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Chemical Name:
Tantalnitrid
Formula:
TaN
Product No.:
730700
CAS No.:
12033-62-4
EINECS No.:
234-788-4
Form:
Sputtering Target
HazMat:
Produkt-ID Formel Purity Dimension Quantity Preis in € Anfrage
730700ST001 TaN 99.5% Ø 25.4 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
730700ST002 TaN 99.5% Ø 50.8 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
730700ST003 TaN 99.5% Ø 76.2 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
730700ST004 TaN 99.5% Ø 101.6 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
730700ST005 TaN 99.5% Ø 203.2 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
Produkt-ID
730700ST001
Formel
TaN
Purity
99.5%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
730700ST002
Formel
TaN
Purity
99.5%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
730700ST003
Formel
TaN
Purity
99.5%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
730700ST004
Formel
TaN
Purity
99.5%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
730700ST005
Formel
TaN
Purity
99.5%
Dimension
Ø 203.2 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Preis in €
POR

Tantalnitrid-Targets sind ein wichtiges Werkzeug für die Herstellung von Dünnschichtmaterialien.

Grundlegende Informationen:

Chemische Zusammensetzung: Der Hauptbestandteil ist Tantalnitrid (TaN), das aus Tantal (Ta) und Stickstoff (N) besteht.
Kristallstruktur: Im Allgemeinen hexagonale Kristallstruktur, die Gitterkonstante variiert je nach Herstellungsprozess und Bedingungen.
Aussehen: Erscheint meist als gelbbrauner, stückiger Feststoff, nach feiner Verarbeitung ist die Oberfläche relativ flach und glatt.
Dichte: Relativ hohe Dichte, ca. 14,36 g/cm³.
Härte: hohe Härte, mit guter Abriebfestigkeit und Kratzfestigkeit.
Schmelzpunkt: Schmelzpunkt bis 3090°C, mit ausgezeichneter Beständigkeit bei hohen Temperaturen.

Anwendungsbereiche:

Halbleiterindustrie: In der Halbleiterherstellung wird es in Prozessen der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) und der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) verwendet, um leitfähige dünne Schichten, Barriereschichten usw. herzustellen, z. B. spielt es die Rolle, Schaltkreise zu verbinden und die Diffusion von Metallionen in integrierten Schaltkreisen zu verhindern.

Optisches Feld: Es wird verwendet, um optische Filme wie Antireflexfolien, Folien zur Verbesserung der Durchlässigkeit usw. herzustellen, die die Leistung optischer Komponenten verbessern und die Auflösung und Durchlässigkeit optischer Systeme erhöhen können.

Bereich der elektronischen Bauelemente: Es kann zur Herstellung elektronischer Komponenten wie Chip-Widerstände verwendet werden, und Tantalnitrid-Widerstände können der Erosion von Wasserdampf widerstehen und die Stabilität elektronischer Komponenten erhöhen.

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QUALITÄTSSICHERUNG

Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.

Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.

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