Il bersaglio sputtering al fluoruro di litio è un materiale target utilizzato nel processo di sputtering per depositare film sottili di fluoruro di litio su vari substrati. Il fluoruro di litio è un composto inorganico altamente ionico e ha proprietà distinte che lo rendono adatto per applicazioni in elettronica, ottica e altri campi di materiali avanzati.
Formula chimica: LiF
Massa molare: 25.939(2) g/mol
Aspetto: polvere bianca o cristalli trasparenti, igroscopico
Densità: 2,635 g/cm3
Punto di fusione: 845 °C (1.553 °F; 1.118 K)
Punto di ebollizione: 1.676 °C (3.049 °F; 1.949 K)
Solubilità in acqua”0,127 g/100 mL (18 °C)/0,134 g/100 mL (25 °C) Solubilità:solubile in HF; insolubile in alcool
Suscettibilità magnetica (χ):−10,1·10−6 cm3/mol
Indice di rifrazione (nD):1.3915
Struttura cristallina: cubica a facce centrate
Deposizione di film sottili: l’uso principale dei bersagli sputtering al fluoruro di litio è nella deposizione di film sottili nel processo di sputtering. I film sottili LiF sono utilizzati in applicazioni quali:
Dispositivi a semiconduttore: il bersaglio per sputtering al fluoruro di litio viene occasionalmente impiegato nella fabbricazione di semiconduttori, anche come parte degli strati dielettrici nei transistor e in altri dispositivi a semiconduttore. Celle solari: il bersaglio sputtering al fluoruro di litio viene utilizzato anche in alcune tecnologie di celle solari a film sottile, dove le sue proprietà uniche possono aiutare a migliorare l’efficienza energetica o la stabilità.
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