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Chemical Name:
Oxyde de hafnium
Formula:
HfO2
Product No.:
720800
CAS No.:
12055-23-1
EINECS No.:
235-013-2
Form:
Powder
HazMat:
ID du produit Formule Purity Dimension Quantity Prix en € Enquête
720800PD001 HfO2 99.9% (Zr< 2wt%) -200 Mesh 100g 466.00 Inquire
720800PD002 HfO2 99.95% (Zr<0.5wt%) -200 Mesh 100g 500.00 Inquire
ID du produit
720800PD001
Formule
HfO2
Purity
99.9% (Zr< 2wt%)
Dimension
-200 Mesh
Quantity
100g
Prix en €
466.00
ID du produit
720800PD002
Formule
HfO2
Purity
99.95% (Zr<0.5wt%)
Dimension
-200 Mesh
Quantity
100g
Prix en €
500.00

Oxyde de hafnium est une poudre cristalline blanche composée d’éléments de hafnium et d’oxygène, avec un point de fusion élevé, une grande dureté, une bonne stabilité chimique, une constante diélectrique élevée, etc. Elle est largement utilisée dans les semi-conducteurs, l’optique, les matériaux à haute température, l’industrie nucléaire et bien d’autres domaines.

VIMATERIAL propose de la poudre d’oxyde de hafnium de haute pureté dont la taille des particules est personnalisable. Nous fournissons également des particules d’oxyde d’hafnium et des cibles d’oxyde d’hafnium. Contactez nous pour plus d’informations pour plus d’informations.

Propriétés

Formule chimique : HfO₂

Masse molaire : 210,49 g/mol

Aspect : généralement poudre blanche ou blanc cassé

Densité : 9,68 g/cm³

Point de fusion : 2810°C

Point d’ébullition : 5400°C ;

Bande interdite : 5,3 à 5,7 eV, isolant électrique ;

Indice de réfraction : élevé dans la région du proche ultraviolet à l’infrarouge moyen, par exemple 2,13 à 1700 nm ;

Coefficient de dilatation thermique : faible

Conductivité thermique : 1,1 W/m-K

Module d’Young : 57 GPa

Résistivité électrique : élevée, typiquement 9 × 10⁹ Ω-m.

Applications de la poudre d’oxyde d’hafnium

Domaine des semi-conducteurs

  • Diélectrique de grille : l’oxyde de hafnium peut remplacer le SiO₂ dans les MOSFET, ce qui permet d’obtenir des dispositifs plus petits, plus rapides et plus intégrés.
  • Dispositifs de mémoire : Sa propriété ferroélectrique permet de l’utiliser dans les mémoires non volatiles comme la FeRAM.

Domaine optique

  • Revêtements optiques : Améliorent la transmission de la lumière, réduisent les reflets et l’éblouissement et assurent une protection contre les UV.
  • Matériaux pour lasers : Utilisés dans les composants des lasers proches de l’UV pour de meilleures performances.

Céramiques à haute température

  • Matériaux réfractaires : Conviennent pour les fours, les creusets et les revêtements de barrière thermique en raison de leur résistance élevée à la chaleur.
  • Outils de coupe : Améliore la dureté et la résistance à l’usure pour l’usinage de matériaux durs.

Domaine chimique

  • Catalyseurs : Agit comme catalyseur ou support pour améliorer l’efficacité et la sélectivité des réactions.

Autres domaines

  • Revêtements antiradiation : Protection dans les environnements radioactifs.
  • Biomédical : Utilisation potentielle dans les matériaux dentaires et médicaux.
  • Aérospatiale : Utilisé pour les composants et les revêtements résistants à l’usure et aux températures élevées.

Emballage et stockage

Emballage :

La poudre d’oxyde de hafnium est généralement conditionnée en double couche (sac intérieur en polyéthylène + sac extérieur en feuille d’aluminium ou fût en plastique) afin d’éviter toute absorption d’humidité ou réaction avec des impuretés en suspension dans l’air. Un déshydratant doit être inclus, et les informations sur le produit, le numéro de lot et les précautions à prendre doivent être clairement indiqués sur l’emballage extérieur afin de garantir la sécurité et la traçabilité pendant le transport et l’utilisation.

