| Produkt-ID | Formel | Purity | Dimension | Quantity | Preis in € | Anfrage |
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| 140800GN001 | SiO | 99.9% | 3 mm - 6 mm | 250g | 152.00 | Inquire |
| 140800GN002 | SiO | 99.9% | 0.2 mm - 0.5 mm | 250g | POR | Inquire |
| 140800GN003 | SiO | 99.9% | 4 mm - 8 mm | 250g | POR | Inquire |
| 140800GN004 | SiO | 99.99% | 3 mm - 8 mm | 200g | 380.00 | Inquire |
Siliziummonoxid (SiO) ist eine anorganische Verbindung mit der chemischen Formel SiO. Es ist eine Verbindung, die aus Silizium- und Sauerstoffelementen mit einem Molekulargewicht von 60,0845 besteht. SiO ist ein braunes festes Pulver mit einem hohen Schmelzpunkt und Siedepunkt. Es ist eine relativ stabile Verbindung, kann aber bei hohen Temperaturen mit bestimmten Substanzen reagieren.
Aussehen: schwarzbraunes bis lösses amorphes Pulver Schmelzpunkt: 1702°C Siedepunkt: 1880°C Dichte: 2,13g/cm
Unlöslich in Wasser. Es kann in einer Mischsäure aus verdünnter Flusssäure und Salpetersäure gelöst werden und Siliziumtetrafluorid freisetzen und beim Erhitzen an der Luft weißes Siliziumdioxidpulver erzeugen.
1. Halbleitermaterialien: Da Siliziummonoxid eine hohe Reinheit und hervorragende physikalische Eigenschaften aufweist, ist es ein wichtiger Rohstoff für die Herstellung von Halbleitermaterialien. Durch die Dotierung mit anderen Elementen können die leitfähigen Eigenschaften von SiO an die Anforderungen verschiedener elektronischer Geräte angepasst werden. 2. Optische Materialien: Siliziummonoxid hat eine hohe Transparenz und gute optische Eigenschaften, daher wird es häufig als Material zur Herstellung von optischen Linsen, Prismen und anderen optischen Komponenten verwendet. 3. Keramische Werkstoffe: SiO ist auch ein wichtiger Bestandteil für die Aufbereitung von Hochleistungskeramiken. Diese keramischen Werkstoffe haben hervorragende Eigenschaften wie hohe Temperaturbeständigkeit und Korrosionsbeständigkeit und werden häufig in der Luft- und Raumfahrt, im Automobilbau und in anderen Bereichen eingesetzt.
Derzeit gibt es zwei Hauptmethoden zur Herstellung von SiO: die chemische Gasphasenabscheidung und die Sol-Gel-Methode. 1. Chemisches Gasphasenabscheidungsverfahren: Bei einer bestimmten Temperatur und einem bestimmten Druck werden Siliziumquelle und Sauerstoffquelle durch chemische Reaktion in Siliziummonoxid umgewandelt und auf dem Substrat abgeschieden. Mit diesem Verfahren können hochreine und qualitativ hochwertige Siliziummonoxidfilme hergestellt werden. 2. Sol-Gel-Methode: Durch Auflösen der Siliziumquelle in einem Lösungsmittel zu einem Sol und anschließende Schritte wie Gelierung, Trocknung und Wärmebehandlung wird schließlich Siliziummonoxidpulver oder Schüttgut erhalten. Dieses Verfahren ist einfach im Verfahren, kostengünstig und für die Großproduktion geeignet.
Siliziummonoxid ist ein typisches Isoliermaterial und hat nicht die Leitfähigkeit von Halbleitermaterialien. Obwohl Siliziummonoxid in der Elektronik weit verbreitet ist, um Isolier- und Isolationsschichten in integrierten Schaltkreisen herzustellen, ist es selbst kein Halbleitermaterial.
Die VI HALBLEITERMATERIAL GmbH (VIMATERIAL) wendet ein strenges Qualitätssicherungssystem an, um die Zuverlässigkeit unserer Produktqualität zu gewährleisten. In der gesamten Produktionskette werden strenge Qualitätskontrollen durchgeführt, und bei fehlerhaften Produkten setzen wir das Prinzip der Nachbesserung streng durch. Jede Charge wird erst dann freigegeben, wenn sie detaillierte Spezifikationstests bestanden hat.
Jede Charge unserer Materialien wird von unabhängiger Seite getestet, und falls erforderlich, senden wir Proben an zertifizierte Unternehmen zur Prüfung. Wir liefern diese Dokumente und Analysezertifikate zusammen mit der Lieferung, um zu bestätigen, dass unsere Produkte die erforderlichen Standards erfüllen.
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