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Chemical Name:
Nitruro di afnio
Formula:
HfN
Product No.:
720700
CAS No.:
25817-87-2
EINECS No.:
247-282-3
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

ID prodotto Formula Purity Dimensione Quantity Prezzo in € Inchiesta
720700ST001 HfN 99.5% (Hf+Zr) Ø 50.8 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
720700ST002 HfN 99.5% (Hf+Zr) Ø 76.2 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
ID prodotto
720700ST001
Formula
HfN
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimensione
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
720700ST002
Formula
HfN
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimensione
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR

Panoramica dei target per sputtering in nitruro di afnio

I target per sputtering in nitruro di afnio sono realizzati in nitruro di afnio ad alta purezza e sono ampiamente utilizzati nella deposizione di film sottili, nella tecnologia di rivestimento e nell’industria dei semiconduttori. I target per sputtering in nitruro di afnio di VImaterial offrono un’eccellente stabilità chimica e durezza, rendendoli adatti a una varietà di applicazioni di film sottili ad alta precisione. Garantiscono una velocità di sputtering uniforme durante la deposizione di film sottili, consentendo un controllo preciso dello spessore e della qualità del materiale depositato.

Vantaggi del prodotto

Materiale ad alta purezza: i nostri target sono realizzati con materie prime ad alta purezza, garantendo l’assenza di impurità durante il processo di sputtering e film di alta qualità.

Eccellente stabilità termica: i nostri target offrono un’elevata conduttività termica e resistenza alle alte temperature, consentendo un funzionamento stabile in ambienti ad alta temperatura e adatti a processi di deposizione in diverse condizioni estreme.

Elevata stabilità chimica: i nostri target sono altamente resistenti all’ossidazione e alla corrosione, mantenendo una stabilità a lungo termine in una varietà di ambienti chimici.

Ampie applicazioni: adatti per rivestimenti duri, rivestimenti funzionali, rivestimenti ottici, film sottili di semiconduttori e altre applicazioni, soddisfacendo i requisiti dei processi di deposizione di film sottili di fascia alta.

Parametri tecnici

Parametri Specifiche
Formula chimica HfN
Purezza 99,5%
Diametro e spessore Personalizzato
Densità 12,5 g/cm³
Durezza 1600 HV
Conduttività termica 14 W/m·K
Temperatura di esercizio 1000 °C (fino a 1500 °C)
Metodo di sputtering Sputtering DC / Sputtering RF / Sputtering laser pulsato
Struttura cristallina Cubico a facce centrate (FCC)
Metodo di incollaggio Incollaggio di metalli / Adesivo conduttivo / Saldatura del backplane
Opzioni del backplane Backplane in rame / Backplane in alluminio / Backplane in acciaio inossidabile

Applicazioni

Rivestimenti duri e rivestimenti funzionali: caratterizzati da un’eccellente durezza e resistenza all’usura, questi film sono adatti per rivestimenti superficiali su utensili da taglio, stampi, componenti elettronici e altre applicazioni, migliorando la resistenza del materiale Durata e resistenza ai graffi.

Rivestimenti ottici: i film di nitruro di afnio possono essere utilizzati in rivestimenti riflettenti ad alta temperatura, dispositivi ottici, riflettori laser e altri componenti ottici, offrendo una migliore riflettività e resistenza ai danni causati dalla luce.

Industria dei semiconduttori: ampiamente utilizzati come strati resistenti alle radiazioni o di isolamento elettrico nei dispositivi a semiconduttore, in particolare nell’elettronica di potenza, nei MEMS e nell’optoelettronica.

Tecnologia delle batterie: i film sottili di nitruro di afnio possono essere utilizzati in batterie al litio, supercondensatori e altri dispositivi di accumulo di energia, migliorandone la conduttività e la stabilità, prolungandone così la durata.

Perché scegliere VIMATERIAL?

Garanzia di alta qualità: ogni target di sputtering in nitruro di afnio che forniamo viene sottoposto a rigorosi test di qualità per garantirne la stabilità e l’affidabilità in una varietà di applicazioni ad alta precisione.

Personalizzazione: in base alle vostre esigenze specifiche, possiamo fornire servizi personalizzati con diverse dimensioni e purezze per soddisfare i requisiti specifici delle diverse apparecchiature di sputtering.

Prezzi competitivi: in qualità di produttore professionale di target per sputtering, VIMATERIAL offre ai clienti prodotti convenienti e garantisce una fornitura stabile e a lungo termine.

Supporto tecnico: il nostro team tecnico offre servizi completi di supporto e consulenza per aiutare i clienti a risolvere diverse problematiche relative all’utilizzo dei target per sputtering e garantire un processo fluido.

Domande frequenti (FAQ)

D1: I target in nitruro di afnio sono stabili ad alte temperature?

