| ID del producto | Fórmula | Purity | Dimensión | Quantity | Precio en € | Indagación |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 140600ST001 | SiC | 99.5% | 299.6mm x 129mm x 5mm | 1 | POR | Inquire |
| 140600ST002 | SiC | 99.5% | Ø 25.4mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140600ST003 | SiC | 99.5% | Ø 25.4mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140600ST004 | SiC | 99.5% | Ø 50.8mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140600ST005 | SiC | 99.5% | Ø 50.8mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140600ST006 | SiC | 99.5% | Ø 76.2mm x 3.175mm | 1 | POR | Inquire |
| 140600ST007 | SiC | 99.5% | Ø 76.2mm x 6.35mm | 1 | POR | Inquire |
| 140600ST008 | SiC | 99.5% | Ø 101.6mm x 3.175 mm | 1 | 436.00 | Inquire |
El carburo de silicio (SiC) es un material semiconductor de banda prohibida ancha con una dureza extremadamente alta, estabilidad térmica y excelente conductividad eléctrica, y se usa ampliamente en muchos campos de gama alta.
Dureza y resistencia al desgaste: El SiC tiene una dureza extremadamente alta, lo que le permite soportar el impacto de partículas de alta energía durante el proceso de preparación de la película. El material objetivo debe tener suficiente resistencia mecánica y resistencia al desgaste para garantizar que no haya un desgaste excesivo o grietas durante el uso a largo plazo. Estabilidad térmica: El alto punto de fusión del SiC y su excelente conductividad térmica le permiten funcionar bien en entornos de alta temperatura. Esto es particularmente adecuado para aplicaciones en dispositivos electrónicos de alta potencia y capas de película óptica. El tamaño y la forma del material objetivo deben adaptarse al coeficiente de expansión a altas temperaturas para garantizar la estabilidad durante el proceso de preparación y la calidad de la película. Conductividad eléctrica y propiedades ópticas: La conductividad eléctrica del SiC hace que sea especialmente utilizado en el campo de los semiconductores, y sus propiedades transparentes también tienen importantes aplicaciones en los revestimientos ópticos. Esto requiere que el material objetivo sea consistente en tamaño y morfología para garantizar la uniformidad de las propiedades eléctricas y ópticas de la película. El tamaño y la forma de los objetivos de pulverización catódica de carburo de silicio tienen un impacto crucial en las características anteriores, especialmente en los requisitos específicos para el tamaño del objetivo en los campos de dispositivos semiconductores, electrónica de alta potencia, películas ópticas, etc.
Los tamaños y formas comunes de los objetivos de pulverización catódica de carburo de silicio incluyen objetivos redondos, rectangulares y cuadrados. Diferentes aplicaciones requieren diferentes tamaños y formas:
Por lo general, el diámetro de los objetivos de pulverización catódica de carburo de silicio oscila entre 50 mm y 400 mm, y el grosor generalmente oscila entre 5 mm y 20 mm. El tamaño estándar depende de las especificaciones del equipo de pulverización catódica y de los requisitos de deposición.
Objetivos circulares: La forma más común, ampliamente utilizada en el campo de los semiconductores y los recubrimientos ópticos. Objetivos rectangulares: Se utilizan para equipos especiales o producción personalizada, especialmente para requisitos de recubrimiento de grandes áreas o dispositivos de alta potencia. Objetivos cuadrados: Se utilizan principalmente para experimentos específicos o preparación de películas delgadas de alta eficiencia. El tamaño y la forma del objetivo tienen un impacto significativo en la uniformidad de la superficie del objetivo, la eficiencia de pulverización catódica y la calidad de la película. Garantizar la consistencia de estos estándares de tamaño es la base para garantizar el rendimiento de la película y la estabilidad del equipo.
Fabricación de circuitos integrados: Los objetivos de carburo de silicio desempeñan un papel clave en la fabricación de circuitos integrados de alto rendimiento. Su alta conductividad térmica y estabilidad química hacen del carburo de silicio un material de sustrato ideal, que ayuda a mejorar el rendimiento y la fiabilidad de los circuitos integrados. Dispositivos de potencia: En los dispositivos electrónicos de potencia, la aplicación de objetivos de pulverización catódica de carburo de silicio puede mejorar significativamente la eficiencia y la resistencia a la temperatura de los dispositivos. Las características de banda prohibida ancha del carburo de silicio le permiten exhibir un excelente rendimiento cuando opera a altas temperaturas, altos voltajes y altas frecuencias, lo que es particularmente importante para los campos de conversión de energía, automotriz y aviación. Dispositivos de RF: Los objetivos de pulverización catódica de carburo de silicio también juegan un papel importante en la fabricación de dispositivos de RF. Su excelente movilidad electrónica y estabilidad térmica hacen del carburo de silicio un material ideal para la fabricación de dispositivos de RF de alto rendimiento, como amplificadores de potencia y filtros de RF.
Células solares: Los objetivos de pulverización catódica de carburo de silicio muestran un gran potencial en la fabricación de células solares de alta eficiencia. No solo puede mejorar la eficiencia de conversión de las células solares, sino también mejorar la durabilidad y estabilidad de las células en entornos extremos. Células solares de película fina: La aplicación del carburo de silicio también se ha extendido a la producción de células solares de película fina. Se puede utilizar como capa de amortiguación o capa de ventana para células solares de película delgada para mejorar el rendimiento de la célula en general.
Aplicaciones ópticas: Los objetivos de pulverización catódica de carburo de silicio se utilizan ampliamente en la fabricación de componentes ópticos de alto rendimiento debido a su alto índice de refracción y resistencia al desgaste. Estos componentes son ampliamente utilizados en instrumentos de medición aeroespaciales, militares y de alta precisión. Militar y aeroespacial: La alta resistencia y la resistencia a altas temperaturas del carburo de silicio hacen que se utilice en la fabricación de componentes estructurales resistentes a altas temperaturas y sistemas de protección térmica en los campos militar y aeroespacial. Materiales cerámicos avanzados: La alta dureza y resistencia al desgaste de los objetivos de pulverización catódica de carburo de silicio los hacen ideales para la producción de materiales cerámicos avanzados, que tienen importantes aplicaciones en los campos industrial, automotriz y energético. Los objetivos de pulverización catódica de carburo de silicio suelen tener un diámetro de 50 mm a 400 mm, y los espesores suelen oscilar entre 5 mm y 20 mm. Los tamaños estándar dependen de las especificaciones del equipo de pulverización catódica y los requisitos de deposición.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) emplea un estricto sistema de garantía de calidad para asegurar la fiabilidad de la calidad de nuestros productos. Se aplica un estricto control de calidad en toda la cadena de producción, y en el caso de productos defectuosos, aplicamos estrictamente el principio de reelaborar y rehacer. Cada lote se libera sólo después de superar pruebas detalladas de especificación.
Cada lote de nuestros materiales se somete a pruebas independientes y, si es necesario, enviamos muestras a empresas certificadas para que las prueben. Proporcionamos estos documentos y certificados de análisis con el envío para certificar que nuestros productos cumplen las normas exigidas.
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