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Chemical Name:
Hafnium-Oxid
Formula:
HfO2
Product No.:
720800
CAS No.:
12055-23-1
EINECS No.:
235-013-2
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Produkt-ID Formel Purity Dimension Quantity Preis in € Anfrage
720800ST001 HfO2 99.95% (Zr< 0.5wt%) Ø 76.2 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
720800ST002 HfO2 99.95% (Zr< 0.5wt%) Ø 76.2 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
720800ST003 HfO2 99.95% (Zr< 0.5wt%) Ø 101.6 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
Produkt-ID
720800ST001
Formel
HfO2
Purity
99.95% (Zr< 0.5wt%)
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
720800ST002
Formel
HfO2
Purity
99.95% (Zr< 0.5wt%)
Dimension
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
720800ST003
Formel
HfO2
Purity
99.95% (Zr< 0.5wt%)
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Preis in €
POR

Hafniumoxid sputtertargets (HfO2) sind Hochleistungs-Vakuumbeschichtungsmaterialien. Unter Verwendung von hochreinem Hafniumoxid als Rohmaterial werden dünne Schichten durch physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) in verschiedenen Vakuumbeschichtungsszenarien hergestellt. Diese Schichten sind Schlüsselmaterialien in vielen High-Tech-Bereichen wie Halbleitern, Optik und Elektronik und haben ein breites Anwendungsspektrum.

Unser hochreines Hafniumoxid kann in Größe und Form (planare, rechteckige und unregelmäßig geformte Targets) je nach Bedarf angepasst werden. Die Vakuumverpackung gewährleistet die Produktstabilität. Kontaktieren Sie uns für weitere Informationen.

Eigenschaften von Hafniumoxid-Sputter-Targets

Reinheit: In der Regel ≥99,95%, um eine stabile Schichtqualität zu gewährleisten.

Dichte: Theoretische Dichte ~9,68 g/cm³; die tatsächlichen Zielwerte sollten ≥90% dieses Wertes betragen.

Härte: Hoch (Mohs ~6,5), bietet gute Verschleißfestigkeit und lange Lebensdauer.

Wärmeleitfähigkeit: Niedrig (~3-5 W/m-K), was eine effektive Kühlung während des Sputterns erfordert.

Schmelzpunkt: Sehr hoch (~2810°C), ermöglicht den Betrieb unter hohen ენერგy Bedingungen.

Korngröße: Normalerweise 1-10 μm; feinere Körner verbessern die Gleichmäßigkeit und Dichte des Films.

Kristallstruktur: Umfasst monokline, tetragonale und kubische Phasen; die Auswahl hängt von der Anwendung ab.

Anwendungen von Sputtertargets aus Hafniumoxid

Bereich Halbleiter

  • Kondensatoren & Optoelektronik: Hohe Dielektrizitätskonstante und gute Isolierung verbessern Energiespeicherung, fotoelektrische Effizienz und Signalgeschwindigkeit.
  • Feldeffekttransistoren (FETs): Eine hohe Durchschlagsfestigkeit verbessert die Schaltgeschwindigkeit und die Stabilität der Geräte (z. B. MOSFETs).
  • Gate-Oxide (CMOS): Geringe Leckage, hohe Zuverlässigkeit und gute Ladungsträgerbeweglichkeit tragen zur Verbesserung der Chipleistung und Integration bei.

Optisches Feld

  • Optische Beschichtungen: Hoher Brechungsindex und geringer Verlust verbessern die Lichtdurchlässigkeit und Abbildungsqualität (z. B. Linsen, Spiegel, Fasern).
  • Laser-Komponenten: Einsatz in Laserspiegeln und -fenstern aufgrund der hohen thermischen Stabilität und Beständigkeit gegen energiereiche Strahlung.

Supraleitende Materialien

  • Verwendung in Hochtemperatur-Supraleitern (z. B. Hf-basierte Systeme), die in Magnetschwebebahnen, fortschrittlichen Computern und MRT eingesetzt werden.

