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Chemical Name:
Carburo di tantalio
Formula:
TaC
Product No.:
730600
CAS No.:
12070-06-3
EINECS No.:
235-118-3
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

ID prodotto Formula Purity Dimensione Quantity Prezzo in € Inchiesta
730600ST001 TaC 99.5% Ø 25.4 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
730600ST002 TaC 99.5% Ø 50.8 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
730600ST003 TaC 99.5% Ø 76.2 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
730600ST004 TaC 99.5% Ø 101.6 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
730600ST005 TaC 99.5% Ø 203.2 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
ID prodotto
730600ST001
Formula
TaC
Purity
99.5%
Dimensione
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
730600ST002
Formula
TaC
Purity
99.5%
Dimensione
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
730600ST003
Formula
TaC
Purity
99.5%
Dimensione
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
730600ST004
Formula
TaC
Purity
99.5%
Dimensione
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR
ID prodotto
730600ST005
Formula
TaC
Purity
99.5%
Dimensione
Ø 203.2 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Prezzo in €
POR

Il bersaglio in carburo di tantalio è un importante bersaglio per sputtering con un’ampia gamma di applicazioni.

Informazioni di base:

Composizione: composto principalmente da carburo di tantalio (TaC), un composto formato da elementi di tantalio (Ta) e carbonio (C).
Elevata durezza: durezza Mohs compresa tra 9-10, paragonabile a quella del diamante.
Alto punto di fusione: punto di fusione fino a 3880°C.
Buona conduttività elettrica: bassa resistenza a temperatura ambiente, buona conduttività elettrica, che favorisce la formazione di un plasma stabile nel processo di sputtering, migliora l’efficienza dello sputtering e la qualità del film.
Alta densità: generalmente superiore a 14 g/cm³, il che rende il materiale target nel processo di sputtering una buona stabilità, non è facile essere influenzato da particelle sputtering e spostamento o deformazione.

Aree di applicazione:

Industria dei semiconduttori: nella produzione di semiconduttori, i target di carburo di tantalio possono essere utilizzati nel processo di deposizione fisica da vapore (PVD) per preparare film sottili con funzioni specifiche, come film conduttivi e strati barriera.

Ottica: Utilizzati nella preparazione di pellicole ottiche, come pellicole antiriflesso, pellicole per il miglioramento della trasmissione, ecc., Possono migliorare le prestazioni dei componenti ottici e aumentare la risoluzione e la trasmittanza dei sistemi ottici.

Rivestimento duro: Grazie alla sua elevata durezza e buona resistenza all’abrasione, può essere utilizzato come materiale di rivestimento duro sulle superfici di utensili da taglio, stampi, ecc. Per migliorarne la durata e le prestazioni di taglio.

Campo aerospaziale: nel campo aerospaziale, i bersagli in carburo di tantalio possono essere utilizzati per preparare materiali strutturali ad alta temperatura e rivestimenti resistenti all’usura, come pale di turbine per motori a reazione e rivestimenti per ugelli di razzi, ecc., che possono migliorare le loro prestazioni anti-combustione e prolungarne la durata.

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