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Chemical Name:
Fluoruro di bario
Formula:
BaF2
Product No.:
560900
CAS No.:
7787-32-8
EINECS No.:
232-108-0
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

ID prodotto Formula Purity Dimensione Quantity Prezzo in € Inchiesta
560900ST001 BaF2 99.9% Ø 25.4 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
560900ST002 BaF2 99.9% Ø 50.8 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
560900ST003 BaF2 99.9% Ø 50.8 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
560900ST004 BaF2 99.9% Ø 76.2 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
560900ST005 BaF2 99.9% Ø 203.2 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
560900ST006 BaF2 99.99% Ø 50.8 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
560900ST007 BaF2 99.99% Ø 76.2 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
ID prodotto
560900ST001
Formula
BaF2
Purity
99.9%
Dimensione
Ø 25.4 mm x 3.175 mm
Quantity
1
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POR
ID prodotto
560900ST002
Formula
BaF2
Purity
99.9%
Dimensione
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Quantity
1
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POR
ID prodotto
560900ST003
Formula
BaF2
Purity
99.9%
Dimensione
Ø 50.8 mm x 6.35 mm
Quantity
1
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POR
ID prodotto
560900ST004
Formula
BaF2
Purity
99.9%
Dimensione
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Quantity
1
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POR
ID prodotto
560900ST005
Formula
BaF2
Purity
99.9%
Dimensione
Ø 203.2 mm x 6.35 mm
Quantity
1
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POR
ID prodotto
560900ST006
Formula
BaF2
Purity
99.99%
Dimensione
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Quantity
1
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POR
ID prodotto
560900ST007
Formula
BaF2
Purity
99.99%
Dimensione
Ø 76.2 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR

Il target BaF₂ è un importante target di sputtering con un’ampia gamma di applicazioni in diversi campi.

Informazioni di base:

Formula chimica: BaF₂, composto dall’elemento bario (Ba) e dall’elemento fluoro (F).

Peso molecolare: 175,34.

Aspetto: generalmente bianco, solido cristallino.

Densità: circa 4,893 g/cm³2.

Punto di fusione: 1368°C2.

Punto di ebollizione: 2260°C2.

Indice di rifrazione: 1,4712.

Campi di applicazione:

Campo ottico: il fluoruro di bario ha una buona trasparenza dall’ultravioletto all’infrarosso (da 150-200 nm a 11-11,5 μm), che può essere utilizzato per produrre componenti ottici, come lenti, fogli di finestre, ecc. E ha importanti applicazioni nella tecnologia laser, negli strumenti ottici e nell’ottica a infrarossi.

Campo dei semiconduttori: nel processo di produzione dei semiconduttori, il target BaF₂ può essere utilizzato per la deposizione di film sottili, come lo sputtering e altri metodi per depositare il film di fluoruro di bario sulla superficie dei chip semiconduttori, svolgere un ruolo nell’isolamento, nella protezione e così via.

Nella ricerca scientifica: i bersagli BaF₂ sono spesso utilizzati nella fisica nucleare e in altri esperimenti di ricerca scientifica, ad esempio come materiali cristallini a scintillazione per rivelatori o per la ricerca sulle proprietà fisiche dei materiali, ecc.4.

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