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Das Sputtertarget ist eine physikalische Gasphasenabscheidungstechnologie. Es handelt sich um einen Prozess, bei dem die von einer Ionenquelle erzeugten Ionen beschleunigt und in einem Vakuum gesammelt werden, um einen Hochgeschwindigkeits-Ionenstrahl zu bilden, der die feste
Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH bietet ein umfassendes Sortiment an hochreinen, leistungsstarken Aufdampfmaterialien. Diese Materialien tragen dazu bei, die erforderlichen Beschichtungseigenschaften zu erzielen. Unser Bestand umfasst eine Vielzahl von Formen (z.B. Granulat, Pellets, Schrot, Tabletten, Stücke,
Sputterziel sind Materialien, die für die Dünnschichtabscheidung verwendet werden.Die Sputtertechnologie wird eingesetzt, um Materialatome oder Moleküle von festen Targets zu sputtern und anschließend dünne Schichten auf Substraten zu bilden.Sputterziel werden häufig in der Elektronik- und
