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Chemical Name:
Hafniumnitrid
Formula:
HfN
Product No.:
720700
CAS No.:
25817-87-2
EINECS No.:
247-282-3
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

Produkt-ID Formel Purity Dimension Quantity Preis in € Anfrage
720700ST001 HfN 99.5% (Hf+Zr) Ø 50.8 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
720700ST002 HfN 99.5% (Hf+Zr) Ø 76.2 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
Produkt-ID
720700ST001
Formel
HfN
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
720700ST002
Formel
HfN
Purity
99.5% (Hf+Zr)
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Preis in €
POR

Produktübersicht Hafniumnitrid-Sputtertargets

Hafniumnitrid-Sputtertargets bestehen aus hochreinem Hafniumnitrid und finden breite Anwendung in der Dünnschichtabscheidung, Beschichtungstechnik und Halbleiterindustrie. Die Hafniumnitrid-Sputtertargets von VImaterial zeichnen sich durch hervorragende chemische Stabilität und Härte aus und eignen sich daher für eine Vielzahl hochpräziser Dünnschichtanwendungen. Sie gewährleisten eine gleichmäßige Sputterrate bei der Dünnschichtabscheidung und ermöglichen so eine präzise Kontrolle der Dicke und Qualität des abgeschiedenen Materials.

Produktvorteile

Hochreines Material: Unsere Targets werden aus hochreinen Rohstoffen hergestellt. Dadurch werden beim Sputterprozess keine Verunreinigungen freigesetzt und hochwertige Schichten erzeugt.

Hervorragende thermische Stabilität: Unsere Targets bieten eine hohe Wärmeleitfähigkeit und hohe Temperaturbeständigkeit. Dies ermöglicht einen stabilen Betrieb in Hochtemperaturumgebungen und eignet sich für Abscheidungsprozesse unter verschiedenen extremen Bedingungen.

Hohe chemische Stabilität: Unsere Targets sind äußerst oxidations- und korrosionsbeständig und bleiben in einer Vielzahl chemischer Umgebungen langfristig stabil.

Breites Anwendungsspektrum: Geeignet für Hartbeschichtungen, Funktionsbeschichtungen, optische Beschichtungen, Halbleiter-Dünnschichten und andere Anwendungen. Erfüllt die Anforderungen anspruchsvoller Dünnschichtabscheidungsverfahren.

Technische Daten

Parameter Spezifikationen
Chemische Formel HfN
Reinheit 99,5 %
Durchmesser und Dicke Kundenspezifisch
Dichte 12,5 g/cm³
Härte 1600 HV
Wärmeleitfähigkeit 14 W/m·K
Betriebstemperatur 1000 °C (bis 1500 °C)
Sputterverfahren DC-Sputtern / HF-Sputtern / Pulslasersputtern
Kristallstruktur Kubikflächenzentriert (FCC)
Verbindungsverfahren Metallbonden / Leitfähiger Klebstoff / Backplane-Löten
Backplane-Optionen Kupfer-Backplane / Aluminium-Backplane / Edelstahl-Backplane

Anwendungen

Hartbeschichtungen und Funktionsbeschichtungen: Dank ihrer hervorragenden Härte und Verschleißfestigkeit eignen sich diese Schichten für Oberflächenbeschichtungen von Schneidwerkzeugen, Formen, elektronischen Bauteilen und anderen Anwendungen und verbessern die Materialhaltbarkeit und Kratzfestigkeit.

Optische Beschichtungen: Hafniumnitrid-Schichten können in Hochtemperatur-Reflexbeschichtungen, optischen Geräten, Laserreflektoren und anderen optischen Komponenten eingesetzt werden und bieten verbesserte Reflektivität und Lichtbeständigkeit.

Halbleiterindustrie: Weit verbreitet als strahlungsresistente oder elektrische Isolationsschichten in Halbleiterbauelementen, insbesondere in der Leistungselektronik, MEMS und Optoelektronik.

Batterietechnologie: Hafniumnitrid-Dünnschichten können in Lithiumbatterien, Superkondensatoren und anderen Energiespeichern eingesetzt werden und verbessern deren Leitfähigkeit und Stabilität und verlängern so ihre Lebensdauer.

Warum VIMATERIAL?

Hochwertige Garantie: Jedes von uns gelieferte Hafniumnitrid-Sputtertarget wird strengen Qualitätsprüfungen unterzogen, um seine Stabilität und Zuverlässigkeit in einer Vielzahl von hochpräzisen Anwendungen zu gewährleisten.

Anpassung: Basierend auf Ihren spezifischen Anforderungen können wir maßgeschneiderte Dienstleistungen in unterschiedlichen Größen und Reinheiten anbieten, um die spezifischen Anforderungen verschiedener Sputteranlagen zu erfüllen.

Wettbewerbsfähige Preise: Als professioneller Hersteller von Sputtertargets bietet VIMATERIAL seinen Kunden kostengünstige Produkte und gewährleistet eine langfristige, stabile Versorgung.

Technischer Support: Unser technisches Team bietet umfassende Support- und Beratungsleistungen, um Kunden bei der Lösung verschiedener Probleme im Zusammenhang mit der Verwendung von Sputtertargets zu unterstützen und einen reibungslosen Ablauf zu gewährleisten.

