ID prodotto | Formula | Purity | Dimensione | Quantity | Prezzo in € | Inchiesta |
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560900ST001 | BaF2 | 99.9% | Ø 25.4 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
560900ST002 | BaF2 | 99.9% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
560900ST003 | BaF2 | 99.9% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
560900ST004 | BaF2 | 99.9% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
560900ST005 | BaF2 | 99.9% | Ø 203.2 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
560900ST006 | BaF2 | 99.99% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
560900ST007 | BaF2 | 99.99% | Ø 76.2 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
Il target BaF₂ è un importante target di sputtering con un’ampia gamma di applicazioni in diversi campi.
Formula chimica: BaF₂, composto dall’elemento bario (Ba) e dall’elemento fluoro (F).
Peso molecolare: 175,34.
Aspetto: generalmente bianco, solido cristallino.
Densità: circa 4,893 g/cm³2.
Punto di fusione: 1368°C2.
Punto di ebollizione: 2260°C2.
Indice di rifrazione: 1,4712.
Campo ottico: il fluoruro di bario ha una buona trasparenza dall’ultravioletto all’infrarosso (da 150-200 nm a 11-11,5 μm), che può essere utilizzato per produrre componenti ottici, come lenti, fogli di finestre, ecc. E ha importanti applicazioni nella tecnologia laser, negli strumenti ottici e nell’ottica a infrarossi.
Campo dei semiconduttori: nel processo di produzione dei semiconduttori, il target BaF₂ può essere utilizzato per la deposizione di film sottili, come lo sputtering e altri metodi per depositare il film di fluoruro di bario sulla superficie dei chip semiconduttori, svolgere un ruolo nell’isolamento, nella protezione e così via.
Nella ricerca scientifica: i bersagli BaF₂ sono spesso utilizzati nella fisica nucleare e in altri esperimenti di ricerca scientifica, ad esempio come materiali cristallini a scintillazione per rivelatori o per la ricerca sulle proprietà fisiche dei materiali, ecc.4.
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