| ID del producto | Fórmula | Purity | Dimensión | Quantity | Precio en € | Indagación |
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| 5200ST001 | Te | 99.99% | Ø 25.4 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 5200ST002 | Te | 99.99% | Ø 50.8 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 5200ST003 | Te | 99.999% | Ø 50.8 mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 5200ST004 | Te | 99.999% | Ø 76.2 mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
El cátodo de telurio para sputtering es un material clave que se utiliza ampliamente en semiconductores, electrónica, óptica y otros campos mediante la pulverización catódica de átomos de telurio y su depósito en la superficie del sustrato para formar una película fina mediante bombardeo con una corriente de haces de iones en un entorno de alto vacío.
VIMATERIAL ofrece telurio metálico telurio metálico de alta pureza, y puede personalizar diferentes tamaños para satisfacer sus necesidades. Póngase en contacto con nosotros para más información.
Apariencia: Gris.
Densidad: La densidad teórica es de aproximadamente 6,25 g/cm3, la alta densidad es importante para la pulverización uniforme de átomos y la deposición uniforme de películas delgadas en el proceso de pulverización.
Punto de fusión: El punto de fusión es de 450°C. El punto de fusión relativamente moderado permite al cátodo mantener la estabilidad del estado sólido durante el sputtering y lograr el sputtering de átomos a un determinado nivel de energía.
Conductividad térmica: La conductividad térmica es de 1,97~3,0 W/m Kelvin, el tamaño de la conductividad térmica afecta a la transferencia de calor y a la distribución de la temperatura del material objetivo durante el proceso de sputtering, lo que tiene cierta influencia en la estabilidad del sputtering y en la calidad de la película.
Estabilidad química: Como cátodo para sputtering, puede mantener una buena estabilidad química en entornos de sputtering adecuados (por ejemplo, alto vacío, protección de gas inerte, etc.) para garantizar que la pureza y la calidad de la película no se vean afectadas por reacciones químicas con otras sustancias durante el proceso de sputtering.
Características de pureza: Generalmente hasta el 99,99% o incluso el 99,999%. La alta pureza puede garantizar la pureza de los átomos de telurio pulverizados, de modo que la película depositada tenga buenas propiedades eléctricas y ópticas, y cumpla los elevados requisitos de los semiconductores, la electrónica, la óptica y otros campos sobre materiales de película fina.
Propiedades de la estructura cristalina: El telurio existe en dos isótopos, en estado cristalino y amorfo. La estructura cristalina afecta a la dirección de sputtering y a la distribución de energía de los átomos durante el proceso de sputtering, lo que a su vez afecta a la microestructura y a las propiedades de la película.
Uniformidad de sputtering: los cátodos para sputtering de telurio metálico de alta calidad deben tener una buena uniformidad de sputtering, de modo que la película depositada en toda la superficie del sustrato tenga un espesor y una distribución de rendimiento uniformes.
Características de adhesión: la fuerza de adhesión con el material de soporte (como cobre, aluminio, etc.) es también una de las características importantes. Unas buenas características de adhesión pueden garantizar que el cátodo no se separe del material de soporte durante el proceso de sputtering, lo que afectará a la estabilidad del sputtering y a la calidad de la película.
Células solares: Los cátodos para sputtering de telurio se utilizan ampliamente en células solares de capa fina de CdTe y células solares de CIGS para depositar o dopar capas funcionales, ayudando a mejorar la calidad de la película, la eficiencia de conversión y el rendimiento general del dispositivo.
Campo de los semiconductores: Se utilizan en la fabricación de circuitos integrados y dispositivos de memoria avanzados como la memoria de cambio de fase (PCM) para formar películas delgadas dopantes, de barrera, aislantes o de cambio de fase que mejoran el rendimiento y la fiabilidad del dispositivo.
Aplicaciones termoeléctricas: Se emplea para preparar láminas delgadas termoeléctricas a base de telurio que convierten eficazmente el calor en electricidad para la recuperación de calor residual y la generación de energía.
Campo óptico y de visualización: Se aplica en revestimientos ópticos, detectores de infrarrojos y pantallas planas para formar películas finas funcionales que mejoran la transmisión de la luz, la sensibilidad a los infrarrojos y la eficacia y estabilidad de los dispositivos.
Los cátodos de telurio para sputtering se envasan al vacío en bolsas de plástico o papel de aluminio a prueba de humedad, se acolchan con espuma protectora y se embalan en cajas de cartón o madera resistentes para evitar la humedad, la oxidación y los daños mecánicos durante el transporte, garantizando una superficie limpia y la integridad estructural.
Los cátodos para sputtering de telurio deben almacenarse en un lugar fresco, seco, limpio y bien ventilado, lejos de la humedad, las altas temperaturas y los gases corrosivos. Mantenga el embalaje herméticamente cerrado y evite la exposición frecuente al aire para evitar la oxidación o la contaminación, manteniendo un rendimiento estable y una vida útil prolongada.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) emplea un estricto sistema de garantía de calidad para asegurar la fiabilidad de la calidad de nuestros productos. Se aplica un estricto control de calidad en toda la cadena de producción, y en el caso de productos defectuosos, aplicamos estrictamente el principio de reelaborar y rehacer. Cada lote se libera sólo después de superar pruebas detalladas de especificación.
Cada lote de nuestros materiales se somete a pruebas independientes y, si es necesario, enviamos muestras a empresas certificadas para que las prueben. Proporcionamos estos documentos y certificados de análisis con el envío para certificar que nuestros productos cumplen las normas exigidas.
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