| ID du produit | Formule | Purity | Dimension | Quantity | Prix en € | Enquête |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 140801ST001 | SiO2 | 99.99% | Ø 50.8mm x 3.175mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST002 | SiO2 | 99.995% | Ø 50.8mm x 3.175mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST003 | SiO2 | 99.99% | Ø 76.2mm x 3.175mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST004 | SiO2 | 99.99% | Ø 76.2mm x 6.35mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST005 | SiO2 | 99.995% | Ø 76.2mm x 6.35mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST006 | SiO2 | 99.99% | Ø 101.6mm x 3.175mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST007 | SiO2 | 99.995% | Ø 101.6mm x 3.175mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST008 | SiO2 | 99.995% | Ø 110mm x 14mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST009 | SiO2 | 99.99% | Ø 304.8mm x 6.35mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST010 | SiO2 | 99.99% | 280mm x 200mm x 6mm | 1 | POR | Inquire |
Les cibles de pulvérisation de dioxyde de silicium, dont le composant de base est le dioxyde de silicium (SiO₂), sont utilisées dans les écrans et les applications optiques de semi-conducteurs, de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de dépôt physique en phase vapeur (PVD). VIMATERIAL peut fournir des cibles de pulvérisation de silice sous différentes formes : disques, plaques plates, cibles de pilier, cibles de marche, sur-mesure…
La pureté d’une cible de pulvérisation de silice détermine directement l’application finale et le prix du matériau. Les matériaux en dioxyde de silicium de différents niveaux de pureté ont des exigences différentes pour les processus de production et de purification. Pureté de 99,9 % : Généralement utilisé pour les revêtements optiques de base ou les applications d’affichage bas de gamme avec de faibles exigences. Pureté de 99,99 % : Répond à certains besoins de fabrication de semi-conducteurs et de revêtement optique, et est nettement plus cher que les matériaux de pureté de 99,9 %. Pureté de 99,999 % : adapté aux applications de semi-conducteurs et d’optoélectronique de haute précision, son coût de fabrication est très élevé, car le contrôle des impuretés dans le processus de production est extrêmement strict, l’environnement de production et les exigences en matière d’équipement sont élevés.
La production de cibles d’oxyde de silicium comprend la métallurgie des poudres, le frittage par presse à chaud, le pressage isostatique à chaud (HIP) et d’autres processus. Ces processus déterminent la densité structurelle, la porosité et l’effet filmogène, ce qui affecte directement la qualité et le prix de la cible. Métallurgie des poudres : c’est le processus de base, utilisé pour la production cible conventionnelle. Frittage à chaud : Utilisé pour la production d’objectifs de pureté plus élevée, ce qui améliore la densité et la résistance du matériau. Pressage isostatique à chaud (HIP) : le processus le plus complexe, qui améliore considérablement la densité et l’uniformité de la cible pour les applications industrielles exigeantes.
Fabrication de semi-conducteurs : Les cibles de pulvérisation de dioxyde de silicium ont des applications importantes dans la fabrication de semi-conducteurs et sont couramment utilisées dans la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs tels que les circuits intégrés et les cellules solaires. Sa grande pureté et ses bonnes propriétés d’isolation électrique en font un matériau idéal pour la préparation de couches isolantes pour les dispositifs électroniques et optoélectroniques. Applications optiques : Le dioxyde de silicium est également largement utilisé dans le domaine optique. En raison de sa bonne transparence optique, les cibles en silice conviennent à la préparation de couches antireflets et protectrices pour les composants optiques, et sont particulièrement bonnes dans les régions visibles et certaines zones UV. Fabrication de l’écran : Dans la fabrication d’écrans, les cibles de pulvérisation de dioxyde de silicium sont utilisées dans le dépôt physique en phase vapeur (PVD) et le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) pour la production de films et de revêtements de haute qualité. Autres applications : De plus, les cibles de silice sont utilisées pour préparer des revêtements antireflets, principalement pour les panneaux solaires et les écrans plats. Leur résistance à la chaleur et à la corrosion les rend stables dans une variété d’environnements difficiles, améliorant ainsi la fiabilité et la durée de vie de l’équipement.
Emballage sous vide intérieur, emballage extérieur en carton/caisse en bois.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) utilise un système d’assurance qualité rigoureux pour garantir la fiabilité de la qualité de ses produits. Un contrôle de qualité strict est mis en œuvre tout au long de la chaîne de production et, pour les produits défectueux, nous appliquons strictement le principe de la reprise et du remplacement. Chaque lot n’est libéré qu’après avoir passé des tests de spécification détaillés.
Chaque lot de nos matériaux est testé de manière indépendante et, si nécessaire, nous envoyons des échantillons à des entreprises certifiées pour qu’elles les testent. Nous fournissons ces documents et les certificats d’analyse avec l’envoi pour certifier que nos produits répondent aux normes requises.
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