Häufig gestellte Fragen (FAQs)

F1: Sind Hafniumnitrid-Targets unter Hochtemperaturbedingungen stabil?

A1: Ja, Hafniumnitrid-Targets weisen eine ausgezeichnete thermische Stabilität auf und können bei Temperaturen bis zu 1000 °C stabil betrieben werden. Sie eignen sich daher für Hochtemperatur-Dünnschichtabscheidungsanwendungen.

F2: Kann ich die Größe meiner Sputtertargets anpassen? Kann ich meine Produkte individuell gestalten?

A2: Ja, VIMATERIAL bietet kundenspezifische Größen an, um den Anforderungen verschiedener Sputteranlagen gerecht zu werden.

F3: Kann VIMATERIAL meine Produkte individuell anpassen?

A3: Unser professionelles technisches Team unterstützt Sie bei der Produktanpassung. Bitte teilen Sie uns relevante Informationen oder Anregungen zur Bewertung mit.

F4: Welche Vorsichtsmaßnahmen sind beim Sputtern von Hafniumnitrid-Targets zu beachten?

A4: Beim Sputtern von Hafniumnitrid sind folgende Punkte zu beachten:

1. Wahl der Sputteratmosphäre: Verwenden Sie Stickstoff (N₂) oder Argon (Ar) als Sputtergas. Stickstoff unterstützt die Bildung eines stabilen Nitridfilms auf dem Hafniumnitrid-Target.

2. Regelung der Sputterleistung: Halten Sie eine angemessene Sputterleistung ein, um eine Überhitzung oder Verdampfung der Targetoberfläche zu vermeiden, die die Filmqualität beeinträchtigen könnte.

3. Substrattemperatur: Die Substrattemperatur muss in einem angemessenen Bereich gehalten werden, um die Qualität und Gleichmäßigkeit des Films zu gewährleisten und übermäßige Kristallisation oder Sprödbruch zu vermeiden.

4. Reinigung der Targetoberfläche: Stellen Sie sicher, dass die Targetoberfläche frei von Verunreinigungen ist. Eine Reinigung kann vor der Verwendung durchgeführt werden, um die Sputterleistung nicht zu beeinträchtigen.

5. Überwachung der Sputterrate: Halten Sie eine stabile Sputterrate ein, um eine gleichmäßige Filmdicke zu gewährleisten und die Beschichtung an unterschiedliche Anforderungen anzupassen.

Verpackung und Versand

Verpackung

Hafniumnitrid-Sputtertargets werden vor dem Versand streng nach internationalen Standards verpackt. Wir verwenden antistatische Plastiktüten, Schaumstoff und hochfeste Umkartons, um die Targets vor Transportschäden zu schützen. Die Targetoberfläche ist zusätzlich mit einer Schutzbeschichtung versehen, um Kratzer und andere mechanische Beschädigungen während des Transports zu vermeiden.

Transport

Wir bieten verschiedene Versandoptionen an, darunter See-, Luft- und Landtransport, um eine pünktliche und sichere Lieferung zu gewährleisten. Alle Transportverfahren entsprechen streng den internationalen Versandvorschriften, um sicherzustellen, dass die Hafniumnitrid-Targets bei der Lieferung in optimalem Zustand sind.

Lagerung

Hafniumnitrid-Targets sollten trocken und kühl gelagert werden. Vermeiden Sie direkten Kontakt mit Feuchtigkeit, korrosiven Gasen oder hohen Temperaturen, um ihre Leistung und Qualität nicht zu beeinträchtigen.

Empfohlene Produkte

Hafniumoxid (HfO2)-Sputtertargets: Sie werden in hochtemperaturbeständigen, hitzebeständigen Beschichtungen, Kondensatoren und optischen Dünnschichten eingesetzt und bieten hervorragende elektrische Eigenschaften und chemische Stabilität.

Siliziumnitrid (Si3N4)-Sputtertargets: Geeignet für die Herstellung von elektronischen Bauteilen, Solarzellen und optischen Geräten, bieten sie einen hohen spezifischen Widerstand und hohe Verschleißfestigkeit.

Tantalnitrid (TaN)-Sputtertargets: Einsatz in der Halbleiterindustrie, für Dünnschichtwiderstände und integrierte Schaltkreise.

Berichte und technische Dokumentation

Wir bieten umfassende technische Dokumentationen zu Hafniumnitrid-Sputtertargets, einschließlich ausführlichem Analysezertifikat (COA), technischem Datenblatt (TDS) und Sicherheitsdatenblatt (MSDS). Sie können die Dokumentation direkt von der Produktseite herunterladen oder uns eine Nachricht hinterlassen. Wir erstellen Ihnen einen vollständigen, auf Ihre Anforderungen zugeschnittenen Produktbericht. Auf Anfrage stellen wir Ihnen außerdem Muster zur Überprüfung durch unabhängige Prüflabore zur Verfügung, um die vollständige Konformität und Zuverlässigkeit zu gewährleisten.

Empfohlenes Produkt

QUALITÄTSSICHERUNG

Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.

Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.

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