Base di conoscenza

Nel campo della ricerca scientifica, trovare un materiale che combini proprietà metalliche e ceramiche è stato a lungo un sogno per gli scienziati. Il materiale Ti3AlC2/MXene che presentiamo oggi è proprio un’esistenza straordinaria. Non solo

Cos’è il germanio metallico? Il germanio è un elemento chimico con il simbolo Ge, numero atomico 32, peso atomico 72,64, e si trova nel 4° periodo e gruppo IVA nella tavola periodica degli elementi chimici.

Il reattore idrotermale è un piccolo reattore comunemente utilizzato nei laboratori chimici. È un contenitore chiuso in grado di decomporre sostanze insolubili. Può essere utilizzato per il pretrattamento dei campioni nella spettroscopia di assorbimento atomico

Il tungsteno è il metallo con il punto di fusione più alto, che è di 3422 °C. Viene utilizzato principalmente per realizzare filamenti e acciaio legato da taglio ad alta velocità, stampi super duri e

Il nitruro di boro è un cristallo composto da atomi di azoto e boro, con formula molecolare BN, peso molecolare 24,81, composizione chimica 43,6% boro e 56,4% azoto, densità teorica 2,27g/cm3. La polvere di nitruro

La lega di niobio C103 è una lega a base di niobio ad alte prestazioni ampiamente utilizzata nel settore aerospaziale e nelle applicazioni ad alta temperatura. È composta principalmente da niobio (Nb) con elementi di

YSZ (ytria – Zirconia stabilizzata) è un materiale ceramico composto da biossido di zirconio (ZrO₂) stabilizzato da ittrio (y₂O₃). Aggiungendo ittrio, l’intervallo di temperatura di transizione di fase del biossido di zirconio viene modificato per

I bersagli di sputtering sono materiali utilizzati per preparare film sottili. Sono utilizzati principalmente nel processo di sputtering della tecnologia di deposizione fisica da vapore (PVD). Come fonte di materiali, i bersagli dello sputtering sono

Il bersaglio per sputtering è una tecnologia di deposizione fisica da vapore. Si tratta di un processo in cui gli ioni generati da una sorgente ionica vengono accelerati e raccolti nel vuoto per formare un

VI HALBLEITERMATERIAL GmbH offre una gamma completa di materiali di evaporazione ad alta purezza e ad alte prestazioni. Questi materiali sono fondamentali per ottenere le proprietà di rivestimento richieste. Il nostro inventario comprende una varietà

I target di sputtering sono materiali utilizzati per la deposizione di film sottili. La tecnologia sputtering viene utilizzata per spruzzare atomi o molecole di materiale da bersagli solidi e quindi formare film sottili su substrati.