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Chemical Name:
Solfuro di germanio
Formula:
GeS
Product No.:
321600
CAS No.:
12025-32-0
EINECS No.:
234-704-6
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

ID prodotto Formula Purity Dimensione Quantity Prezzo in € Inchiesta
321600ST001 GeS 99.999% Ø 50.8 mm x 3.175 mm 1 462.00 Inquire
321600ST002 GeS 99.999% Ø 76.2 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
321600ST003 GeS 99.999% Ø 101.6 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
ID prodotto
321600ST001
Formula
GeS
Purity
99.999%
Dimensione
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Prezzo in €
462.00
ID prodotto
321600ST002
Formula
GeS
Purity
99.999%
Dimensione
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
321600ST003
Formula
GeS
Purity
99.999%
Dimensione
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR

Il bersaglio GeS è un materiale importante utilizzato nella deposizione di film sottili e in altri processi.

 

Informazioni di base:

 

Composizione chimica: Composto principalmente da germanio (Ge) e zolfo (S) due elementi.

 

Caratteristiche dell’aspetto: Solitamente scaglie solide rotonde o quadrate, il colore può variare a seconda della purezza e della composizione specifica, ad esempio, può apparire grigio, nero, ecc.

 

Punto di fusione: avere un alto punto di fusione

 

Struttura cristallina: Ha una struttura cristallina specifica, che ne determina le proprietà fisiche e chimiche, e ha un impatto importante sulla crescita e sulle prestazioni del film durante lo sputtering.

 

Stabilità: relativamente stabile a temperatura ambiente, ma le reazioni chimiche possono verificarsi ad alta temperatura, aria umida o ambienti chimici specifici. Ad esempio, può essere ossidato se riscaldato all’aria.

 

Reattività: Può reagire con alcuni forti ossidanti, agenti riducenti o sostanze chimiche specifiche, ma le sue proprietà chimiche sono relativamente stabili e non è facile reagire violentemente con sostanze chimiche comuni.

 

Metodo di preparazione:

 

Metodo di metallurgia delle polveri: la polvere di germanio ad alta purezza e la polvere di zolfo in conformità con una certa proporzione di miscelazione, macinazione, pressatura e altri processi per fare billette, e quindi sinterizzazione in condizioni di alta temperatura e alta pressione per ottenere un bersaglio di solfuro di germanio. Questo metodo può preparare il materiale target con una composizione uniforme e un’alta densità.

 

Metodo di deposizione chimica da vapore: utilizzando composti di germanio e composti di zolfo come precursori, in determinate condizioni di temperatura e atmosfera, attraverso il metodo di deposizione chimica da vapore per crescere sul substrato del film di solfuro di germanio, quindi il film viene staccato dal substrato per produrre materiale target di solfuro di germanio.

 

Campo di applicazione:

 

Industria dei semiconduttori: nella produzione di dispositivi a semiconduttore, i bersagli GeS possono essere utilizzati per preparare film sottili, questi film possono essere utilizzati come strato funzionale di dispositivi a semiconduttore, come celle solari, fotorilevatori e altri dispositivi, i film GeS possono svolgere un ruolo nell’assorbimento della luce, nella conversione dell’energia e così via.

 

Campo ottico: poiché il solfuro di germanio ha determinate proprietà ottiche, può essere utilizzato per preparare pellicole ottiche, come nei dispositivi ottici a infrarossi, le pellicole di solfuro di germanio possono essere utilizzate come pellicole antiriflesso, pellicole riflettenti, ecc., Per migliorare le prestazioni dei dispositivi ottici.

 

Ricerca sulla scienza dei materiali: come nuovo tipo di materiale, anche il bersaglio del solfuro di germanio sta ricevendo attenzione nella ricerca sulla scienza dei materiali e i ricercatori lo utilizzano per esplorare le proprietà fisiche e chimiche di nuovi materiali, nonché per sviluppare nuove aree di applicazione.

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