| ID prodotto | Formula | Purity | Dimensione | Quantity | Prezzo in € | Inchiesta |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 830800ST001 | Bi2O3 | 99.99% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 830800ST002 | Bi2O3 | 99.99% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 830800ST003 | Bi2O3 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 830800ST004 | Bi2O3 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 830800ST005 | Bi2O3 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 830800ST006 | Bi2O3 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 830800ST007 | Bi2O3 | 99.99% | Ø 101.6 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
I bersagli per sputtering di ossido di bismuto sono utilizzati nelle tecniche di deposizione di film sottili come la deposizione fisica da vapore (PVD), in particolare lo sputtering con magnetron, per creare rivestimenti sottili di Bi₂O₃ su vari substrati. Questi film sottili sono comunemente usati nell’elettronica, nell’ottica e nelle applicazioni energetiche.
Proprietà
Purezza: Tipicamente disponibile in elevata purezza (dal 99,9% al 99,999%) per garantire film sottili di alta qualità.
Densità: ~8,9 g/cm³.
Punto di fusione: 817°C.
Proprietà elettriche: I bersagli sputtering dell’ossido di bismuto possono essere semiconduttori, con una banda proibita di ~2,8 eV.
Forma: Disponibile come bersagli circolari, rettangolari o di forma personalizzata, a seconda del sistema di sputtering.
Applicazioni
Elettronica: Utilizzato per depositare film sottili per la produzione di componenti elettronici come varistori, condensatori e resistori. Importante per transistor a film sottile (TFT) e altri dispositivi a semiconduttore.
Ottica: i bersagli sputtering con ossido di bismuto migliorano le proprietà ottiche come l’indice di rifrazione, la trasparenza e la riflettività. Utilizzato in filtri ottici, lenti e specchi grazie al suo alto indice di rifrazione.
Applicazioni energetiche: i film sottili di Bi₂O₃ sono impiegati nelle celle a combustibile a ossidi solidi (SOFC) e in altri dispositivi legati all’energia per la loro conduttività ionica.
Fotocatalisi: i film sottili di Bi₂O₃ hanno proprietà fotocatalitiche, che consentono loro di degradare gli inquinanti organici se esposti alla luce.
Sensori:Utilizzato nei sensori di gas grazie alla sua sensibilità a vari gas, inclusi ossigeno e ossidi di azoto.
Vantaggi Non tossico e senza piombo: l’ossido di bismuto è un’alternativa più sicura ai materiali a base di piombo nell’elettronica e nei rivestimenti.
Versatilità del film sottile: consente un controllo preciso dello spessore e della composizione dello strato depositato, che è fondamentale per la messa a punto delle proprietà elettriche e ottiche.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) impiega un rigoroso sistema di garanzia della qualità per assicurare l’affidabilità dei nostri prodotti. Il controllo di qualità è rigoroso in tutta la catena di produzione e per i prodotti difettosi applichiamo rigorosamente il principio della rilavorazione e del rifacimento. Ogni lotto viene rilasciato solo dopo aver superato dettagliati test sulle specifiche.
Ogni lotto dei nostri materiali viene testato in modo indipendente e, se necessario, inviamo campioni ad aziende certificate per i test. Forniamo questi documenti e i certificati di analisi con la spedizione per certificare che i nostri prodotti soddisfano gli standard richiesti.
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