| ID prodotto | Formula | Purity | Dimensione | Quantity | Prezzo in € | Inchiesta |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 5008500900ST001 | SnO2-SnF2 | 99.9% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 5008500900ST002 | SnO2-SnF2 | 99.9% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 5008500900ST003 | SnO2-SnF2 | 99.9% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 5008500900ST004 | SnO2-SnF2 | 99.9% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 5008500900ST005 | SnO2-SnF2 | 99.9% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 5008500900ST006 | SnO2-SnF2 | 99.9% | Ø 152.4 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
I target per sputtering in ossido di stagno drogato con fluoro (FTO) sono materiali essenziali per la produzione di film sottili trasparenti di ossido conduttivo (TCO). Drogando l’ossido di stagno (SnO₂) con fluoro, la conduttività elettrica viene notevolmente migliorata, mantenendo al contempo un’elevata trasparenza ottica. Questo rende i target per sputtering FTO ampiamente utilizzati in celle solari a film sottile, touch panel, display, smart windows e altri dispositivi optoelettronici.
VIMATERIAL fornisce target per sputtering FTO ad alta purezza, con eccellente stabilità, deposizione uniforme del film sottile e dimensioni personalizzabili per soddisfare le esigenze della ricerca e dell’industria.
| Articolo | Specifiche |
| Formula chimica | SnO₂:F |
| Purezza | 99,99% (4N) |
| Densità | 6,95 g/cm³ (teorica) |
| Struttura cristallina | Tetragonale di tipo rutilo (simile a SnO₂) |
| Forma | Target di sputtering planari o rotanti |
| Dimensioni | Dimensioni e forme personalizzate disponibili |
| Piastra di supporto | Collata o non coesa su richiesta |
| Metodo di sputtering | Sputtering magnetron DC / Sputtering magnetron RF |
Celle solari: strati conduttivi trasparenti in film sottile e pannelli fotovoltaici a perovskite
Display: display a schermo piatto, LCD, OLED e touchscreen
Finestre intelligenti: rivestimenti Low-E e vetro elettrocromico
Optoelettronica: elettrodi trasparenti in sensori e dispositivi
Elevata conduttività elettrica con eccellente trasparenza ottica
Velocità di sputtering stabile e deposizione uniforme di film sottili
Disponibile in gradi 4N con rigoroso controllo delle impurità
Dimensioni, servizio di bonding e forme personalizzabili
Documentazione completa e supporto tecnico globale
Produttore professionale di target per sputtering per materiali TCO
Rigoroso controllo di qualità con COA, TDS e MSDS forniti
Forte supporto in fase di ricerca e sviluppo e applicazione per la deposizione di film sottili
Tempi di consegna brevi e personalizzazione flessibile
Scelto da istituti di ricerca e industrie in tutto il mondo
Offriamo gradi con purezza del 99,99% (4N) e controllo delle impurità per applicazioni di fascia alta. La purezza può anche essere personalizzata
Sì, produciamo target planari e rotanti con o senza piastre di supporto, completamente personalizzabili.
I nostri target per sputtering FTO possono essere utilizzati nei sistemi di sputtering magnetron DC e RF.
Target per sputtering ITO (ossido di indio e stagno)
Target per sputtering AZO (ossido di zinco drogato con alluminio)
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) impiega un rigoroso sistema di garanzia della qualità per assicurare l’affidabilità dei nostri prodotti. Il controllo di qualità è rigoroso in tutta la catena di produzione e per i prodotti difettosi applichiamo rigorosamente il principio della rilavorazione e del rifacimento. Ogni lotto viene rilasciato solo dopo aver superato dettagliati test sulle specifiche.
Ogni lotto dei nostri materiali viene testato in modo indipendente e, se necessario, inviamo campioni ad aziende certificate per i test. Forniamo questi documenti e i certificati di analisi con la spedizione per certificare che i nostri prodotti soddisfano gli standard richiesti.
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