Das Holmiumoxid-Sputtertarget ist eine Art Schlüsselmaterial, das beim Magnetron-Sputtern und anderen Beschichtungstechnologien verwendet wird und aus Holmiumoxid als Hauptbestandteil durch eine spezielle Verarbeitungstechnologie hergestellt wird, um eine dünne Holmiumoxidschicht auf dem Substrat abzuscheiden, und in den Bereichen Optik, Elektronik, neue Energie und andere Schlüsselmaterialien weit verbreitet ist.
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Summenformel: Ho₂O₃
Molekulargewicht: ca. 377,86 g/mol
Aussehen: hellgelbe bis gelblich-braune, stückige Keramik mit glatter und dichter Oberfläche.
Dichte: 8,36 g/cm³ bei Raumtemperatur, Keramikmaterial mit hoher Dichte.
Schmelzpunkt: ca. 2415°C
Siedepunkt: ca. 3900 ° C, flüssiger Zustand bei hohen Temperaturen verflüchtigt sich langsam.
Kristallstruktur: kubisches Kristallsystem Sc₂O₃-Struktur (defekte Fluoritstruktur) bei Raumtemperatur, Raumgruppe Ia3, Gitterkonstante ca. 1,06 nm.
Chemische Stabilität: Bei normaler Temperatur und normalem Druck hat es eine gute chemische Stabilität und reagiert nicht leicht mit Sauerstoff und Feuchtigkeit in der Luft.
Gute Filmbildung: Beim Sputterprozess kann ein gleichmäßiger und dichter Film gebildet werden, der auf die gute Adhäsion und Kohäsion von Holmiumoxid-Atomen nach dem Sputtern zurückzuführen ist, und schnell eine stabile Filmstruktur auf der Oberfläche des Substrats bilden kann. Diese gute Filmbildung ist sehr wichtig für die Herstellung von hochwertigen Dünnschichtbauelementen für Optik und Elektronik.
Lasermaterialien: Es kann als Dotierung für Lasermaterialien zur Herstellung von Festkörperlasern verwendet werden. Durch das Sputtern einer dünnen Schicht aus Holmiumoxid kann eine gleichmäßige Dotierungsschicht auf einem Substratmaterial wie einem Laserkristall oder Glas gebildet werden, wodurch die Leistung und Effizienz des Lasers verbessert wird.
Optische Beschichtungen: Beschichtungen, die für optische Linsen, optische Fenster und andere optische Komponenten verwendet werden, um deren optische Eigenschaften zu verbessern.
Optische Speicherung: Holmiumoxid-Sputtertargets werden zur Aufbereitung optischer Speichermedien im Bereich der optischen Speicherung eingesetzt.
Halbleiterfertigung: Holmiumoxid-Sputtertargets werden verwendet, um Dünnschichtstrukturen für Halbleiterbauelemente während der Halbleiterherstellung vorzubereiten.
Jede Produktcharge unterliegt einem strengen Qualitätskontrollsystem, das während des gesamten Prozesses von Forschung und Entwicklung über die Produktion bis hin zum Transport und Kundendienst verwaltet wird und sich strikt an die 8D-Richtlinie hält Problemlösungsverfahren zur Untersuchung von Abweichungen und zur vollständigen Einhaltung der Anforderungen der Europäischen Union, um die Bereitstellung hochwertiger Produkte und Dienstleistungen zu gewährleisten.
Die Produkte werden vakuumverpackt und während des Transports durch spezielle Boxen geschützt, um einen sicheren Transport zu gewährleisten.
Holmiumoxid-Targets müssen versiegelt und in einer trockenen, kühlen Umgebung gelagert werden, wobei der Kontakt mit Luft, Feuchtigkeit und korrosiven Substanzen vermieden wird, wobei die Temperatur bei Raumtemperatur und einer Luftfeuchtigkeit ≤ 40 % RH geregelt wird, um oxidative Verschlechterung zu verhindern.
Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.
Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.
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