| ID del producto | Fórmula | Purity | Dimensión | Quantity | Precio en € | Indagación |
|---|---|---|---|---|---|---|
| 140801ST001 | SiO2 | 99.99% | Ø 50.8mm x 3.175mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST002 | SiO2 | 99.995% | Ø 50.8mm x 3.175mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST003 | SiO2 | 99.99% | Ø 76.2mm x 3.175mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST004 | SiO2 | 99.99% | Ø 76.2mm x 6.35mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST005 | SiO2 | 99.995% | Ø 76.2mm x 6.35mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST006 | SiO2 | 99.99% | Ø 101.6mm x 3.175mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST007 | SiO2 | 99.995% | Ø 101.6mm x 3.175mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST008 | SiO2 | 99.995% | Ø 110mm x 14mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST009 | SiO2 | 99.99% | Ø 304.8mm x 6.35mm | 1 | POR | Inquire |
| 140801ST010 | SiO2 | 99.99% | 280mm x 200mm x 6mm | 1 | POR | Inquire |
Los objetivos de pulverización catódica de dióxido de silicio, cuyo componente básico es el dióxido de silicio (SiO₂), se utilizan en pantallas de semiconductores, deposición química de vapor (CVD) y deposición física de vapor (PVD) y aplicaciones ópticas. VIMATERIAL puede suministrar objetivos de pulverización catódica de sílice en diferentes formas: discos, placas planas, objetivos de columna, objetivos escalonados, …
La pureza de un objetivo de pulverización catódica de sílice determina directamente la aplicación final y el precio del material. Los materiales de dióxido de silicio de diferentes niveles de pureza tienen diferentes requisitos para los procesos de producción y purificación. Pureza del 99,9%: Por lo general, se utiliza para recubrimientos ópticos básicos o aplicaciones de pantallas de gama baja con bajos requisitos. Pureza del 99,99%: Satisface algunas necesidades de fabricación de semiconductores y recubrimiento óptico, y es significativamente más caro que los materiales con una pureza del 99,9%. Pureza del 99,999%: adecuado para aplicaciones optoelectrónicas y semiconductoras de alta precisión, su costo de fabricación es muy alto, porque el control de impurezas en el proceso de producción es extremadamente estricto, el entorno de producción y los requisitos del equipo son altos.
La producción de objetivos de óxido de silicio incluye pulvimetalurgia, sinterización por prensado en caliente, prensado isostático en caliente (HIP) y otros procesos. Estos procesos determinan la densidad estructural, la porosidad y el efecto de formación de película del objetivo, lo que afecta directamente la calidad y el precio del objetivo. Pulvimetalurgia: es el proceso básico que se utiliza para la producción de objetivos convencionales. Sinterización por prensado en caliente: Se utiliza para la producción de objetivos de mayor pureza, lo que mejora la densidad y la resistencia del material. Prensado isostático en caliente (HIP): el proceso más complejo, que mejora significativamente la densidad y uniformidad del objetivo para aplicaciones industriales exigentes.
Fabricación de semiconductores: Los objetivos de pulverización catódica de dióxido de silicio tienen aplicaciones importantes en la fabricación de semiconductores y se usan comúnmente en la fabricación de dispositivos semiconductores como circuitos integrados y células solares. Su alta pureza y buenas propiedades de aislamiento eléctrico lo convierten en un material ideal para la preparación de capas aislantes para dispositivos electrónicos y optoelectrónicos. Aplicaciones ópticas: El dióxido de silicio también se usa ampliamente en el campo óptico. Debido a su buena transparencia óptica, los objetivos de sílice son adecuados para la preparación de capas antirreflectantes y protectoras para componentes ópticos, y son particularmente buenos en las regiones visibles y algunas UV. Fabricación de pantallas: En la fabricación de pantallas, los objetivos de pulverización catódica de dióxido de silicio se utilizan en la deposición física de vapor (PVD) y la deposición química de vapor (CVD) para la producción de películas y recubrimientos de alta calidad. Otras aplicaciones: Además, los objetivos de sílice se utilizan para preparar recubrimientos antirreflectantes, principalmente para paneles solares y pantallas planas. Su resistencia al calor y a la corrosión los hace estables en una variedad de entornos hostiles, lo que mejora la confiabilidad y la vida útil del equipo.
Embalaje al vacío interno, embalaje exterior de cartón / caja de madera.
VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) emplea un estricto sistema de garantía de calidad para asegurar la fiabilidad de la calidad de nuestros productos. Se aplica un estricto control de calidad en toda la cadena de producción, y en el caso de productos defectuosos, aplicamos estrictamente el principio de reelaborar y rehacer. Cada lote se libera sólo después de superar pruebas detalladas de especificación.
Cada lote de nuestros materiales se somete a pruebas independientes y, si es necesario, enviamos muestras a empresas certificadas para que las prueben. Proporcionamos estos documentos y certificados de análisis con el envío para certificar que nuestros productos cumplen las normas exigidas.
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