Come realizzare il target di sputtering?
I target di sputtering sono materiali utilizzati per la deposizione di film sottili. La tecnologia sputtering viene utilizzata per spruzzare atomi o molecole di materiale
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I target di sputtering sono materiali utilizzati per la deposizione di film sottili. La tecnologia sputtering viene utilizzata per spruzzare atomi o molecole di materiale
L’ITO e l’FTO sono due ossidi conduttivi trasparenti (TCO) ampiamente utilizzati. Entrambi combinano un’elevata trasparenza alla luce visibile con la conduttività elettrica, ma presentano punti di forza diversi. L’ITO offre generalmente una resistività elettrica inferiore
I bersagli di sputtering in ITO (ossido di indio e stagno) sono ampiamente utilizzati per produrre film conduttivi trasparenti per display, pannelli touch, dispositivi fotovoltaici e altre applicazioni optoelettroniche. Durante lo sputtering magnetronico, tuttavia, i