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Chemical Name:
Fluoruro di litio
Formula:
LiF
Product No.:
030900
CAS No.:
7789-24-4
EINECS No.:
232-152-0
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

ID prodotto Formula Purity Dimensione Quantity Prezzo in € Inchiesta
030900ST001 LiF 99.95% Ø 101.6mm x3mm 1 POR Inquire
ID prodotto
030900ST001
Formula
LiF
Purity
99.95%
Dimensione
Ø 101.6mm x3mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR

Il bersaglio sputtering al fluoruro di litio è un materiale target utilizzato nel processo di sputtering per depositare film sottili di fluoruro di litio su vari substrati. Il fluoruro di litio è un composto inorganico altamente ionico e ha proprietà distinte che lo rendono adatto per applicazioni in elettronica, ottica e altri campi di materiali avanzati.

Proprietà fisiche:

Formula chimica: LiF

Massa molare: 25.939(2) g/mol

Aspetto: polvere bianca o cristalli trasparenti, igroscopico

Densità: 2,635 g/cm3

Punto di fusione: 845 °C (1.553 °F; 1.118 K)

Punto di ebollizione: 1.676 °C (3.049 °F; 1.949 K)

Solubilità in acqua”0,127 g/100 mL (18 °C)/0,134 g/100 mL (25 °C) Solubilità:solubile in HF; insolubile in alcool

Suscettibilità magnetica (χ):−10,1·10−6 cm3/mol

Indice di rifrazione (nD):1.3915

Struttura cristallina: cubica a facce centrate

Applicazioni:

Deposizione di film sottili: l’uso principale dei bersagli sputtering al fluoruro di litio è nella deposizione di film sottili nel processo di sputtering. I film sottili LiF sono utilizzati in applicazioni quali:

  • Rivestimenti ottici: i film di fluoruro di litio sono utilizzati nelle ottiche per rivestimenti UV, rivestimenti antiriflesso e lenti. Grazie alla sua trasparenza nello spettro ultravioletto, è comunemente impiegato in dispositivi come finestre UV e filtri ottici.
  • Materiali dielettrici: i film sottili LiF sono talvolta utilizzati in condensatori, semiconduttori e altri componenti elettronici dove sono richiesti un’elevata rigidità dielettrica e isolamento elettrico.
  • Strati barriera: LiF viene utilizzato negli strati barriera per alcuni tipi di elettronica flessibile e per proteggere i materiali sottostanti in vari dispositivi a semiconduttore.
  • Applicazioni a scambio ionico e batterie: i rivestimenti LiF sono utilizzati anche in alcune tecnologie a scambio ionico e batterie per migliorare le prestazioni di alcuni elettrodi o membrane.

Dispositivi a semiconduttore: il bersaglio per sputtering al fluoruro di litio viene occasionalmente impiegato nella fabbricazione di semiconduttori, anche come parte degli strati dielettrici nei transistor e in altri dispositivi a semiconduttore. Celle solari: il bersaglio sputtering al fluoruro di litio viene utilizzato anche in alcune tecnologie di celle solari a film sottile, dove le sue proprietà uniche possono aiutare a migliorare l’efficienza energetica o la stabilità.

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