Stockage :

La poudre d’oxyde de hafnium doit être stockée dans un environnement sec, frais et bien ventilé, à l’abri de l’humidité, des températures élevées et de la lumière directe du soleil, et à l’écart des substances corrosives telles que les acides et les alcalis. Pendant le stockage, l’emballage doit rester scellé pour éviter l’absorption d’humidité, la formation de grumeaux ou la contamination.

FAQ

Q1 : À quoi sert l’oxyde de hafnium ?

R : L’oxyde de hafnium (HfO₂) est un composé inorganique important. En raison de sa section transversale élevée d’absorption des neutrons thermiques, c’est un matériau clé pour les barres de contrôle des réacteurs nucléaires et il a également de nombreuses applications dans les semi-conducteurs, l’optique et les technologies de mémoire avancées.

Énergie nucléaire et ingénierie des hautes températures : Barres de contrôle des réacteurs nucléaires et matériaux de protection, matériaux réfractaires et de revêtement à haute température, préparation et précurseurs du métal hafnium.

Semi-conducteurs et microélectronique : Couches diélectriques de grille de transistor, applications de mémoire, autres composants électroniques.

Optique et matériaux multifonctionnels : Revêtements optiques et matériaux pour lasers, céramiques et catalyseurs, matériaux fonctionnels spéciaux.

Q2 : Quelle est la différence entre Al2O3 et HfO2 ?

R : Al₂O₃ (oxyde d’aluminium) et HfO₂ (oxyde de hafnium) diffèrent principalement par leurs propriétés diélectriques et leurs applications. L’Al₂O₃ a une constante diélectrique plus faible mais une excellente qualité d’interface, une grande stabilité thermique et de faibles fuites, ce qui le rend approprié pour la passivation et les couches d’interface. HfO₂ a une constante diélectrique beaucoup plus élevée, ce qui est bénéfique pour la mise à l’échelle CMOS avancée et les dispositifs à haute densité, mais il présente des fuites relativement plus importantes et une stabilité thermique plus faible. Dans la pratique, Al₂O₃ est utilisé pour la stabilité et le contrôle de l’interface, tandis que HfO₂ est utilisé pour la performance high-k, et la combinaison des deux permet d’obtenir une meilleure performance globale du dispositif.

Q3 : Qu’est-ce que l’oxyde de hafnium? ?

R : L’oxyde de hafnium (HfO₂) est un composé inorganique composé de hafnium et d’oxygène. Il s’agit d’un matériau fonctionnel important appartenant à la famille des oxydes de métaux de transition. Il possède un point de fusion élevé (environ 2810℃), une grande dureté (dureté de Mohs 6,5-7,5) et une excellente stabilité chimique, étant pratiquement insoluble dans l’eau et la plupart des acides (à l’exception de l’acide fluorhydrique) à température ambiante. Ces propriétés en font un matériau de base pour les matériaux à haute température, les revêtements optiques et les appareils électroniques.

Q4 : Quel est le délai de livraison de la poudre d’oxyde de hafnium ?

R : En stock : Expédition immédiate

Produits standard : Généralement 2-4 semaines

Produits personnalisés : Déterminé en fonction des détails requis

Les exigences particulières peuvent être discutées

Produit recommandé

ASSURANCE QUALITÉ

VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) utilise un système d’assurance qualité rigoureux pour garantir la fiabilité de la qualité de ses produits. Un contrôle de qualité strict est mis en œuvre tout au long de la chaîne de production et, pour les produits défectueux, nous appliquons strictement le principe de la reprise et du remplacement. Chaque lot n’est libéré qu’après avoir passé des tests de spécification détaillés.

Chaque lot de nos matériaux est testé de manière indépendante et, si nécessaire, nous envoyons des échantillons à des entreprises certifiées pour qu’elles les testent. Nous fournissons ces documents et les certificats d’analyse avec l’envoi pour certifier que nos produits répondent aux normes requises.

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