Indium métal

Les cibles de pulvérisation d’indium sont principalement composées d’indium
métallique
d’une très grande pureté, généralement utilisé pour la fabrication de composants essentiels dans divers appareils électroniques.

VIMATERIAL est spécialisée dans la production de feuilles et de bandes d’indium, de fils d’indium, de billes d’indium, de bandelettes d’indium, de cibles d’indium, de poudre d’indium et d’autres produits à base d’indium. Nous proposons des services de transformation à partir de matériaux fournis par le client et disposons d’un stock de produits disponibles toute l’année. Contactez-nous
pour plus d’informations.

Propriétés

Formule moléculaire : In

Masse molaire : 114,8 g/mol

Aspect : blanc argenté

Densité : 7,31 g/cm³ à 25 °C

Point de fusion : 156,6 °C

Point d’ébullition : 2 080 °C

Coefficient de dilatation thermique (CTE) : (25 °C) 32,1 µm·m⁻¹·K^⁻¹
Conductivité thermique : 0,818 W/cm·K à 298,2 K

Résistivité : 8,37 Ω·m à 20 °C

Quelles sont les applications des cibles de pulvérisation d’indium ?

Domaine de l’électronique et des semi-conducteurs : l’indium et ses composés, tels que l’InGaAs, sont utilisés pour fabriquer des dispositifs électroniques à semi-conducteurs, avec des vitesses de transport d’électrons plusieurs fois supérieures à celles du silicium. Les cibles de pulvérisation d’indium sont également utilisées dans la production de dispositifs tels que les transistors à effet de champ métal-oxyde-semi-conducteur (MOSFET), les transistors à effet de champ métal-semi-conducteur (MESFET) et les transistors à haute mobilité électronique (HEMT).

Optoélectronique et écrans LCD : l’indium est utilisé pour produire des cibles ITO destinées aux écrans à cristaux liquides (LCD) et aux écrans plats, ce qui constitue le principal domaine de consommation mondiale d’indium. Les cibles en alliage indium-étain sont utilisées dans la pulvérisation réactive en courant continu pour créer des films minces ITO, qui sont employés dans les revêtements conducteurs transparents pour les dispositifs électroniques tels que les écrans plats et les écrans tactiles.

Alliages à bas point de fusion et alliages pour roulements : le faible point de fusion de l’indium en fait un composant important des alliages à bas point de fusion, couramment utilisés dans le soudage à basse température, les capteurs de température et les thermistances. Les cibles de pulvérisation d’indium sont également utilisées dans la production d’alliages pour roulements.

Matériaux magnétiques et optiques : La cible d’indium est utilisée dans la production de matériaux magnétiques, tels que les cibles en alliage TbFeCo nécessaires aux disques magnéto-optiques. De plus, l’indium trouve des applications dans les matériaux optiques, où il est utilisé pour fabriquer des lentilles optiques et des fenêtres pour les systèmes optiques infrarouges et les lasers.

Contrôle qualité

Nos produits sont soumis au système de gestion de la qualité le plus rigoureux. Des normes d’inspection strictes s’appliquent aux matières premières entrantes, aux processus, aux contrôles finaux et aux inspections en usine. Des mesures d’isolation strictes seront adoptées pour les traitements non conformes afin d’empêcher que des produits non conformes ne passent à l’étape suivante. Des échantillons seront fournis aux clients conformément à leurs exigences pour une réinspection.

Emballage et stockage

Emballage sous vide ; la quantité d’emballage peut être fournie selon les exigences du client et emballée séparément.

Les cibles de pulvérisation d’indium doivent être scellées et stockées dans un environnement frais et sec afin d’éviter toute réaction avec l’humidité et l’oxygène présents dans l’air.

FAQ

Q1 : À quoi sert une cible de pulvérisation d’indium ?
R : Les cibles d’indium sont utilisées dans l’électronique et les semi-conducteurs (par exemple, les MOSFET, les HEMT), l’optoélectronique et les écrans LCD pour les films minces d’ITO, les alliages à bas point de fusion et les alliages pour roulements, ainsi que dans les matériaux magnétiques et optiques tels que les disques magnétiques et les lentilles infrarouges.

Q2 : Qu’est-ce que le collage de cibles d’indium ?
R : Le pulvérisation d’indium désigne le processus consistant à utiliser de l’indium (In) ou ses alliages comme soudure dans le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et d’autres procédés afin de lier solidement la cible de pulvérisation à une plaque de support (généralement un métal tel que le cuivre ou le molybdène). Cette technologie est principalement utilisée pour améliorer la conductivité thermique, la stabilité mécanique et la durée de vie de la cible de pulvérisation, et convient particulièrement aux cibles de pulvérisation fragiles, coûteuses ou à haute puissance.

Q3 : Les cibles de pulvérisation d’indium peuvent-elles être personnalisées ?
R : Oui, les cibles de pulvérisation d’indium peuvent être entièrement personnalisées pour répondre aux exigences spécifiques de chaque application. Nous proposons des solutions sur mesure en termes de niveaux de pureté, de dimensions et de formes afin de s’adapter aux différents procédés et équipements de dépôt. Que vous ayez besoin de disques standard, de cibles rectangulaires ou de géométries spéciales, notre équipe peut les fabriquer selon vos plans techniques et vos spécifications. Cela garantit des performances, une compatibilité et une efficacité optimales pour votre application particulière.

Q4 : Quel est le délai de production ?
A : En stock : expédition immédiate

Produits standard : généralement 2 à 4 semaines

Produits personnalisés : déterminé en fonction des détails requis

Les exigences particulières peuvent être discutées