Ossido di ittrio

Ossido di ittrio il target di sputtering è un tipo di target di sputtering ceramico con l’ossido di ittrio come componente principale, che ha le caratteristiche di elevata purezza, alto punto di fusione e buona stabilità chimica ed è ampiamente utilizzato nei campi dell’ottica, dell’elettronica, del magnetismo e così via.

VIMATERIALE offre target di ossido di ittrio di elevata purezza, con dimensioni personalizzabili in base alle vostre esigenze. Offriamo anche polvere di ossido di ittrio e granuli di ossido di ittrio. Contattateci per ulteriori informazioni.

Proprietà del target di sputtering all’ossido di ittrio

Elevato punto di fusione: l’ ossido di ittrio ha un elevato punto di fusione, che lo rende in grado di sopportare il bombardamento ad alta energia nel processo di sputtering senza fondersi e deformarsi facilmente, garantendo la stabilità del processo di sputtering e la durata del materiale target.

Stabilità chimica: a temperatura e pressione ambiente, l’ossido di ittrio ha una buona stabilità chimica e non reagisce facilmente con altre sostanze, quindi non introduce impurità durante il processo di sputtering, garantendo la purezza e le prestazioni del film preparato.

Buona conducibilità elettrica e termica: Ha un certo grado di conducibilità elettrica e termica, che aiuta a controllare meglio la generazione di plasma e l’emissione di calore durante il processo di sputtering, migliorando così l’efficienza dello sputtering e la qualità del film.

Applicazioni del target di sputtering all’ossido di ittrio

Campo ottico: Utilizzato per la preparazione di film ottici, come film ad alto indice di rifrazione, film antiriflesso e così via. Il film di ossido di ittrio ha buone proprietà ottiche, può migliorare la trasmittanza, la riflettività e l’indice di rifrazione dei componenti ottici e altre proprietà, ampiamente utilizzate in lenti ottiche, dispositivi laser, comunicazioni ottiche e altri campi.

Settore elettronico: Può essere utilizzato per preparare film elettronici, come film isolanti e film conduttivi. Nei dispositivi a semiconduttore, il film di ossido di ittrio può essere utilizzato come strato isolante o strato tampone per migliorare le prestazioni e l’affidabilità del dispositivo; nei display elettronici, il film di ossido di ittrio può essere utilizzato come additivo per il film conduttivo trasparente per migliorare la conduttività e la stabilità del film.

Magnetismo: È uno dei materiali importanti per la preparazione di film magnetici, come i film di granato di ittrio e ferro (YIG), ecc. I film YIG hanno eccellenti proprietà magneto-ottiche e a microonde e sono ampiamente utilizzati nell’immagazzinamento magneto-ottico, nelle comunicazioni a microonde, nei sensori e in altri campi.

Altri campi: Può essere utilizzato anche nella superconduttività ad alta temperatura, nei catalizzatori, nei rivestimenti ceramici e in altri campi.

Nel campo della superconduttività ad alta temperatura, l’ossido di ittrio può essere utilizzato come matrice o drogante di materiali superconduttori per migliorarne le prestazioni;

Nel campo dei catalizzatori, l’ossido di ittrio può essere utilizzato come vettore o componente attivo dei catalizzatori per migliorarne l’attività e la selettività;

Nel campo dei rivestimenti ceramici, l’ossido di ittrio può essere utilizzato come materiale di rivestimento per migliorare la durezza, la resistenza all’usura e la resistenza alla corrosione dei materiali ceramici.

Imballaggio e stoccaggio

Imballaggio:

Gli obiettivi di sputtering all’ossido di ittrio sono tipicamente sigillati per evitare la contaminazione e l’assorbimento di umidità. Di solito sono confezionati sottovuoto in sacchetti di plastica o di alluminio puliti, spesso con sostanze essiccanti, e fissati in scatole rivestite di schiuma o in contenitori personalizzati per proteggerli da eventuali danni durante il trasporto.

Conservazione:

Devono essere conservati in un ambiente pulito, asciutto e fresco, con una buona ventilazione. Evitare l’esposizione all’umidità, alle alte temperature e alla luce solare diretta. Tenere lontano da sostanze chimiche corrosive e maneggiare con cura per evitare danni alla superficie o contaminazioni che potrebbero influire sulle prestazioni.

Domande frequenti

Q1: A cosa serve il target di sputtering all’ossido di ittrio?

R: I target di sputtering all’ossido di ittrio sono ampiamente utilizzati in applicazioni ottiche, elettroniche e magnetiche. Sono utilizzati per produrre rivestimenti ottici che migliorano la trasmittanza e la riflettività e film elettronici che migliorano le prestazioni e la stabilità dei dispositivi semiconduttori e dei display. Sono anche importanti per la produzione di materiali magnetici, come i film YIG per la comunicazione e il rilevamento. Inoltre, sono utilizzati nei superconduttori, nei catalizzatori e nei rivestimenti ceramici per migliorare le proprietà dei materiali come la conduttività, l’attività, la durezza e la resistenza alla corrosione.

D2: Il target di sputtering in ossido di ittrio può essere personalizzato?

R: Sì, offriamo servizi di personalizzazione. La purezza e le dimensioni possono essere personalizzate. È meglio fornire i disegni del materiale del target per una migliore personalizzazione. Offriamo anche polvere e granuli di ossido di ittrio in varie forme per soddisfare le vostre esigenze.

Q3: Qual è il tempo di produzione?

A: In magazzino: Spedizione immediata

Prodotti standard: Generalmente 2-4 settimane

Prodotti personalizzati: Determinati in base ai dettagli richiesti

I requisiti speciali possono essere discussi

Q4: Fornite rapporti TDS o MSDS?

R: Sì, forniamo file TDS e MSDS. Il pulsante “MSDS” e “TDS” si trova sotto la casella di richiesta a destra dell’immagine del prodotto.