Biossido di silicio Il bersaglio ad anello è un materiale inorganico ad elevata purezza composto da silicio e ossigeno. Grazie alle eccellenti proprietà di trasparenza ottica, stabilità chimica, isolamento elettrico e resistenza termica, il SiO₂ è ampiamente utilizzato per la deposizione di film sottili in applicazioni ottiche, dei semiconduttori, dei display, elettroniche e in altri settori che impiegano materiali avanzati.
VIMATERIAL fornisce target ad anello in SiO₂ di alta qualità, caratterizzati da elevata purezza, composizione stabile, buona precisione dimensionale e prestazioni affidabili durante la deposizione. È possibile fornire diversi livelli di purezza, dimensioni e specifiche in base alle esigenze del cliente. Offriamo inoltre servizi di incollaggio dei target e soluzioni personalizzate.
Se avete esigenze specifiche relative ai materiali o ai target, il nostro team tecnico è a vostra disposizione per fornirvi assistenza professionale. Contattateci.
| Formula molecolare | SiO₂ |
| Peso molecolare | 60,08 g/mol |
| Aspetto | Da incolore a trasparente, con aspetto vetroso |
| Densità | Circa 2,20 g/cm³ |
| Punto di fusione | Circa 1713 °C |
| Struttura | Generalmente amorfa, con un ordine atomico a breve raggio e un disordine strutturale a lungo raggio |
La struttura amorfa del SiO₂ garantisce una buona uniformità ottica, stabilità chimica e isolamento elettrico, rendendolo adatto a un’ampia gamma di applicazioni di rivestimento e film sottili.
Il processo di produzione dei target ad anello in SiO₂ può includere la lavorazione delle polveri, la formatura, la sinterizzazione, la pressatura a caldo e la pressatura isostatica a caldo (HIP), a seconda della purezza, della densità, delle dimensioni e dell’applicazione richieste.
Metallurgia delle polveri
La metallurgiadelle polveriè un metodo comunemente utilizzato per la produzione di target ceramici convenzionali. La polvere viene lavorata e modellata nella geometria richiesta per il target prima della sinterizzazione.
Sinterizzazione a pressatura a caldo
La sinterizzazione a pressatura a caldo applica contemporaneamente pressione e temperatura per migliorare la densificazione del materiale e la resistenza meccanica. Può essere utilizzata per applicazioni che richiedono una maggiore densità del target e integrità strutturale.
Pressatura isostatica a caldo (HIP)
L’HIP applica uniformemente alta pressione e temperatura al materiale e può ridurre significativamente la porosità interna, migliorando la densità e l’uniformità. È adatto ad applicazioni esigenti in cui sono richieste alta densità e uniformità strutturale.
Il processo di produzione appropriato può essere selezionato in base alle dimensioni del bersaglio, alla purezza, alla densità e al processo di deposizione previsto.
VIMATERIAL è in grado di fornire target in biossido di silicio in diverse configurazioni in base alle esigenze del cliente.
Le dimensioni e le specifiche tecniche possono essere concordate in base ai disegni del cliente e ai requisiti applicativi.
Per ogni lotto di prodotti viene implementato un rigoroso sistema di controllo qualità viene applicato a ogni lotto di prodotti. Dalla selezione delle materie prime alla lavorazione, fino al collaudo finale e alla consegna, i parametri chiave di qualità vengono attentamente monitorati.
I test possono riguardare:
È possibile fornire rapporti di prova dettagliati in base alle esigenze del cliente per garantire che i bersagli ad anello in SiO₂ consegnati soddisfino i requisiti tecnici specificati.
Imballaggio: i target ad anello in SiO₂ vengono accuratamente protetti con materiali di imbottitura morbidi e imballati in scatole di cartone o casse di legno personalizzate per ridurre al minimo il rischio di urti e danni durante il trasporto.
Conservazione: conservare i target ad anello in SiO₂ in un ambiente pulito e asciutto e proteggerli dall’umidità, dalla contaminazione e da sostanze corrosive quali acidi e alcali forti. Evitare sbalzi di temperatura e l’esposizione prolungata alla luce solare diretta. Maneggiare il target con cura per prevenire danni meccanici.
R: Un target anulare in SiO₂ è un target in biossido di silicio realizzato con una geometria anulare per i processi di deposizione di film sottili. Viene utilizzato principalmente in applicazioni ottiche, dei semiconduttori, elettroniche, dei display e in altre applicazioni di rivestimento.
R: Sì. È possibile fornire dimensioni, geometria, purezza e altre specifiche tecniche personalizzate in base ai disegni del cliente e ai requisiti applicativi.
R: Le applicazioni tipiche includono rivestimenti ottici, film sottili per semiconduttori ed elettronica, rivestimenti per display, strati dielettrici, rivestimenti protettivi e rivestimenti antiriflesso.
R: Il SiO₂ amorfo non presenta un ordine cristallino a lungo raggio, mentre le forme cristalline come il quarzo hanno una struttura cristallina ordinata. La struttura richiesta dipende dal processo di produzione del bersaglio e dall’applicazione prevista del film sottile.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) impiega un rigoroso sistema di garanzia della qualità per assicurare l’affidabilità dei nostri prodotti. Il controllo di qualità è rigoroso in tutta la catena di produzione e per i prodotti difettosi applichiamo rigorosamente il principio della rilavorazione e del rifacimento. Ogni lotto viene rilasciato solo dopo aver superato dettagliati test sulle specifiche.
Ogni lotto dei nostri materiali viene testato in modo indipendente e, se necessario, inviamo campioni ad aziende certificate per i test. Forniamo questi documenti e i certificati di analisi con la spedizione per certificare che i nostri prodotti soddisfano gli standard richiesti.
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