La cible de pulvérisation d’oxyde de bore (B₂O₃) est un matériau cible utilisé dans le processus de pulvérisation pour déposer de minces films d’oxyde de bore sur un substrat, généralement dans des applications telles que l’électronique, l’optique, les revêtements et la fabrication de semi-conducteurs. La pulvérisation cathodique est une technique de dépôt physique en phase vapeur (PVD) où les atomes sont éjectés d’une cible solide par des ions énergétiques, puis déposés sur un substrat pour former un film mince.
Formule chimique :B2O3
Masse molaire :69.6182 g/mol
Apparence : blanc, solide vitreux
Densité : Environ 2,46 g/cm³ pour la forme solide. Point de fusion : L’oxyde de bore a un point de fusion d’environ 450 °C (pour une forme amorphe). Point d’ébullition : Le point d’ébullition de l’oxyde de bore est d’environ 3000°C (en phase vapeur). Dureté : Matériau dur et cassant, il faut donc veiller à éviter les fissures ou les dommages. Solubilité : Réagit avec l’eau pour former de l’acide borique (H₃BO₃), et il est soluble dans l’eau et les solutions alcalines. Pureté : Disponible en différents degrés de pureté, allant généralement de 99 % à 99,9 % ou plus pour des applications spécialisées. Forme : Généralement un disque ou une plaque plat, circulaire ou cylindrique. Certaines cibles peuvent avoir une plaque de support pour une fixation plus facile au système de pulvérisation.
Dépôt de couche mince : Utilisé pour déposer des cibles de pulvérisation d’oxyde de bore pour des applications dans l’électronique, l’optique et les revêtements. Les films d’oxyde de bore peuvent être utilisés comme couches diélectriques, revêtements isolants ou barrières protectrices. Revêtements optiques : Les cibles de pulvérisation d’oxyde de bore sont utilisées dans les dispositifs optiques pour leurs propriétés de réfraction uniques et leur capacité à former des revêtements stables avec une grande durabilité. Fabrication de semi-conducteurs : Les cibles de pulvérisation d’oxyde de bore sont utilisées dans le dépôt de films minces pour les appareils électroniques, en particulier pour les processus de dopage ou pour créer des couches isolantes dans les composants semi-conducteurs. Revêtements haute performance : Les cibles de pulvérisation d’oxyde de bore sont utilisées dans la production de revêtements durs qui offrent une résistance à l’usure, une résistance à la corrosion et une stabilité à haute température, en particulier dans les applications aérospatiales, automobiles et industrielles. Fabrication du verre et de la céramique : Les films d’oxyde de bore déposés par pulvérisation cathodique sont utilisés dans la production de matériaux spéciaux en verre ou en céramique, tels que le verre borosilicaté, connu pour sa faible dilatation thermique et sa haute résistance aux chocs thermiques.
Équipement de protection : Lors de la manipulation de cibles de pulvérisation d’oxyde de bore, il est important de porter un équipement de protection individuelle (EPI) approprié, comme des gants, des lunettes de protection et un masque anti-poussière ou un respirateur pour éviter l’inhalation de particules. Stockage : Stockez les cibles d’oxyde de bore dans un environnement sec et frais pour éviter l’absorption d’humidité. L’oxyde de bore est hygroscopique et réagit avec l’eau pour former de l’acide borique, ce qui peut altérer les propriétés de la cible. Premiers soins : En cas de contact avec la peau, laver abondamment à l’eau. En cas d’inhalation en quantités importantes, allez à l’air frais et consultez un médecin si nécessaire.
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