
Comment faire une cible de pulvérisation ?
Les cibles de pulvérisation cathodique sont des matériaux utilisés pour le dépôt de couches minces. La technologie de pulvérisation cathodique permet de pulvériser des atomes
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Les cibles de pulvérisation cathodique sont des matériaux utilisés pour le dépôt de couches minces. La technologie de pulvérisation cathodique permet de pulvériser des atomes

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Cible en alliage cobalt-fer-bore (CoFeB) est un alliage composé de cobalt (Co), de fer (Fe) et de bore (B). En fonction de l’application spécifique, la composition élémentaire peut être ajustée en conséquence. En combinant les

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Les cibles de pulvérisation, technologie de base du dépôt physique en phase vapeur (PVD), sont largement utilisées dans les semi-conducteurs, l’énergie photovoltaïque, les panneaux d’affichage et d’autres domaines. Toutefois, la courte durée de vie des
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Alliage de niobium C-103 : Repousser les limites de la performance et ouvrir une nouvelle ère pour les matériaux à ultra-haute température En tant qu’alliage métallique réfractaire de haute performance, l’alliage C-103 se distingue par

Les cibles de pulvérisation du chrome sont PVD (dépôt physique en phase vapeur) fabriqués à partir de chrome de haute pureté (généralement ≥99,95 %) et largement utilisés dans la pulvérisation magnétron et les processus de

La poudre d’alliage sphérique C103 est un matériau d’alliage dont la matrice principale est le niobium (Nb). En raison de sa résistance aux températures élevées et de sa bonne stabilité, il est utilisé dans certaines