Formula chimica: composto da due elementi, afnio (Hf) e silicio (Si), con rapporto atomico di 1:2.
Peso molecolare: 234,61.
Struttura cristallina: HfSi₂ ha una struttura cristallina tetragonale, che conferisce agli atomi una disposizione regolare e ordinata nello spazio.
Aspetto e morfologia: la polvere di HfSi₂ è generalmente grigia o biancastra.
Densità: 9,56 g/cm³, il che gli conferisce un vantaggio nelle applicazioni in cui il peso e la stabilità sono importanti.
Punto di fusione: approssimativamente tra 1800 e 1900°C, il che indica che è in grado di rimanere solido e mantenere la sua struttura di base alle alte temperature.
Campo dei materiali elettronici: il siliciuro di afnio, come materiale semiconduttore, viene utilizzato nella produzione di vari componenti elettronici nei circuiti integrati, come transistor ad effetto di campo, resistori e condensatori.
Materiali ad alta temperatura: grazie al suo alto punto di fusione e alla buona stabilità termica, l’HfSi₂ può essere utilizzato nella produzione di ceramiche strutturali ad alta temperatura. Nelle apparecchiature ad alta temperatura nei settori aerospaziale, metallurgico, energetico e in altri campi, l’HfSi₂ viene utilizzato come componenti strutturali ad alta temperatura o materiali di rivestimento a barriera termica.
Campo dei materiali ceramici: l’HfSi₂ può essere combinato con altri materiali ceramici per formare compositi ceramici con proprietà speciali.
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