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Chemical Name:
Ossido di bismuto
Formula:
Bi2O3
Product No.:
830800
CAS No.:
1304-76-3
EINECS No.:
215-134-7
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

ID prodotto Formula Purity Dimensione Quantity Prezzo in € Inchiesta
830800ST001 Bi2O3 99.99% Ø 25.4 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
830800ST002 Bi2O3 99.99% Ø 25.4 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
830800ST003 Bi2O3 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
830800ST004 Bi2O3 99.99% Ø 50.8 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
830800ST005 Bi2O3 99.99% Ø 76.2 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
830800ST006 Bi2O3 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
830800ST007 Bi2O3 99.99% Ø 101.6 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
ID prodotto
830800ST001
Formula
Bi2O3
Purity
99.99%
Dimensione
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
830800ST002
Formula
Bi2O3
Purity
99.99%
Dimensione
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
830800ST003
Formula
Bi2O3
Purity
99.99%
Dimensione
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
830800ST004
Formula
Bi2O3
Purity
99.99%
Dimensione
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
830800ST005
Formula
Bi2O3
Purity
99.99%
Dimensione
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
830800ST006
Formula
Bi2O3
Purity
99.99%
Dimensione
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
830800ST007
Formula
Bi2O3
Purity
99.99%
Dimensione
Ø 101.6 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR

I bersagli per sputtering di ossido di bismuto sono utilizzati nelle tecniche di deposizione di film sottili come la deposizione fisica da vapore (PVD), in particolare lo sputtering con magnetron, per creare rivestimenti sottili di Bi₂O₃ su vari substrati. Questi film sottili sono comunemente usati nell’elettronica, nell’ottica e nelle applicazioni energetiche.

Proprietà

Purezza: Tipicamente disponibile in elevata purezza (dal 99,9% al 99,999%) per garantire film sottili di alta qualità.
Densità: ~8,9 g/cm³.
Punto di fusione: 817°C.
Proprietà elettriche: I bersagli sputtering dell’ossido di bismuto possono essere semiconduttori, con una banda proibita di ~2,8 eV.
Forma: Disponibile come bersagli circolari, rettangolari o di forma personalizzata, a seconda del sistema di sputtering.

Applicazioni

Elettronica: Utilizzato per depositare film sottili per la produzione di componenti elettronici come varistori, condensatori e resistori. Importante per transistor a film sottile (TFT) e altri dispositivi a semiconduttore.
Ottica: i bersagli sputtering con ossido di bismuto migliorano le proprietà ottiche come l’indice di rifrazione, la trasparenza e la riflettività. Utilizzato in filtri ottici, lenti e specchi grazie al suo alto indice di rifrazione.
Applicazioni energetiche: i film sottili di Bi₂O₃ sono impiegati nelle celle a combustibile a ossidi solidi (SOFC) e in altri dispositivi legati all’energia per la loro conduttività ionica.
Fotocatalisi: i film sottili di Bi₂O₃ hanno proprietà fotocatalitiche, che consentono loro di degradare gli inquinanti organici se esposti alla luce.

Sensori:Utilizzato nei sensori di gas grazie alla sua sensibilità a vari gas, inclusi ossigeno e ossidi di azoto.
Vantaggi Non tossico e senza piombo: l’ossido di bismuto è un’alternativa più sicura ai materiali a base di piombo nell’elettronica e nei rivestimenti.
Versatilità del film sottile: consente un controllo preciso dello spessore e della composizione dello strato depositato, che è fondamentale per la messa a punto delle proprietà elettriche e ottiche.

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