Andere Anwendungen

  • Verschleißbeständige Beschichtungen: Verbessert die Haltbarkeit von mechanischen Teilen und Schneidwerkzeugen.
  • Dekorative Beschichtungen: Verbessert das Aussehen und den Wert durch spezielle optische Effekte.

Verpackung und Lagerung

Verpackung:

Hafniumoxid-Targets werden vakuumversiegelt, in einen antistatischen Plastikbeutel gelegt, mit Schaumstoff gepolstert und schließlich in einen stabilen, sauberen Karton oder eine Holzkiste gelegt. Materialqualität, Reinheit, Größe und Chargennummer sind deutlich gekennzeichnet, um Rückverfolgbarkeit und Qualitätskontrolle zu gewährleisten.

Lagerung:

Hafniumoxid-Targets sollten in einer sauberen, trockenen und temperaturstabilen Umgebung gelagert werden, um ihre Leistung zu erhalten. Es wird empfohlen, sie bis zur Verwendung in der versiegelten Originalverpackung aufzubewahren und sie von Feuchtigkeit, Staub und korrosiven Substanzen fernzuhalten. Vermeiden Sie den direkten Kontakt mit bloßen Händen, um Verunreinigungen zu vermeiden; tragen Sie bei der Handhabung Handschuhe oder sauberes Werkzeug.

FAQs

Q1: Was ist Hafniumoxid??

A: Hafniumoxid (HfO₂) ist eine anorganische Verbindung, die aus Hafnium und Sauerstoff besteht. Es ist ein wichtiges funktionelles Material, das zur Familie der Übergangsmetalloxide gehört. Es besitzt einen hohen Schmelzpunkt (ca. 2810℃), eine hohe Härte (Mohs-Härte 6,5-7,5) und eine ausgezeichnete chemische Stabilität, da es in Wasser und den meisten Säuren (außer Flusssäure) bei Raumtemperatur praktisch unlöslich ist. Diese Eigenschaften machen es zu einem wichtigen Werkstoff für Hochtemperaturmaterialien, optische Beschichtungen und elektronische Geräte.

F2: Wofür wird Hafniumoxid verwendet?

A: Hafniumoxid (HfO₂) ist eine wichtige anorganische Verbindung. Aufgrund seines hohen Absorptionsquerschnitts für thermische Neutronen ist es ein Schlüsselmaterial für Kontrollstäbe von Kernreaktoren und findet außerdem breite Anwendung in Halbleitern, Optik und modernen Speichertechnologien.

Kernenergie und Hochtemperaturtechnik: Kernreaktor-Steuerstäbe und Schutzmaterialien, Hochtemperatur-Feuerfest- und Beschichtungsmaterialien, Hafnium-Metallzubereitung und -Vorstufen.

Halbleiter und Mikroelektronik: Dielektrische Schichten für Transistorgates, Speicheranwendungen, andere elektronische Komponenten.

Optik und Multifunktionswerkstoffe: Optische Beschichtungen und Lasermaterialien, Keramiken und Katalysatoren, spezielle Funktionsmaterialien.

F3: Kann das Hafniumoxid-Target angepasst werden?

A: Ja, Sputtertargets aus Hafniumoxid (HfO2) können vollständig an die spezifischen Anwendungsanforderungen angepasst werden. Wir bieten maßgeschneiderte Lösungen in Bezug auf Reinheitsgrade, Abmessungen und Formen für verschiedene Beschichtungsprozesse und Anlagen. Ganz gleich, ob Sie Standardscheiben, rechteckige Targets oder spezielle Geometrien benötigen, unser Team kann sie nach Ihren technischen Zeichnungen und Spezifikationen herstellen. Dies gewährleistet optimale Leistung, Kompatibilität und Effizienz für Ihre spezielle Anwendung.

F4: Wie lange ist die Vorlaufzeit für Hafniumoxid-Targets?

A: Auf Lager: Sofortiger Versand

Standardprodukte: In der Regel 2-4 Wochen

Kundenspezifische Produkte: Wird anhand der erforderlichen Details bestimmt

Spezielle Anforderungen können besprochen werden

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QUALITÄTSSICHERUNG

Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.

Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.

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