Diossido del silicone

I bersagli per lo sputtering del biossido di silicio, il cui componente di base è il biossido di silicio (SiO₂), sono utilizzati nei semiconduttori, nella deposizione chimica da vapore (CVD) e nella deposizione fisica da vapore (PVD) e nelle applicazioni ottiche. VIMATERIAL è in grado di fornire target di sputtering in silice di diverse forme: dischi, piastre piane, target a pilastri, target a gradino,…

Purezza dei bersagli di sputtering del biossido di silicio

La purezza di un bersaglio di sputtering di silice determina direttamente l’applicazione finale e il prezzo del materiale. I materiali a base di biossido di silicio con diversi livelli di purezza hanno requisiti diversi per i processi di produzione e purificazione. Purezza del 99,9%: solitamente utilizzato per rivestimenti ottici di base o applicazioni di visualizzazione di fascia bassa con requisiti bassi. Purezza del 99,99%: soddisfa alcune esigenze di produzione di semiconduttori e rivestimenti ottici ed è significativamente più costoso dei materiali di purezza del 99,9%. Purezza del 99,999%: adatto per applicazioni di semiconduttori e optoelettronici ad alta precisione, il suo costo di produzione è molto elevato, perché il controllo delle impurità nel processo di produzione è estremamente rigoroso, l’ambiente di produzione e i requisiti delle apparecchiature sono elevati.

Processo di produzione dei bersagli di biossido di silicio

La produzione di target di ossido di silicio comprende la metallurgia delle polveri, la sinterizzazione a caldo, la pressatura isostatica a caldo (HIP) e altri processi. Questi processi determinano la densità strutturale, la porosità e l’effetto di formazione del film del bersaglio, che influisce direttamente sulla qualità e sul prezzo del bersaglio. Metallurgia delle polveri: è il processo di base, utilizzato per la produzione di bersagli convenzionali. Sinterizzazione a caldo: Utilizzato per la produzione di bersagli di purezza più elevata, che migliora la densità e la resistenza del materiale. Pressatura isostatica a caldo (HIP): il processo più complesso, che migliora significativamente la densità e l’uniformità del target per applicazioni industriali impegnative.

Applicazione dei bersagli sputtering del biossido di silicio

Produzione di semiconduttori: I bersagli sputtering del biossido di silicio hanno importanti applicazioni nella produzione di semiconduttori e sono comunemente utilizzati nella produzione di dispositivi a semiconduttore come circuiti integrati e celle solari. La sua elevata purezza e le buone proprietà di isolamento elettrico lo rendono un materiale ideale per la preparazione di strati isolanti per dispositivi elettronici e optoelettronici. Applicazioni ottiche: Il biossido di silicio è anche ampiamente utilizzato in campo ottico. Grazie alla sua buona trasparenza ottica, i bersagli di silice sono adatti per la preparazione di strati antiriflesso e protettivi per componenti ottici e sono particolarmente adatti nelle regioni visibili e in alcune regioni UV. Produzione di display: Nella produzione di display, i bersagli sputtering con biossido di silicio sono utilizzati nella deposizione fisica da vapore (PVD) e nella deposizione chimica da vapore (CVD) per la produzione di pellicole e rivestimenti di alta qualità. Altre applicazioni: Inoltre, i bersagli di silice vengono utilizzati per preparare rivestimenti antiriflesso, principalmente per pannelli solari e schermi piatti. La loro resistenza al calore e alla corrosione li rende stabili in una varietà di ambienti difficili, migliorando l’affidabilità e la durata dell’apparecchiatura.

Pacchetto di bersaglio sputtering di biossido di silicio

Imballaggio sottovuoto interno, imballaggio esterno in cartone/cassa di legno.