L’obiettivo di sputtering dell’ossido di olmio è un tipo di materiale chiave utilizzato nello sputtering del magnetron e in altre tecnologie di rivestimento, che è fatto di ossido di olmio come ingrediente principale attraverso una speciale tecnologia di lavorazione per depositare il film sottile di ossido di olmio sul substrato ed è ampiamente utilizzato nei campi dell’ottica, dell’elettronica, della nuova energia e di altri materiali chiave.
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Formula molecolare: Ho₂O₃
Peso molecolare: circa 377,86 g/mol
Aspetto: ceramica grumosa da giallo chiaro a marrone giallastro con superficie liscia e densa.
Densità: 8,36 g/cm³ a temperatura ambiente, materiale ceramico ad alta densità.
Punto di fusione: circa 2415°C
Punto di ebollizione: circa 3900°C, la volatilizzazione allo stato liquido ad alta temperatura è lenta.
Struttura cristallina: struttura cubica del tipo Sc₂O₃ (struttura difettosa della fluorite) a temperatura ambiente, gruppo spaziale Ia3, costante reticolare circa 1,06 nm.
Stabilità chimica: a temperatura e pressione normali, ha una buona stabilità chimica e non è facile reagire con l’ossigeno e l’umidità nell’aria.
Buona formazione del film: nel processo di sputtering, si può formare un film uniforme e denso, dovuto alla buona adesione e coesione degli atomi di ossido di olmio dopo lo sputtering, e può formare rapidamente una struttura del film stabile sulla superficie del substrato. Questa buona formazione del film è molto importante per la preparazione di dispositivi a film sottile di alta qualità per l’ottica e l’elettronica.
Materiali laser: può essere utilizzato come drogante per materiali laser per la fabbricazione di laser a stato solido. Sputtering di un sottile film di ossido di olmio, è possibile formare uno strato di drogante uniforme su un materiale di substrato come un cristallo laser o un vetro, migliorando così le prestazioni e l’efficienza del laser.
Rivestimenti ottici: rivestimenti utilizzati per lenti ottiche, finestre ottiche e altri componenti ottici per migliorarne le proprietà ottiche.
Archiviazione ottica: i bersagli sputtering di ossido di olmio vengono utilizzati per preparare supporti di memorizzazione ottica nel campo della memorizzazione ottica.
Produzione di semiconduttori: i bersagli sputtering di ossido di olmio vengono utilizzati per preparare strutture a film sottile per dispositivi a semiconduttore durante la produzione di semiconduttori.
Ogni lotto di prodotti è soggetto a un rigoroso sistema di controllo della qualità, che viene gestito attraverso l’intero processo dalla ricerca e sviluppo, alla produzione al trasporto e al servizio clienti, e segue rigorosamente l’8D procedura di risoluzione dei problemi per indagare le deviazioni e rispettare pienamente i requisiti dell’Unione Europea, garantendo la fornitura di prodotti e servizi di alta qualità.
I prodotti sono confezionati sottovuoto e protetti da apposite scatole durante il trasporto per garantire un trasporto sicuro.
I bersagli all’ossido di olmio devono essere sigillati e conservati in un ambiente asciutto e fresco, evitando il contatto con aria, umidità e sostanze corrosive, con la temperatura controllata a temperatura ambiente e l’umidità ≤ il 40% di umidità relativa per prevenire il deterioramento ossidativo.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) impiega un rigoroso sistema di garanzia della qualità per assicurare l’affidabilità dei nostri prodotti. Il controllo di qualità è rigoroso in tutta la catena di produzione e per i prodotti difettosi applichiamo rigorosamente il principio della rilavorazione e del rifacimento. Ogni lotto viene rilasciato solo dopo aver superato dettagliati test sulle specifiche.
Ogni lotto dei nostri materiali viene testato in modo indipendente e, se necessario, inviamo campioni ad aziende certificate per i test. Forniamo questi documenti e i certificati di analisi con la spedizione per certificare che i nostri prodotti soddisfano gli standard richiesti.
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