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Chemical Name:
Ossido di bismuto germanio (BGO)
Formula:
Bi4Ge3O12
Product No.:
83320800
CAS No.:
12233-56-6
EINECS No.:
235-457-7
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

ID prodotto Formula Purity Dimensione Quantity Prezzo in € Inchiesta
83320800ST001 Bi4Ge3O12 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
83320800ST002 Bi4Ge3O12 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
83320800ST003 Bi4Ge3O12 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
83320800ST004 Bi4Ge3O12 99.99% Ø 101.6 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
ID prodotto
83320800ST001
Formula
Bi4Ge3O12
Purity
99.99%
Dimensione
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
83320800ST002
Formula
Bi4Ge3O12
Purity
99.99%
Dimensione
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
83320800ST003
Formula
Bi4Ge3O12
Purity
99.99%
Dimensione
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
83320800ST004
Formula
Bi4Ge3O12
Purity
99.99%
Dimensione
Ø 101.6 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR

Ossido di bismuto germanio è un importante bersaglio del materiale funzionale.

Informazioni di base:

Formula chimica: Bi₄Ge₃O₁₂. Struttura cristallina: con struttura
cristallina cubica di ewerite Aspetto: solitamente fiocco solido o bersaglio rotondo, generalmente bianco sporco o giallo chiaro.

Proprietà chimiche:

Stabilità: è relativamente stabile a temperatura e pressione ambiente, ma in alcuni ambienti chimici speciali, come acidi e basi forti, possono verificarsi reazioni chimiche.

Proprietà ossidanti: Ossido di bismuto germanio in essi contenuti hanno determinate proprietà ossidanti e possono essere coinvolti come agenti ossidanti in alcune reazioni, ma nel processo di applicazione del bersaglio, tali proprietà ossidanti di solito non hanno un impatto negativo sulle sue prestazioni.

Campo di applicazione:

Campo ottico: l’ossido di bismuto germanio è in grado di emettere fluorescenza verde sotto l’azione di particelle ad alta energia o raggi ad alta energia (ad esempio, raggi β e raggi X), i suoi bersagli possono essere utilizzati per la preparazione di film ottici, che vengono utilizzati, ad esempio, in materiali scintillatori e schermi fluorescenti.

Campo dei semiconduttori: può essere utilizzato nella produzione di dispositivi a semiconduttore, come circuiti integrati, dispositivi optoelettronici e altri aspetti del processo di deposizione di film sottili, come materiale target per lo sputtering per preparare film con funzioni specifiche, questi film possono migliorare le prestazioni dei dispositivi a semiconduttore.

Elettronica: Nel campo dell’elettronica, i target Bi₄Ge₃O₁₂ possono essere utilizzati nella preparazione di strati isolanti o protettivi per componenti elettronici per migliorare le prestazioni e l’affidabilità dei componenti elettronici.

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