Diossido del silicone

I wafer di silice sono ampiamente utilizzati nei semiconduttori, nella microelettronica e nelle applicazioni di ricerca. I wafer di silicio sono il materiale di base per i dispositivi a semiconduttore e sono ricoperti da uno strato di biossido di silicio con uno spessore che varia da pochi nanometri a decine di nanometri, che può fungere da isolante e proteggere. Le proprietà superficiali dello strato di biossido di silicio hanno una grande influenza sulle prestazioni del wafer di silicio. Materiale di base: il wafer di silicio (Si) funge da substrato. Strato di ossido: uno strato di biossido di silicio (SiO₂) viene fatto crescere termicamente o depositato sulla superficie del silicio. Lo spessore di questo strato di ossido può variare in base alle esigenze.

Proprietà superficiali dei wafer di silice

I wafer di silice possono essere idrofili o idrofobici, che presentano diverse proprietà superficiali. 1. Superficie idrofila Se l’energia superficiale è inferiore all’energia superficiale del liquido, la superficie è idrofila rispetto al liquido. Lo strato di biossido di silicio sulla superficie del wafer di silicio può mostrare una superficie idrofila dopo essere stato trattato con alcuni metodi chimici. In questo caso, le molecole d’acqua formeranno un film d’acqua liquido con un piccolo angolo di bagnatura sulla superficie del wafer di silicio, che favorisce alcune reazioni, crescita o analisi che interagiscono con l’acqua. 2. Superficie idrofobica Se l’energia superficiale è superiore all’energia superficiale del liquido, la superficie è idrofoba rispetto al liquido. Lo strato di biossido di silicio sulla superficie del wafer di silicio di solito mostra idrofobicità. In questo caso, le molecole d’acqua formano una gocciolina d’acqua con un ampio angolo sulla superficie del wafer di silicio, che non favorisce alcune reazioni, crescita o analisi che interagiscono con l’acqua.

Applicazioni dei wafer di silice

Microelettronica: utilizzata nella fabbricazione di circuiti integrati. Ricerca: ideale per i test e lo sviluppo in laboratori e università. Optoelettronica: fondamentale per i dispositivi che interagiscono con la luce, come fotorilevatori e LED. Dispositivi MEMS: Essenziali per i sistemi micro-elettromeccanici. Strati dielettrici: SiO₂ funge da strato isolante per varie applicazioni.

Opzioni personalizzate che possiamo offrire

Finitura superficiale: Superfici lucide o ruvide. Strati di ossido su entrambi i lati o su un lato. Livelli di doping e spessore del wafer personalizzati.