R1: Sì, i target in nitruro di afnio hanno un’eccellente stabilità termica e possono funzionare stabilmente a temperature fino a 1000 °C, il che li rende adatti per applicazioni di deposizione di film sottili ad alta temperatura.

D2: Posso personalizzare le dimensioni dei miei target per sputtering? Posso personalizzare i miei prodotti?

R2: Sì, VIMATERIAL offre dimensioni personalizzate per soddisfare le esigenze di diverse apparecchiature di sputtering.

D3: VIMATERIAL può personalizzare i miei prodotti?

R3: Disponiamo di un team tecnico professionale che supporta la personalizzazione dei prodotti. Vi preghiamo di fornirci informazioni o idee pertinenti per una valutazione.

D4: Quali precauzioni devono essere prese durante lo sputtering di target in nitruro di afnio?

A4: Durante lo sputtering del nitruro di afnio, è necessario tenere presente i seguenti punti:

1. Scelta dell’atmosfera di sputtering: utilizzare azoto (N₂) o argon (Ar) come gas di sputtering. L’azoto aiuta il target di nitruro di afnio a formare un film di nitruro stabile sul substrato.

2. Controllo della potenza di sputtering: mantenere una potenza di sputtering adeguata per evitare il surriscaldamento o l’evaporazione della superficie target, che potrebbero influire sulla qualità del film.

3. Temperatura del substrato: la temperatura del substrato deve essere controllata entro un intervallo appropriato per garantire la qualità e l’uniformità del film e per evitare un’eccessiva cristallizzazione o cricche di fragilità.

4. Pulizia della superficie target: assicurarsi che la superficie target sia priva di contaminanti. La pulizia può essere eseguita prima dell’uso per evitare qualsiasi impatto sulle prestazioni di sputtering.

5. Monitoraggio della velocità di sputtering: mantenere una velocità di sputtering stabile per garantire uno spessore uniforme del film e adattarsi alle diverse esigenze di deposizione.

Imballaggio e spedizione

Imballaggio

I target per sputtering in nitruro di afnio vengono imballati in stretta conformità con gli standard internazionali prima della spedizione. Utilizziamo sacchetti di plastica antistatici, schiuma e scatole esterne ad alta resistenza per proteggere i target da eventuali danni durante il trasporto. La superficie del target è inoltre trattata con un trattamento protettivo per prevenire graffi e altri danni meccanici durante il trasporto.

Trasporto

Offriamo diverse opzioni di spedizione, tra cui via mare, via aerea e via terra, per garantire una consegna puntuale e sicura. Tutte le procedure di trasporto rispettano rigorosamente le normative internazionali per garantire che i target in nitruro di afnio siano in condizioni ottimali al momento della consegna.

Conservazione

I target in nitruro di afnio devono essere conservati in un ambiente asciutto e fresco, evitando l’esposizione diretta a umidità, gas corrosivi o alte temperature, per garantire che le loro prestazioni e qualità non vengano compromesse.

Prodotti consigliati

Target per sputtering in ossido di afnio (HfO2): utilizzati in rivestimenti resistenti al calore e alle alte temperature, condensatori e film sottili ottici, offrono eccellenti proprietà elettriche e stabilità chimica.

Target per sputtering in nitruro di silicio (Si3N4): adatti alla produzione di componenti elettronici, celle solari e dispositivi ottici, offrono elevata resistività e resistenza all’usura.

Target per sputtering in nitruro di tantalio (TaN): utilizzati nell’industria dei semiconduttori, nei resistori a film sottile e nei circuiti integrati.

Report e documentazione tecnica

Forniamo una documentazione tecnica completa sui target per sputtering in nitruro di afnio, inclusi COA (Certificato di analisi), TDS (Scheda tecnica) e MSDS (Scheda di sicurezza). Potete scaricare la documentazione direttamente dalla pagina del prodotto o lasciare un messaggio per contattarci. Vi forniremo un report completo sul prodotto, personalizzato in base alle vostre esigenze. Inoltre, su richiesta, possiamo fornire campioni per la verifica da parte di laboratori di prova terzi, garantendo la piena conformità e affidabilità.

Prodotto Consigliato

GARANZIA DI QUALITÀ

VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) impiega un rigoroso sistema di garanzia della qualità per assicurare l’affidabilità dei nostri prodotti. Il controllo di qualità è rigoroso in tutta la catena di produzione e per i prodotti difettosi applichiamo rigorosamente il principio della rilavorazione e del rifacimento. Ogni lotto viene rilasciato solo dopo aver superato dettagliati test sulle specifiche.

Ogni lotto dei nostri materiali viene testato in modo indipendente e, se necessario, inviamo campioni ad aziende certificate per i test. Forniamo questi documenti e i certificati di analisi con la spedizione per certificare che i nostri prodotti soddisfano gli standard richiesti.

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