| ID du produit | Formule | Purity | Dimension | Quantity | Prix en € | Enquête |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 730800ST001 | Ta2O5 | 99.95% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST002 | Ta2O5 | 99.95% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST003 | Ta2O5 | 99.95% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST004 | Ta2O5 | 99.99% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST005 | Ta2O5 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST006 | Ta2O5 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST007 | Ta2O5 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST008 | Ta2O5 | 99.99% | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 730800ST009 | Ta2O5 | 99.99% | Ø 203.2 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
Pentoxyde de tantale La cible de pulvérisation est un matériau céramique haute performance largement utilisé pour le dépôt de films minces diélectriques, optiques et protecteurs. Le Ta₂O₅ allie une constante diélectrique élevée, un indice de réfraction élevé, une excellente stabilité chimique et une bonne stabilité thermique, ce qui le rend adapté aux applications avancées de dépôt de films minces.
VIMATERIAL fournit des cibles de pulvérisation en Ta₂O₅ de haute pureté, disponibles en différentes tailles, formes et configurations, afin de répondre aux exigences des secteurs des semi-conducteurs, des revêtements optiques, de l’électronique et d’autres applications de couches minces. Contactez-nous pour plus d’informations.
| Référence | Caractéristiques |
| Nom du produit | Cible de pulvérisation en pentoxyde de tantale |
| Formule chimique | Ta₂O₅ |
| Masse moléculaire | 441,89 g/mol |
| Pureté | 99,95 % – 99,99 % |
| Aspect | Solide céramique blanc à blanc cassé |
| Densité | Environ 8,2 g/cm³ |
| Point de fusion | Environ 1 872 °C |
| Indice de réfraction | Environ 2,1 |
| Constante diélectrique | Environ 25–35 |
| Type de cible | Plan / Rotatif / Sur mesure |
| Forme | Circulaire / Rectangulaire / Sur mesure |
| Fixation | Non collé / Collé sur une plaque de support |
| Méthodes de dépôt | CC / RF / Pulvérisation réactive |
*Remarque : la densité, la constante diélectrique, l’indice de réfraction et d’autres propriétés réels peuvent varier en fonction de la pureté de la cible, de sa microstructure, des conditions de dépôt et de la méthode de mesure.
| Paramètres de la cible | Teneur recommandée |
| Pureté | 99,95 % / 99,99 % |
| Densité | ≥ densité théorique / valeur réelle |
| Forme | Circulaire / Rectangulaire / Sur mesure |
| Dimensions | Sur mesure |
| Épaisseur | Sur mesure |
| Liaison | Indium / Élastomère / Non collé |
| Plaque de support | Cu / Mo / Acier inoxydable / Sur mesure |
| Dépôt par pulvérisation | RF / Réactif |
| Conditionnement | Sous vide / Gaz inerte / Étanche à l’humidité |
| Délai de livraison | En stock / 2 à 4 semaines |
Pour les exigences particulières en matière de dépôt, la composition, la densité, les dimensions et les spécifications de liaison de la cible peuvent être discutées en fonction de l’équipement de pulvérisation cathodique et des paramètres de processus du client.
Les cibles de pulvérisation en oxyde de tantale sont soigneusement emballées afin de les protéger de l’humidité, de la contamination, des dommages mécaniques et de la contamination de surface pendant le transport et le stockage.
Les cibles doivent être stockées dans un environnement propre et sec, et conservées dans leur emballage d’origine scellé jusqu’à leur utilisation. Lorsque des cibles collées sont fournies, une protection supplémentaire est mise en place pour éviter tout dommage à la cible et à la plaque de support pendant le transport.
R Une cible de pulvérisation en pentoxyde de tantale est une cible céramique fabriquée à partir de pentoxyde de tantale de haute pureté et utilisée comme matériau de départ pour le dépôt de films minces d’oxyde de tantale par pulvérisation.
Les cibles de pulvérisation d’oxyde de tantale sont principalement utilisées pour les revêtements optiques, les films diélectriques à constante diélectrique élevée (high-k), les condensateurs, les dispositifs à semi-conducteurs, les composants électroniques et les films minces fonctionnels.
Oui. Les cibles Ta₂O₅ peuvent être personnalisées en termes de pureté, de dimensions, de forme, d’épaisseur, de plaque de support et de configuration de fixation, en fonction de l’équipement de pulvérisation et des exigences techniques du client.
Oui. Le Ta₂O₅ fait l’objet de nombreuses études et est largement utilisé comme matériau diélectrique à constante diélectrique élevée (high-k), car sa constante diélectrique est nettement supérieure à celle du SiO₂ conventionnel.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) utilise un système d’assurance qualité rigoureux pour garantir la fiabilité de la qualité de ses produits. Un contrôle de qualité strict est mis en œuvre tout au long de la chaîne de production et, pour les produits défectueux, nous appliquons strictement le principe de la reprise et du remplacement. Chaque lot n’est libéré qu’après avoir passé des tests de spécification détaillés.
Chaque lot de nos matériaux est testé de manière indépendante et, si nécessaire, nous envoyons des échantillons à des entreprises certifiées pour qu’elles les testent. Nous fournissons ces documents et les certificats d’analyse avec l’envoi pour certifier que nos produits répondent aux normes requises.
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