che gli consente di resistere all’impatto di particelle ad alta energia durante il processo di preparazione del film. Il materiale target deve avere una resistenza meccanica e all’usura sufficienti per garantire che non vi sia un’usura eccessiva o crepe durante l’uso a lungo termine. Stabilità termica: l’elevato punto di fusione e l’eccellente conduttività termica del SiC gli consentono di funzionare bene in ambienti ad alta temperatura. Questo è particolarmente adatto per applicazioni in dispositivi elettronici ad alta potenza e strati di pellicole ottiche. Le dimensioni e la forma del materiale target devono adattarsi al coefficiente di dilatazione ad alte temperature per garantire la stabilità durante il processo di preparazione e la qualità del film. Conducibilità elettrica e proprietà ottiche: la conducibilità elettrica del SiC lo rende particolarmente utilizzato nel campo dei semiconduttori e le sue proprietà trasparenti hanno anche importanti applicazioni nei rivestimenti ottici. Ciò richiede che il materiale target sia coerente nelle dimensioni e nella morfologia per garantire l’uniformità delle proprietà elettriche e ottiche del film. Le dimensioni e la forma dei bersagli sputtering in carburo di silicio hanno un impatto cruciale sulle caratteristiche di cui sopra, in particolare nei requisiti specifici per le dimensioni del bersaglio nei settori dei dispositivi a semiconduttore, dell’elettronica ad alta potenza, delle pellicole ottiche, ecc.
Le dimensioni e le forme comuni dei bersagli di sputtering in carburo di silicio includono bersagli rotondi, rettangolari e quadrati. Applicazioni diverse richiedono dimensioni e forme diverse:
Di solito, il diametro dei bersagli di sputtering in carburo di silicio varia da 50 mm a 400 mm e lo spessore varia generalmente da 5 mm a 20 mm. La dimensione standard dipende dalle specifiche dell’apparecchiatura di sputtering e dai requisiti di deposizione.
Bersagli circolari: La forma più comune, ampiamente utilizzata nel campo dei semiconduttori e dei rivestimenti ottici. Bersagli rettangolari: utilizzati per attrezzature speciali o produzioni personalizzate, in particolare per il rivestimento di grandi aree o i requisiti di dispositivi ad alta potenza. Bersagli quadrati: utilizzati principalmente per esperimenti specifici o per la preparazione di film sottili ad alta efficienza. Le dimensioni e la forma del bersaglio hanno un impatto significativo sull’uniformità della superficie del bersaglio, sull’efficienza dello sputtering e sulla qualità del film. Garantire la coerenza di questi standard dimensionali è la base per garantire le prestazioni del film e la stabilità dell’apparecchiatura.
Produzione di circuiti integrati: i bersagli in carburo di silicio svolgono un ruolo chiave nella produzione di circuiti integrati ad alte prestazioni. La sua elevata conduttività termica e stabilità chimica rendono il carburo di silicio un materiale di substrato ideale, che aiuta a migliorare le prestazioni e l’affidabilità dei circuiti integrati. Dispositivi di potenza: nei dispositivi elettronici di potenza, l’applicazione di bersagli sputtering in carburo di silicio può migliorare significativamente l’efficienza e la resistenza alla temperatura dei dispositivi. Le caratteristiche di ampia banda proibita del carburo di silicio gli consentono di esibire prestazioni eccellenti quando opera ad alte temperature, alte tensioni e alte frequenze, il che è particolarmente importante per i settori della conversione dell’energia, dell’automotive e dell’aviazione. Dispositivi RF: anche i bersagli sputtering in carburo di silicio svolgono un ruolo importante nella produzione di dispositivi RF. L’eccellente mobilità degli elettroni e la stabilità termica rendono il carburo di silicio un materiale ideale per la produzione di dispositivi RF ad alte prestazioni come amplificatori di potenza e filtri RF.
Celle solari: i bersagli sputtering in carburo di silicio mostrano un grande potenziale nella produzione di celle solari ad alta efficienza. Non solo può migliorare l’efficienza di conversione delle celle solari, ma anche migliorare la durata e la stabilità delle celle in ambienti estremi. Celle solari a film sottile: l’applicazione del carburo di silicio è stata estesa anche alla produzione di celle solari a film sottile. Può essere utilizzato come strato tampone o strato finestra per celle solari a film sottile per migliorare le prestazioni della cella complessiva.
Applicazioni ottiche: i bersagli sputtering in carburo di silicio sono ampiamente utilizzati nella produzione di componenti ottici ad alte prestazioni grazie al loro elevato indice di rifrazione e resistenza all’usura. Questi componenti sono ampiamente utilizzati negli strumenti di misura aerospaziali, militari e di alta precisione. Militare e aerospaziale: l’elevata resistenza e la resistenza alle alte temperature del carburo di silicio lo rendono utilizzato nella produzione di componenti strutturali resistenti alle alte temperature e sistemi di protezione termica in campo militare e aerospaziale. Materiali ceramici avanzati: l’elevata durezza e resistenza all’usura dei bersagli sputtering in carburo di silicio li rendono ideali per la produzione di materiali ceramici avanzati, che hanno importanti applicazioni nei settori industriale, automobilistico ed energetico. I bersagli di sputtering in carburo di silicio hanno in genere un diametro compreso tra 50 mm e 400 mm e gli spessori variano generalmente da 5 mm a 20 mm. Le dimensioni standard dipendono dalle specifiche dell’attrezzatura di sputtering e dai requisiti di deposizione.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) impiega un rigoroso sistema di garanzia della qualità per assicurare l’affidabilità dei nostri prodotti. Il controllo di qualità è rigoroso in tutta la catena di produzione e per i prodotti difettosi applichiamo rigorosamente il principio della rilavorazione e del rifacimento. Ogni lotto viene rilasciato solo dopo aver superato dettagliati test sulle specifiche.
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