I target dell’ossido di alluminio-ossido di ittrio (Al₂O₃-Y₂O₃) sono materiali ceramici compositi che combinano ossido di alluminio e ossido di ittrio per creare un bersaglio ad alte prestazioni per processi di deposizione di film sottili, come lo sputtering e l’ablazione laser. L’aggiunta di ossido di ittrio migliora le proprietà termiche, meccaniche e chimiche della matrice di ossido di alluminio, rendendo questi obiettivi ideali per applicazioni che richiedono elevata durata, stabilità e isolamento.
Ossido di alluminio (Al₂O₃): il componente primario della matrice, Al₂O₃, fornisce un’elevata durezza, resistenza all’usura e un eccellente isolamento elettrico, rendendolo un materiale affidabile per substrati e rivestimenti nell’elettronica e nell’ottica. Ossido di ittrio (Y₂O₃): Y₂O₃ viene aggiunto per migliorare la stabilità termica, la resistenza alla corrosione e la tenacità. L’ossido di ittrio migliora anche la resistenza del composito agli shock termici, prevenendo fessurazioni e degrado strutturale al variare della temperatura.
Elevata durezza e densità: il composito ossido di alluminio-ossido di ittrio (Al₂O₃-Y₂O₃) mantiene l’elevata durezza dell’ossido di alluminio, con una maggiore tenacità dell’ossido di ittrio, rendendo il bersaglio durevole e resistente all’usura durante lo sputtering e altri processi di rivestimento. Tenacità e stabilità migliorate: Y₂O₃ contribuisce a migliorare la tenacità alla frattura, migliorando la stabilità strutturale del bersaglio. Ciò è particolarmente vantaggioso nelle applicazioni ad alta sollecitazione in cui i materiali tradizionali potrebbero rompersi o degradarsi.
Elevata stabilità termica: i target di ossido di alluminio-ittrio (Al₂O₃-Y₂O₃) possono resistere a temperature estremamente elevate, il che li rende ideali per rivestimenti e film utilizzati in applicazioni ad alta temperatura. Il punto di fusione del composito è ben al di sopra di 2000°C. Resistenza agli shock termici: l’ossido di ittrio migliora la resistenza ai rapidi sbalzi di temperatura, impedendo al bersaglio di rompersi o deformarsi durante intensi cicli di riscaldamento e raffreddamento.
Eccellente isolamento elettrico: l’ossido di alluminio fornisce un’elevata rigidità dielettrica, rendendo questo materiale composito adatto per l’isolamento elettrico nell’elettronica. Questa proprietà è utile nelle applicazioni che richiedono uno strato isolante per evitare interferenze elettriche. Bassa perdita dielettrica: questa proprietà è vantaggiosa nelle applicazioni ad alta frequenza, dove l’efficienza energetica e la minima perdita di potenza sono importanti.
Inerzia all’attacco chimico: la combinazione di ossido di alluminio-ossido di ittrio (Al₂O₃-Y₂O₃) migliora la resistenza chimica, rendendo il bersaglio stabile e inerte in ambienti corrosivi. Questa stabilità chimica è preziosa nelle applicazioni di rivestimento in cui è richiesta una durata a lungo termine.
Rivestimenti ottici: la trasparenza del composito in determinate gamme spettrali lo rende adatto per rivestimenti ottici su lenti e ottiche di precisione, fornendo strati protettivi e antiriflesso. Elettronica e deposizione di film sottili: i target di ossido di alluminio-ossido di ittrio (Al₂O₃-Y₂O₃) sono spesso utilizzati per depositare strati sottili e isolanti su wafer di semiconduttori e componenti elettronici, migliorando la durata e proteggendo i circuiti dai danni ambientali. Rivestimenti a barriera termica: con la sua stabilità termica e resistenza agli attacchi chimici, questo composito è ideale per le barriere termiche su componenti esposti ad alte temperature, come le pale delle turbine e altre applicazioni aerospaziali. Rivestimenti protettivi: la resistenza chimica e all’usura dei target Al₂O₃-Y₂O₃ li rende adatti per rivestimenti protettivi su utensili, parti di macchinari e altre superfici soggette a usura o esposizione chimica.
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