Come realizzare il target di sputtering?
I target di sputtering sono materiali utilizzati per la deposizione di film sottili. La tecnologia sputtering viene utilizzata per spruzzare atomi o molecole di materiale
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I target di sputtering sono materiali utilizzati per la deposizione di film sottili. La tecnologia sputtering viene utilizzata per spruzzare atomi o molecole di materiale
La polvere di zirconia stabilizzata con ittrio (YSZ) viene utilizzata come materiale di supporto ceramico nella sintesi di diamanti ad alta temperatura e alta pressione (HPHT). In condizioni HPHT particolarmente impegnative, la consistenza dei componenti