Ossido di silicio di rame

Il bersaglio sputtering dell’ossido di silicio di rame è un tipo di bersaglio sputtering composto da elementi di rame, silicio e ossigeno, che viene utilizzato per la preparazione di materiali a film sottile rilevanti mediante magnetron sputtering e altre tecniche e ha importanti applicazioni nell’elettronica, nell’ottica e in altri campi.

VIMATERIAL fornisce bersagli sputtering di ossido di silicio di rame ad alta purezza, siamo un fornitore professionale di materie prime chimiche inorganiche, i nostri bersagli sputtering sono caratterizzati da elevata purezza, buona planarità superficiale, prestazioni stabili del prodotto e buona consistenza del prodotto. Supportiamo un servizio personalizzato e un servizio vincolante, in caso di problemi tecnici, non esitate a contattarci.

Caratteristiche fisiche

Formula molecolare: CuSiO₃

Peso molecolare: 143,63

Aspetto: solitamente polvere blu o blu-verde

Densità: circa 3,8 g/cm³.

Struttura cristallina: appartiene al sistema cristallino ortorombico, la sua struttura cristallina di ioni rame, ioni silicio e ioni ossigeno in conformità con una certa disposizione spaziale per formare una struttura reticolare cristallina stabile, il tetraedro di silicio e ossigeno è l’unità strutturale di base, gli ioni rame sono distribuiti nella distribuzione delle sue interazioni circostanti con la formazione del cristallo complessivo.

Applicazioni

Campo elettronico: utilizzato nella produzione di dispositivi elettronici, può svolgere un ruolo nella deposizione dello strato isolante dei chip del circuito integrato, il film formato dallo sputtering può fornire buone proprietà dielettriche, che aiutano a migliorare le prestazioni e la stabilità del chip.

Campo ottico: nel rivestimento ottico, può essere utilizzato per la preparazione di lenti ottiche e filtri, ecc. Il film di ossido di rame e silicio depositato può regolare l’indice di rifrazione e la trasmittanza dei componenti ottici, ridurre efficacemente la luce riflessa, aumentare la trasmissione della luce e migliorare la qualità dell’immagine del sistema ottico.

Campo fotovoltaico: Nella produzione di celle solari, può essere utilizzato come potenziale materiale per lo strato tampone. Il film sottile di CuSiO₃ formato dallo sputtering aiuta a migliorare le prestazioni interfacciali della cella, aumentare l’efficienza di conversione fotovoltaica e, allo stesso tempo, migliorare la resistenza della cella ai fattori ambientali.

Campo dei semiconduttori: come materiale a film sottile nel processo dei semiconduttori, viene applicato nello strato di passivazione o nella struttura di cablaggio multistrato dei chip semiconduttori, che può migliorare la resistenza alla corrosione e le prestazioni elettriche del chip e salvaguardare l’affidabilità e la durata dei dispositivi a semiconduttore.

Controllo qualità

Ogni lotto di prodotti ha un rigoroso sistema di qualità per garantire che i registri di ispezione completi, tutti i prodotti di fabbrica possano essere tracciati e forniranno campioni al cliente dopo la fabbrica, affinché i clienti possano ispezionare nuovamente. Abbiamo una buona consistenza del prodotto e un’elevata riproducibilità del prodotto.

Imballaggio e stoccaggio

I bersagli di sputtering di ossido di rame e silicio sono generalmente protetti da doppi sacchetti sottovuoto seguiti da scatole.

I bersagli sputtering di ossido di silicio di rame devono essere conservati in un ambiente asciutto, fresco e ben ventilato per evitare umidità e ossidazione e per evitare che entrino in contatto con sostanze corrosive come acidi e alcali e, allo stesso tempo, dovremmo assicurarci che la temperatura dell’ambiente di stoccaggio sia stabile, per evitare danni fisici ai bersagli dovuti alle variazioni di temperatura, E dovremmo adottare buone misure per prevenire la polvere.