Il bersaglio sputtering in lega di silicio molibdeno boro (Si-Mo-B) è un materiale ad alte prestazioni che combina silicio (Si), molibdeno (Mo) e boro (B) per formare film sottili con proprietà speciali ed è adatto a varie applicazioni. Applicazioni industriali ed elettroniche. I bersagli possono essere realizzati in una varietà di dimensioni e forme (rotondi, rettangolari, piatti o ruotati) per soddisfare i requisiti specifici del sistema di deposizione.
La combinazione di silicio e molibdeno migliora la stabilità alle alte temperature, mentre il boro aiuta a migliorare la resistenza al calore e la durezza.
I film sottili depositati dai bersagli di silicio molibdeno boro (Si-Mo-B) hanno un’eccellente resistenza alla degradazione chimica, il che li rende adatti per l’uso in ambienti difficili.
Il boro conferisce al materiale una durezza significativa, rendendolo ideale per rivestimenti resistenti all’usura.
Le proprietà elettriche della lega possono essere regolate regolando le proporzioni di Si, Mo e B, rendendole utili nelle applicazioni elettroniche e dei semiconduttori.
I target di silicio molibdeno boro (Si-Mo-B) sono progettati per uno sputtering uniforme, garantendo spessore e prestazioni costanti del film su tutto il substrato.
Per il deposito di rivestimenti duri e durevoli su utensili, matrici e attrezzature da taglio. Eccellente per rivestimenti anticorrosivi e antiossidanti.
I film sottili di bersagli di silicio molibdeno boro (Si-Mo-B) sono utilizzati nei dispositivi a semiconduttore e hanno un’elevata stabilità termica e proprietà elettriche precise.
Rivestimenti per componenti esposti ad alte temperature e usura meccanica, come pale di turbine e sistemi di scarico.
Utilizzato per produrre pellicole ottiche con proprietà rifrangenti o protettive migliorate.
Per i film sottili utilizzati nei dispositivi fotovoltaici avanzati, la durata e l’efficienza sono fondamentali.
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