Titan Metall

Das Titan-Sputtertarget ist ein Target aus Titanelement, das häufig in der Dünnschichtabscheidungstechnologie verwendet wird, wie z. B. bei der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) und der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD). VIMATERIAL hat sich mit seiner außergewöhnlichen Qualität, seinem umfassenden Produktsortiment und seinem aufmerksamen Service das Vertrauen einer Vielzahl von Kunden erworben. Unsere Produkte werden weltweit exportiert und genießen einen ausgezeichneten Ruf. Integrität und Qualität stehen an erster Stelle und wir heißen Kunden herzlich willkommen, Anfragen zu stellen und mit uns zusammenzuarbeiten.

Eigenschaften

Chemische Formel: Ti Molare Masse: 47,867 g/mol Aussehen: silbrig-weiß Dichte: 4,506 g/cm³ Schmelzpunkt: 1668 °C Siedepunkt: 3287 °C

Zusammensetzung des Titan-Sputtertargets

Titantarget besteht aus hochreinem Titanmetall, das normalerweise die folgenden Typen umfasst: 1. Reines Titantarget: Die Reinheit beträgt bis zu 99,995% und wird hauptsächlich durch elektrostatisches Sprühen oder Heißpressen hergestellt. Sputtertarget aus reinem Titan zeichnet sich durch Korrosionsbeständigkeit, hohe Stabilität und hervorragende Leitfähigkeit aus und wird häufig in Halbleitern, Beschichtungen, dünnen Schichten und Optiken eingesetzt. 2. Titanlegierungsziel: einschließlich Titanlegierungsziel und Titanlegierungsverbundziel. Das Ziel einer Titanlegierung besteht in der Regel aus Titan und anderen Metallelementen wie Aluminium, Kupfer, Nickel und Vanadium. Es zeichnet sich durch hohe Festigkeit, hohe Zähigkeit und geringe Dichte aus und wird häufig in der Luft- und Raumfahrt sowie in der Automobilindustrie eingesetzt. Verbundtargets aus Titanlegierungen bestehen aus verschiedenen Materialien und werden durch ein Verbundverfahren hergestellt. Sie zeichnen sich durch eine höhere Ablationsbeständigkeit und bessere optische Eigenschaften aus.

Anwendungen von Titan-Sputtertarget

1 Halbleiterindustrie: Titan-Sputtertargets und deren Verbindungen (wie Titannitrid und Titanoxid) werden häufig zur Herstellung von Grenzflächenschichten, Lötfilmen, Barriereschichten usw. in Halbleiterbauelementen verwendet. Es kann verwendet werden, um Metallfolien auf Siliziumwafern abzuscheiden, um andere elektronische Elemente zu Schaltkreisen zu verbinden. 2 Beschichtungsindustrie: Titan-Sputtertargets werden für die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) und die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) verwendet, um effiziente und langlebige Beschichtungen herzustellen. Diese Beschichtungen werden in vielen Bereichen eingesetzt, darunter Sonnenschutzglas auf Gebäuden, verschleißfeste Hartfolien für Automobilteile und korrosionsbeständige Folien für fossile Energieanlagen. 3 Optische Industrie: In der optischen Industrie werden Titan-Sputtertargets zur Herstellung von Folien mit Antireflex-, Verschleiß- und Oxidationsschutzeigenschaften verwendet. Zu den spezifischen Anwendungen gehören Brillenbeschichtungen, Kameralinsenelemente, Teleskope, Mikroskope und andere Präzisionsinstrumente. 4 Speichergeräte: Bei Datenspeichern, wie z. B. Festplatten, besteht die magnetische Schicht der Festplatte in der Regel aus einer dünnen Titanschicht mit guter thermischer Stabilität und Verschleißfestigkeit.

Qualitätskontrolle

Unsere Produkte implementieren das strengste Qualitätsmanagementsystem. Es gibt strenge Inspektionsstandards für eingehende Materialien, Prozesse, Endkontrollen und Werksinspektionen. Für die unqualifizierte Verarbeitung werden strenge Isolationsmaßnahmen ergriffen, um zu verhindern, dass unqualifizierte Produkte in den nächsten Prozess gelangen. Die Muster werden den Kunden gemäß den Kundenanforderungen zur erneuten Inspektion zur Verfügung gestellt.

Verpackung und Lagerung

In der Regel innen vakuumverpackt und extern kartonverpackt, kann es auch nach Kundenwunsch verpackt werden. Es sollte an einem trockenen und gut belüfteten Ort gelagert werden, fern von Wasser und Feuerquellen, und Feuchtigkeit und Hitze vermeiden.