Il monossido di silicio è un composto inorganico con la formula chimica SiO. È un composto composto da elementi di silicio e ossigeno con un peso molecolare di 60,0845. Il SiO è una polvere solida marrone con un alto punto di fusione e punto di ebollizione. È un composto relativamente stabile, ma può reagire con alcune sostanze ad alte temperature.
Aspetto: polvere amorfa da marrone nero a loess Punto di fusione: 1702°C Punto di ebollizione: 1880°C Densità: 2,13 g/cm
Insolubile in acqua. Può essere sciolto in un acido misto di acido fluoridrico diluito e acido nitrico e rilasciare tetrafluoruro di silicio e generare polvere di biossido di silicio bianco quando riscaldato in aria.
1. Materiali semiconduttori: poiché il SiO ha un’elevata purezza ed eccellenti proprietà fisiche, è un’importante materia prima per la preparazione di materiali semiconduttori. Mediante drogaggio con altri elementi, le proprietà conduttive del SiO possono essere regolate per soddisfare le esigenze di diversi dispositivi elettronici. 2. Materiali ottici: il SiO ha un’elevata trasparenza e buone proprietà ottiche, quindi viene spesso utilizzato come materiale per la preparazione di lenti ottiche, prismi e altri componenti ottici. 3. Materiali ceramici: il SiO è anche un componente importante per la preparazione di ceramiche ad alte prestazioni. Questi materiali ceramici hanno proprietà eccellenti come la resistenza alle alte temperature e alla corrosione e sono ampiamente utilizzati nel settore aerospaziale, nella produzione automobilistica e in altri campi.
Attualmente, ci sono due metodi principali per preparare il SiO: la deposizione chimica da vapore e il metodo sol-gel. 1. Metodo di deposizione chimica da vapore: sotto una certa temperatura e pressione, la fonte di silicio e la fonte di ossigeno vengono convertite in monossido di silicio attraverso una reazione chimica e depositate sul substrato. Questo metodo può preparare film di monossido di silicio di alta purezza e alta qualità. 2. Metodo sol-gel: sciogliendo la fonte di silicio in un solvente per formare un sol, e quindi sottoponendosi a fasi come la gelificazione, l’essiccazione e il trattamento termico, si ottiene infine polvere di monossido di silicio o materiale sfuso. Questo metodo è semplice nel processo, a basso costo e adatto per la produzione su larga scala.
Il SiO è un tipico materiale isolante e non ha la conduttività dei materiali semiconduttori. Sebbene il monossido di silicio sia ampiamente utilizzato nel campo dell’elettronica per la produzione di strati isolanti e isolanti nei circuiti integrati, non è di per sé un materiale semiconduttore.
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