Tantalkarbidpulver ist ein wichtiger metallkeramischer Werkstoff.
Grundlegende Eigenschaften:
Chemische Formel: Die chemische Formel lautet TaC, bestehend aus zwei Elementen, Tantal (Ta) und Kohlenstoff (C).
Aussehen: In der Regel hellbraunes, dunkelbraunes oder schwarzes metallartiges Pulver.
Kristallstruktur: gehört zum kubischen Kristallsystem vom Natriumchlorid-Typ mit einer stabilen Kristallstruktur, die einzigartige physikalische und chemische Eigenschaften mit sich bringt.
Hoher Schmelzpunkt und Siedepunkt: Der Schmelzpunkt beträgt bis zu 3880 °C, der Siedepunkt liegt bei 4780 °C.
Hohe Dichte: 13,9 g/ml.
Gute elektrische Leitfähigkeit: 30 Ω Widerstand bei Raumtemperatur, gute elektrische Leitfähigkeit.
Zubereitungsmethode:
Tantaloxid-Karbonisierungsverfahren: Tantalpentoxid und Ruß werden als Rohstoffe verwendet, die beiden werden vollständig gemischt und in den Reduktionsofen gegeben, und dann in Wasserstoff oder Vakuum bei 1500 °C für einen bestimmten Zeitraum erhitzt, das Tantalkarbidpulver kann hergestellt werden.
Anwendungsbereich:
Luft- und Raumfahrt: Tantalkarbid kann zur Herstellung von Hochtemperatur-Strukturmaterialien und verschleißfesten Beschichtungen verwendet werden, wie z. B. Turbinenschaufeln von Düsentriebwerken und Beschichtungen von Raketendüsen, die ihre Ablationsbeständigkeit verbessern und ihre Lebensdauer verlängern können.
Elektronisches Feld: Tantalkarbid Aufgrund seiner guten Leitfähigkeit und Stabilität kann es als Elektrodenmaterial verwendet werden, um die Stabilität und Zuverlässigkeit elektronischer Geräte zu verbessern.
Keramikfeld: Wird bei der Herstellung von Feinkeramik verwendet und kann die Leistung von Keramik verbessern, z. B. die Härte und Hochtemperaturbeständigkeit von Keramik verbessern.
Chemische Gasphasenabscheidung (CVD): wird als Rohstoff für CVD zur Herstellung hochwertiger Filme und Beschichtungen verwendet.
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