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Chemical Name:
Nitruro di alluminio
Formula:
AlN
Product No.:
130700
CAS No.:
24304-00-5
EINECS No.:
246-140-8
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

ID prodotto Formula Purity Dimensione Quantity Prezzo in € Inchiesta
130700ST001 AlN 99.9% Ø 25mm x 5mm 1 POR Inquire
130700ST002 AlN 99.9% Ø 50.8mm x 3.2mm 1 POR Inquire
130700ST003 AlN 99.5% Ø 76.2mm x 3mm 1 POR Inquire
ID prodotto
130700ST001
Formula
AlN
Purity
99.9%
Dimensione
Ø 25mm x 5mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
130700ST002
Formula
AlN
Purity
99.9%
Dimensione
Ø 50.8mm x 3.2mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
130700ST003
Formula
AlN
Purity
99.5%
Dimensione
Ø 76.2mm x 3mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR

Il bersaglio di sputtering al nitruro di alluminio (AlN) è un materiale ad alta purezza utilizzato nei processi di deposizione fisica da vapore (PVD), in particolare lo sputtering, per creare film sottili di nitruro di alluminio su vari substrati. Noti per l’eccellente conduttività termica, l’elevato isolamento elettrico e la durata, i film sottili AlN sono ampiamente applicati nell’industria elettronica, ottica e dei semiconduttori. La composizione e la qualità di produzione del target di sputtering al nitruro di alluminio sono fondamentali per ottenere rivestimenti uniformi e privi di difetti.

 

Composizione e purezza:

Nitruro di alluminio (AlN): composto da alluminio e azoto, i target AlN offrono un’elevata conducibilità termica e isolamento elettrico. Elevata purezza (tipicamente ≥ 99,5%): i target AlN ad alta purezza sono essenziali per ottenere film sottili di alta qualità e privi di contaminazione, che sono fondamentali nelle applicazioni di semiconduttori ed elettronica.

 

Proprietà fisiche e termiche:

Elevata conducibilità termica: l’AlN offre una delle più alte conducibilità termiche tra le ceramiche, fornendo un’eccellente dissipazione del calore per film sottili nell’elettronica. Isolamento elettrico: le proprietà isolanti dell’AlN lo rendono ideale per i film che richiedono isolamento elettrico, come nei dispositivi a semiconduttore. Durevole e resistente alle sollecitazioni termiche: i bersagli di sputtering al nitruro di alluminio sono stabili alle alte temperature, il che li rende adatti a processi di deposizione prolungati.

 

Applicazioni:

Industria dei semiconduttori: i film AlN sono utilizzati come strati isolanti nei dispositivi a semiconduttore, migliorando le prestazioni prevenendo la dispersione di corrente. Transistor a film sottile (TFT) e LED: l’AlN viene utilizzato nei transistor a film sottile e nei substrati LED, dove la sua conduttività termica favorisce la dissipazione del calore, prolungando la vita operativa del dispositivo. Dispositivi a onde acustiche di superficie (SAW): le proprietà piezoelettriche di AlN lo rendono adatto per i filtri SAW, comunemente utilizzati nei filtri RF e nei sistemi di comunicazione wireless. Optoelettronica e rivestimenti ottici: i film sottili AlN sono apprezzati in optoelettronica per la loro trasparenza e compatibilità con i dispositivi ottici.

 

Movimentazione e stoccaggio:

Fragilità: i bersagli di nitruro di alluminio, sebbene durevoli in condizioni di deposizione, possono essere fragili. È necessaria un’attenta manipolazione per evitare scheggiature o fratture. Controllo dell’umidità: l’AlN è leggermente suscettibile all’idrolisi in ambienti umidi, quindi si consiglia di conservare i bersagli in un ambiente asciutto e controllato per mantenere la purezza e le prestazioni.

 

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