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Chemical Name:
Tantalkarbid
Formula:
TaC
Product No.:
730600
CAS No.:
12070-06-3
EINECS No.:
235-118-3
Form:
Sputtering Target
HazMat:

MSDS

TDS

Produkt-ID Formel Purity Dimension Quantity Preis in € Anfrage
730600ST001 TaC 99.5% Ø 25.4 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
730600ST002 TaC 99.5% Ø 50.8 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
730600ST003 TaC 99.5% Ø 76.2 mm x 3.175 mm 1 POR Inquire
730600ST004 TaC 99.5% Ø 101.6 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
730600ST005 TaC 99.5% Ø 203.2 mm x 6.35 mm 1 POR Inquire
Produkt-ID
730600ST001
Formel
TaC
Purity
99.5%
Dimension
Ø 25.4 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
730600ST002
Formel
TaC
Purity
99.5%
Dimension
Ø 50.8 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
730600ST003
Formel
TaC
Purity
99.5%
Dimension
Ø 76.2 mm x 3.175 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
730600ST004
Formel
TaC
Purity
99.5%
Dimension
Ø 101.6 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Preis in €
POR
Produkt-ID
730600ST005
Formel
TaC
Purity
99.5%
Dimension
Ø 203.2 mm x 6.35 mm
Quantity
1
Preis in €
POR

Das Tantalkarbid-Target ist ein wichtiges Sputtertarget mit einem breiten Anwendungsspektrum.

Grundlegende Informationen:

Zusammensetzung: besteht hauptsächlich aus Tantalcarbid (TaC), einer Verbindung, die aus Tantal (Ta) und Kohlenstoff (C) gebildet wird.
Hohe Härte: Mohs-Härte zwischen 9-10, vergleichbar mit der von Diamant.
Hoher Schmelzpunkt: Schmelzpunkt bis zu 3880°C.
Gute elektrische Leitfähigkeit: Geringer Widerstand bei Raumtemperatur, gute elektrische Leitfähigkeit, die die Bildung eines stabilen Plasmas im Sputterprozess begünstigt, verbessern die Sputtereffizienz und die Schichtqualität.
Hohe Dichte: Im Allgemeinen über 14 g/cm³, wodurch das Zielmaterial im Sputterprozess eine gute Stabilität aufweist, ist es nicht leicht, durch Sputterpartikel und Verschiebung oder Verformung beeinträchtigt zu werden.

Anwendungsbereiche:

Halbleiterindustrie: In der Halbleiterfertigung können Tantalkarbid-Targets im PVD-Verfahren (Physical Vapour Deposition) verwendet werden, um dünne Schichten mit spezifischen Funktionen, wie z. B. leitfähige Schichten und Barriereschichten, herzustellen.

Optik: Sie werden bei der Herstellung von optischen Filmen wie Antireflexfolien, Transmissionsverstärkungsfolien usw. verwendet und können die Leistung optischer Komponenten verbessern und die Auflösung und Durchlässigkeit optischer Systeme erhöhen.

Hartbeschichtung: Aufgrund seiner hohen Härte und guten Abriebfestigkeit kann es als hartes Beschichtungsmaterial auf den Oberflächen von Schneidwerkzeugen, Formen usw. verwendet werden, um deren Lebensdauer und Schneidleistung zu verbessern.

Luft- und Raumfahrt: In der Luft- und Raumfahrt können Tantalkarbid-Targets verwendet werden, um Hochtemperatur-Strukturmaterialien und verschleißfeste Beschichtungen herzustellen, wie z. B. Turbinenschaufeln von Düsentriebwerken und Raketendüsenbeschichtungen usw., die ihre Verbrennungsschutzleistung verbessern und ihre Lebensdauer verlängern können.

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QUALITÄTSSICHERUNG

Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.

Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.

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