| ID prodotto | Formula | Purity | Dimensione | Quantity | Prezzo in € | Inchiesta |
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| 721400ST001 | HfSi2 | 99.8% (Zr< 0.5wt%) | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 721400ST002 | HfSi2 | 99.8% (Zr< 0.5wt%) | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 721400ST003 | HfSi2 | 99.8% (Zr< 0.5wt%) | Ø 101.6 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
Il bersaglio di Siliciuro di afnio è un materiale importante.
Informazioni di base:
Composizione chimica: composto da due elementi, afnio (Hf) e silicio (Si), formula chimica HfSi₂.
Numero CAS: 12401-56-8.
Aspetto: bersaglio solido solitamente grigio.
Densità: Relativamente alta, il che gli conferisce una buona stabilità e proprietà di trasporto del materiale durante lo sputtering.
Punto di fusione: alto punto di fusione, buona resistenza alle alte temperature, in grado di mantenere la stabilità strutturale durante il processo di sputtering.
Dimensione delle particelle e cristallinità: generalmente ha una distribuzione granulometrica più uniforme e una buona cristallinità, che è molto importante per l’uniformità e la qualità del rivestimento sputtered.
Aree di applicazione
Deposizione di film sottili: nella produzione di semiconduttori, i target di Siliciuro di afnio vengono utilizzati in processi come la deposizione fisica da vapore (PVD) e la deposizione chimica da vapore (CVD) per preparare film sottili di alta qualità.
Rivestimento ottico: può essere utilizzato per preparare pellicole ottiche, come pellicole antiriflesso, pellicole per il miglioramento della trasmittanza, ecc., che vengono utilizzate in dispositivi ottici, lenti, display e altri campi.
Campo di comunicazione ottica: nei dispositivi di comunicazione ottica, come amplificatori in fibra ottica, WDM, ecc., i target HfSi₂ possono essere utilizzati per preparare film ottici correlati per ottenere le funzioni di trasmissione, amplificazione e multiplexing dei segnali ottici.
Display a schermo piatto: nella produzione di display a schermo piatto come display a cristalli liquidi (LCD), display al plasma (PDP), display a diodi organici a emissione di luce (OLED), ecc., i target HfSi₂ possono essere utilizzati per preparare film sottili come elettrodi e strati isolanti. Queste pellicole possono migliorare la risoluzione, la luminosità, il contrasto e altre proprietà del display e hanno una buona stabilità e affidabilità.
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Ogni lotto dei nostri materiali viene testato in modo indipendente e, se necessario, inviamo campioni ad aziende certificate per i test. Forniamo questi documenti e i certificati di analisi con la spedizione per certificare che i nostri prodotti soddisfano gli standard richiesti.
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