Ruthenium-Metall

Ruthenium-Sputtertargets sind ein Schlüsselmaterial für Dünnschichtabscheidungsverfahren wie die physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) und die chemische Gasphasenabscheidung (CVD).

VIMATERIAL bietet hochreine Rutheniumtargets, Rutheniumpartikel und Rutheniumpulver an. Kundenspezifische Größen und Partikelgrößen sind auf Anfrage erhältlich. Kontaktieren Sie uns für weitere Informationen.

Eigenschaften

Äußeres Erscheinungsbild: Silbrig-grau bis gebrochen-weiß.

Schmelzpunkt: 2310°C, ausgezeichnete thermische Stabilität.

Dichte: 12,45 g/m³, gewährleistet dichte und gleichmäßige Filme.

Elektrische Leitfähigkeit: Hohe Leitfähigkeit für stabile Sputtering-Leistung.

Thermische Ausdehnung: Niedriger Koeffizient, gewährleistet Dimensionsstabilität.

Anwendungen von Ruthenium-Sputtering-Targets

Halbleiterindustrie: Ruthenium-Sputter-Targets werden zur Herstellung von leitenden und Barriere-Dünnschichten in Halbleiterbauelementen verwendet und ermöglichen eine höhere Integration, eine bessere Leistung und eine höhere Zuverlässigkeit der Bauelemente.

Optische Anwendungen: In optischen Beschichtungen wie Antireflexions- und Reflexionsschichten bieten Ruthenium-Dünnschichten eine hervorragende optische Stabilität und Haltbarkeit, wodurch die Effizienz und Lebensdauer von Geräten verbessert wird.

Chemische Industrie: In Katalysatorsystemen oder bei der Herstellung von Katalysatoren bietet Ruthenium eine hervorragende katalytische Aktivität, die die Reaktionsgeschwindigkeit, Selektivität und Energieeffizienz unter milderen Bedingungen erhöht.

Datenspeicherung: Wird in Dünnfilmschichten für Datenspeichergeräte wie Festplattenlaufwerke verwendet und trägt zu einer höheren Speicherdichte und schnelleren Lese-/Schreibleistung bei.

Verpackung und Lagerungsbedingungen

Das Produkt wird in versiegelten, kontaminationsfreien Behältern mit schützenden Polstermaterialien verpackt, um mechanische Beschädigungen zu verhindern und die Reinheit und Integrität des Materials während des Transports und der Handhabung zu gewährleisten.

Lagern Sie das Produkt in einer dicht verschlossenen Verpackung in einer kühlen, trockenen und gut belüfteten Umgebung, fern von Feuchtigkeit, Wärmequellen und korrosiven Substanzen, um die Stabilität und Qualität des Produkts zu erhalten.

FAQs

Q1: Was ist ein Ruthenium-Sputtering-Target?

A: Ein Ruthenium-Sputter-Target ist ein hochreines Metallmaterial, das in Dünnschicht-Beschichtungsprozessen verwendet wird. Es dient als Ausgangsmaterial in PVD-Anlagen (Physical Vapor Deposition), um gleichmäßige Beschichtungen auf Rutheniumbasis auf verschiedenen Substraten zu erzeugen.

F2: Wofür wird ein Ruthenium-Sputtering-Target verwendet?

A: Ruthenium-Sputtertargets werden in der Halbleiterherstellung, bei optischen Beschichtungen, Datenspeichern und fortschrittlichen elektronischen Komponenten zur Herstellung von leitfähigen, barrierefreien und funktionalen Dünnschichten mit hoher Stabilität und Leistung eingesetzt.

F3: Wie bestelle ich ein Ruthenium-Sputter-Target?

A: Sie können eine Bestellung aufgeben, indem Sie kontakt zu unserem Vertriebsteam mit den von Ihnen gewünschten Spezifikationen, einschließlich Reinheit, Größe, Form und Anwendung. Maßgeschneiderte Lösungen und technische Unterstützung sind auf Anfrage ebenfalls erhältlich.