| Produkt-ID | Formel | Purity | Dimension | Quantity | Preis in € | Anfrage |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 140700ST001 | Si3N4 | 99.5% | Ø 25.4mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST002 | Si3N4 | 99.5% | Ø 25.4mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST003 | Si3N4 | 99.9% | Ø 25.4mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST004 | Si3N4 | 99.9% | Ø 25.4mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST005 | Si3N4 | 99.5% | Ø 50.8mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST006 | Si3N4 | 99.5% | Ø 50.8mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST007 | Si3N4 | 99.9% | Ø 50.8mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST008 | Si3N4 | 99.9% | Ø 50.8mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST009 | Si3N4 | 99.5% | Ø 76.2mm x 3.175 mm | 1 | 206.00 | Inquire |
| 140700ST010 | Si3N4 | 99.5% | Ø 76.2mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST011 | Si3N4 | 99.9% | Ø 76.2mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST012 | Si3N4 | 99.9% | Ø 76.2mm x 6.35 mm | 1 | 220.00 | Inquire |
| 140700ST013 | Si3N4 | 99.5% | Ø 101.6mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST014 | Si3N4 | 99.5% | Ø 101.6mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST015 | Si3N4 | 99.9% | Ø 101.6mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST016 | Si3N4 | 99.9% | Ø 101.6mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST017 | Si3N4 | 99.5% | Ø 203.2mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST018 | Si3N4 | 99.5% | Ø 203.2mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST019 | Si3N4 | 99.9% | Ø 203.2mm x 3.175 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST020 | Si3N4 | 99.9% | Ø 203.2mm x 6.35 mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST021 | Si3N4 | 99.5% | 300mm x 186mm x 6mm | 1 | POR | Inquire |
| 140700ST022 | Si3N4 | 99.9% | 378.2mm x 121.15mm x 6.35mm | 1 | 732.00 | Inquire |
| 140700ST023 | Si3N4 | 99.9% | 400mm x 289mm x 10mm | 1 | POR | Inquire |
Das Siliziumnitrid-Sputtertarget ist ein hochtemperaturstabiles Material. Aufgrund seines hohen Schmelzpunkts, seiner hohen Härte, seiner hohen Festigkeit, seiner hohen Wärmeleitfähigkeit und seines niedrigen Wärmeausdehnungskoeffizienten wird es häufig in der Luft- und Raumfahrt, Elektronik, Energie, chemischen Industrie, Nanoverarbeitung und anderen Industriebereichen eingesetzt. VIMATERIAL bietet auch Siliziumnitrid-Pulver und Siliziumnitrid-Granulate an. Wir bieten Siliziumnitrid-Sputtertargets mit einer Reinheit von 99,5 % und 99,9 % an. Sein Durchmesser reicht von 1 Zoll bis 8 Zoll rund, von 0,125 Zoll dick bis 0,25 Zoll dick. (Abmessungen, Reinheitsspezifikationen usw. können nach Bedarf angepasst werden)
Bei der Herstellung von Siliziumnitrid-Sputtertargets sind mehrere Indikatoren wie hohe Reinheit, gute Kristallinität und gleichmäßige Dichte erforderlich, um bestimmte Anforderungen zu erfüllen. Das Vorhandensein β Phase beeinflusst die physikalischen Eigenschaften und filmbildenden Eigenschaften von Siliziumnitrid und verringert die Qualität des Materials. Daher ist es bei der Herstellung von Siliziumnitrid-Targets notwendig, die physikalischen Bedingungen und die chemischen Reaktionsbedingungen zu kontrollieren, um die Bildung β Phase zu vermeiden. Daher können Siliziumnitrid-Targets keine β Phase haben.
Halbleiterherstellung : Siliziumnitrid-Sputtertarget wird häufig als Isoliermaterial in der Halbleiterherstellung verwendet, das unnötige Reaktionen zwischen Siliziumoxid und anderen Substanzen wirksam verhindern und die Stabilität der Halbleiterleistung gewährleisten kann. Dünnschichtvorbereitung: Siliziumnitrid-Sputtertargets werden häufig in der Dünnschichtvorbereitung eingesetzt, insbesondere in den Bereichen Solarzellen, Halbleiterbauelemente, Anzeigegeräte und LED-Herstellung. Siliziumnitrid-Folie hat eine gute optische, elektrische, mechanische und chemische Stabilität und ist ein ideales Material für die Herstellung hochwertiger Siliziumnitrid-Schichten.Hartmetall: Das Siliziumnitrid-Sputtertarget eignet sich gut bei der Herstellung von Hartmetall und eignet sich für Szenen, die Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit erfordern, wie z. B. Automobilteile und Schlüsselteile der Luft- und Raumfahrt.Hitzebeständige Materialien : Siliziumnitrid hat eine ausgezeichnete Hitzebeständigkeit und wird häufig in hitzebeständigen Materialien in Hochtemperaturumgebungen verwendet, wie z. B. hitzebeständigen Materialien für Raketentriebwerke und Kernreaktoren . Elektromagnetische Abschirmung: Im elektromagnetischen Feld kann Siliziumnitrid als elektromagnetisches Abschirmmaterial verwendet werden, um elektromagnetische Strahlung effektiv zu absorbieren und abzuschirmen und elektromagnetische Interferenzen zu verhindern. Biomedizin : Das Siliziumnitrid-Sputtertarget wird aufgrund seiner guten Biokompatibilität und mechanischen Eigenschaften zur Herstellung künstlicher Gelenke und Zahnfüllungen verwendet, um sicherzustellen, dass es in der menschlichen Umgebung keine unerwünschten Reaktionen hervorruft. Nanotechnologie : Siliziumnitrid kann auch zur Herstellung verschiedener nanostrukturierter Materialien und Geräte wie Nanoröhren, Nanodrähte und Quantenpunkte usw. verwendet werden.
Innere Vakuumverpackung, äußere Holzkistenverpackung.
Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.
Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.
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